книги из ГПНТБ / Соммер А. Фото-эмиссионные материалы
.pdfвремя такое же отклонение от стехиометрии в полупро зрачном катоде толщиной в несколько сотен ангстрем (это эквивалентно нескольким десяткам атомных слоев)
вызывает значительное «химическое» |
отклонение от |
стехиометрии, составляющее несколько |
процентов. |
Как отмечалась, химические методы, |
используемые |
в прошлом, были недостаточно точны для того, чтобы до казать или опровергнуть существование избытка Sb в Cs3Sb фотокатоде, обладающем максимальной чувст
вительностью. Используя |
более, совершенную технику, |
Симой [Л. 75] доказал |
существование отклонения от |
отношения 3:1 для полупрозрачного фотокатода, соот |
ветствующее избытку сурьмы примерно в один моно слой. Его эксперимент проводился следующим образом. Сурьма напылялась на вибрирующую пластинку из кри
сталлического кварца, |
так что вес пленки можно было |
|||
точно |
определить по |
изменению частоты |
колебаний |
|
кварцевого вибратора |
[Л. 76]. Количество |
Cs, |
требуемое |
|
для активации, определялось методом |
'Молекулярного |
|||
пучка |
(см., например, |
[Л. 77]), в котором |
Cs |
испарялся |
на пленку Sb через маленькое отверстие из резервуара,
поддерживаемого |
при |
постоянной |
температуре. |
Если |
|||
точно известны давление паров |
Cs |
в зависимости от ; |
|||||
температуры, диаметр |
отверстия |
и расстояние |
от отвер |
||||
стия до пленки, можно вычислить |
скорость |
поступления |
|||||
Cs на подложку в зависимости |
от |
температуры |
резер |
||||
вуара. |
|
|
|
|
|
|
|
Таким образом, |
может быть |
измерено |
чрезвычайно |
||||
малое количество |
Cs, |
поскольку |
практически |
несложно |
отрегулировать скорость испарения таким образом, что- ,
бы для нанесения монослоя требовалось время |
порядка |
і |
||||||
10 мин или более. |
|
|
|
|
|
|
||
|
Благодаря |
своим |
фотоэлектрическим |
свойствам |
|
|||
СззЭЬ является наиболее интересным и наиболее |
под- |
|
||||||
дробно изученным соединением цезия и сурьмы. Можно |
|
|||||||
'считать установленным |
[Л. 72, 78], что CseSb |
является |
; |
|||||
соединением |
с максимально |
возможным |
отношением |
|
||||
Cs и Sb. Известно, что при обработке парами |
цезия во |
|
||||||
время изготовления Cs3Sb фотокатода сначала |
образу |
|
||||||
ются соединения с меньшим отношением Cs:Sb. Наибо |
|
|||||||
лее |
изученным из них является соединение |
CsSb, |
кото |
|
||||
рое |
обладает |
резко отличными |
электрическим |
и оптиче |
|
скими свойствами. В результате систематических иссле- |
дований соединений AiB5 Дорн и Клемм [Л. 79] доказа- !
і
і
ли существование следующих семи соединений: Cs3Sb, Cs5Sb2, Cs2Sb, Cs5Sb4, CsSb, CsSb2 и Cs3Sb7.
Точно не известно, какие из этих соединений, кроме CsSb, образуются в процессе изготовления Cs3Sb, так как литературные данные по этому вопросу весьма про тиворечивы. Это неудивительно, поскольку образование промежуточных соединений сильно зависит от таких па раметров, как толщина пленки сурьмы и температура процесса, которая определяет скорость диффузии Cs и скорость реакции.
4-3. ТОЛЩИНА И ПЛОТНОСТЬ ФОТОКАТОДА
Как уже отмечалось, полупрозрачный CssSb фотока тод обычно изготовляют обработкой пленок сурьмы тол-
о |
реакции |
объем |
материала |
щииой 45—60 А. Во время |
|||
увеличивается, поскольку |
конечный |
продукт |
содержит |
в 4 раза больше атомов, чем начальная пленка сурьмы. Кроме того, плотность Cs3Sb, определенная из исследо ваний кристаллической структуры {Л. 80], составляет всего 4,5 по сравнению с 6,7 для массивной сурьмы. В ре зультате оказывается, что объем Cs3Sb примерно в 5,9 раза превышает объем начальной пленки сурьмы. Во-вре- мя образования Cs3Sb пленка сурьмы может расширять ся только в одном направлении: перпендикулярно под ложке. Поэтому толщина конечного слоя Cs3Sb должна
быть в 5,9 раза больше, чем толщина |
начальной пленки |
сурьмы, т. е. иметь величину порядка |
о |
260—350 А. |
• Используя оптические методы, Кунце [Л. 81], а также Хагино и Такахаси {Л. 74] измерили коэффициент раз бухания пленки. Они получили соответственно 5,65 и около 7. Различие этих результатов, так же как расхож дение с вычисленной величиной, определяется прежде всего экспериментальными трудностями. Кроме того, из мерения проводились на пленках Sb и Cs3Sb, в то время как постоянные решетки были измерены на материале, приготовленном в виде порошка. Как уже отмечалось, плотность массивного материала может сильно отли чаться от плотности пленок.
Оба автора получили удивительный результат, за ключающийся в том, что переход от Sb к CsSb сопро вождается разбуханием слоя всего в 1,5 раза. Это долж но означать, что CsSb обладает плотностью, большей, чем плотность Sb, несмотря на большой атомный ра диус Cs.
4-4. КРИСТАЛЛИЧЕСКАЯ СТРУКТУРА
Кристаллическая структура Cs3Sb до сих пор иссле дована только на поликристаллическом материале. Из готовление монокристаллов представляет громадные технологические трудности, связанные с высокой точкой плавления, низкой температурой разложения и химиче ской нестабильностью соединения. Ниже приводится краткий обзор работ по определению кристаллической структуры; для получения более подробной информации следует обраться к оригинальным работам.
Первое подробное исследование структуры Cs3Sb ме тодом дифракции рентгеновских лучей было проведено Джеком и Уохтелом [Л. 80]. Они изготовили исследуе мый материал нагреванием порошка Sb в парах Cs до окончания реакции и получили структуру кубической
о
симметрии (D0 3 ) с постоянной решетки 9,15 А, что соот ветствует плотности 4,5. Практически такая же структу ра была найдена Гнуцманом и др. '[Л. 82], а также Широм и Зальмом [Л. 83], которые приготовляли материал аналогичным образом. Различие результатов, получен ных разными авторами, касается степени упорядочен ности кристаллической структуры. Возможно, что это связано с незначительным различием в технологии при готовления материалов, в частности, с размером кри сталлов сурьмы, температурой, длительностью прогрева.
Все эти результаты были получены на материалах, изготовленных в виде порошков, в условиях, существен но отличающихся от условий приготовления Cs3Sb фото катодов. Маккерол {Л. 78] разработал методику, в кото рой методом дифракции рентгеновских лучей могли иссле доваться пленочные фотокатоды. Эта методика состоя ла в изготовлении фотокатода обычным способом на стеклянной подложке и в соскабливании готового мате риала со стекла лезвием бритвы, которое управлялось снаружи вакуумной системы. Полученный таким обра з-ом мельчайший порошок собирался в тонкостенный ка пилляр, который отпаивался от вакуумной системы и исследовался в рентгеновской камере. В результате этого эксперимента было доказано, что фоточувствитель ный материал обладает структурой, тождественной структуре ранее изученных образцов.
Дальнейшее усовершенствование методики •исследо вания структуры фотокатода было достигнуто Макке-
42
ролом и Симоном [Л. 84]. Они сконструировали камеру для изучения дифракции электронов, которая позволяла не только исследовать материал фотокатода непосред ственно, т. е. без механического удаления слоя, но и на блюдать изменения структуры в процессе образования фотокатода.
4-5. ПАРЦИАЛЬНОЕ ДАВЛЕНИЕ ПАРОВ ЦЕЗИЯ
Измерения давления паров Cs над Cs3Sb представ ляют интерес прежде всего с практической точки зрения, поскольку чрезмерное давление паров цезия при ком натной температуре может вызвать утомление фотокато да, а также привести к появлению других эффектов не стабильности при работе фотоэлементов.
Камский и Джерик [Л. 85] и Мияке [Л. 86] измерили
давление Cs над Cs3Sb методом Тейлора и |
Ленгмюра |
[Л. 42]. Этот метод основан на поверхностной |
ионизации |
атомов цезия на раскаленной вольфрамовой нити; при
этом количество атомов цезия может |
быть |
определено |
по величине ионного тока. При очень |
малых |
давлениях |
пара экспериментальные ошибки при измерении ионного тока могут оказаться весьма большими. Поэтому суще ственное расхождение в результатах этих двух работ не
представляется |
удивительным. |
Согласно |
Канскому и |
||
Джерику давление Cs при комнатной |
температуре |
рав |
|||
но 10- 1 4 мм рт. ст., в то время |
как Мияке получил |
вели |
|||
чину, близкую |
к Ю - 1 0 мм рт. ст. Таким образом, можно |
||||
сделать вывод, что величина давления |
Cs над Cs3Sb при |
||||
комнатной температуре в настоящее |
время |
неизвестна. |
4-6. ФОТОЭМИССИОННЫЕ СВОЙСТВА
Для Cs3Sb, как и для других фотокатодов, невозмож но установить одну спектральную характеристику фото чувствительности, поскольку максимум квантового выхо да и длинноволновая граница фотоэмиссии значительно меняются от образца к образцу. Однако общая форма кривой сохраняется, так что можно определить типич ную спектральную характеристику фотокатода. Харак теристика, представленная на рис. 6, типична для полу прозрачного Cs3Sb фотокатода при освещении его со стороны подложки. В данном случае в качестве подлож ки был использовал кварц, для того чтобы показать чувствительность фотокатода в области энергий фото нов, больших 3 эв.
Спектральные характеристики фотоэлементов зави сят от толщины фоточувствительного слоя, материала подложки и колбы. В качестве примера на рис. 7 приве дена относительная спектральная характеристика фото элемента S-11 (полупро зрачный Cs3Sb фотокатод, подложка — окись марганца на стекле, материал окна — стекло). Сравнение рис. 6 и 7 позволяет сделать два важных вывода. Во-первых, резкий спад чувствитель ности, наблюдаемый у всех стеклянных фотоэлементов в области длин волн коро-
о
че 3 ООО А, определяется не уменьшением квантового выхода фотокатода, а по глощением ультрафиолето вого излучения в стекле. Во-вторых, медленное по нижение чувствительности в области длин волн короче
о
4 000 А связано с тем, что фототок рассчитан на вели чину падающей мощности, а не на число падающих фо тонов (см. гл. 3).
Влияние температуры на фотоэмиссию из Cs3Sb. При нагревании СэзЭЬ фотокато да выше 80—100 °С в мате риале происходят необрати мые изменения. Поэтому ис
следования влияния температуры на фотоэмиссию про водятся, как правило, в области температур ниже ком натной. Изменение фотоэмиссии при охлаждении Cs3Sb фотокатода мало и не имеет практического значения, но представляет интерес для понимания процесса фото эмиссии. Ниже приводятся основные результаты таких исследований.
Шетти и Баумгартнер [Л. 88] обнаружили падение фоточувствительности при охлаждении СэзЭЬ фотокато-
да до температуры жидкого азота. Миязава |
'[Л. 89] со |
|||||||||||
общил, что при охлаждении |
фотокатода до температуры |
|||||||||||
90 °К |
происходит |
падение |
чувствительности |
вблизи |
||||||||
порога и увеличение чувствительности |
в области |
энергии |
||||||||||
фотонов |
больше |
2,5 |
эв. |
Падение |
чувствительности |
|||||||
в длинноволновой |
области спектра и увеличение в корот |
|||||||||||
коволновой наблюдали |
также |
Бишотен и др |
[Л. 90], |
|||||||||
Нерей [Л. 91] и Буале и |
|
|
|
|
|
|
||||||
Миллер |
(Л. 92]. |
Габуни |
|
|
|
|
|
|
||||
и др. |[Л. 93] подробно ис |
|
|
|
|
|
|
||||||
следовали |
зависимость |
|
|
|
|
|
|
|||||
фоточувствительности |
в |
|
|
|
|
|
|
|||||
припороговой |
области |
от |
|
|
|
|
|
|
||||
температуры. |
Результаты |
|
|
|
|
|
|
|||||
их |
измерений |
приведены |
|
|
|
|
|
|
||||
на рис. 8. На рис. 9 пока |
|
|
|
|
|
|
||||||
зано изменение всей спек |
|
|
|
|
|
|
||||||
тр алыюй |
хаг. актеристики |
|
|
|
|
|
|
|||||
Cs3Sb фотокатода при |
|
|
|
|
|
|
||||||
охлаждении до температу |
|
|
|
|
|
|
||||||
ры 90 °К (по данным Спай- |
|
|
|
|
|
|
||||||
сера и Бутена [Л. 94]). |
|
|
|
|
|
|
||||||
|
Большинство |
авторов |
|
|
|
|
|
|
||||
[Л. 89, 93, 94] считает, что |
|
|
|
|
|
|
||||||
увеличение |
чувствитель |
|
|
|
|
|
|
|||||
ности |
в |
коротковолновой |
|
|
|
|
|
|
||||
области |
|
обусловлено |
|
|
|
|
|
|
||||
уменьшением |
энергетиче |
|
|
|
|
|
|
|||||
ских |
потерь фотоэлектро |
Рис. |
8. Спектральные |
характери |
||||||||
нов при |
взаимодействии |
стики |
фоточувствительностн |
СБЗБЬ |
||||||||
с |
колебаниями решетки. |
фотокатода |
вблизи |
порога |
при |
|||||||
различных |
температурах (Л. 93]. |
|||||||||||
Уменьшение потерь приво |
|
|
|
|
|
|
||||||
дит к увеличению |
вероят |
|
|
|
|
|
|
|||||
ности выхода |
фотоэлектронов. Уменьшение чувствитель |
ности в припороговой области при охлаждении фотокатода может быть вызвано несколькими причинами. Исходя из того, что Cs3Sb — полупроводник р-типа, Спайсер и Вутен [Л. 94] предположили, что источником фотоэлектро нов при освещении катода в припороговой области спектра служат заполненные акцепторные уровни. В та ком случае уменьшение чувствительности в этой обла сти спектра при охлаждении фотокатода естественно связать с уменьшением заполнения электронами примес ных уровней. Другими причинами уменьшения чувстви-
телыюсти в припороговой области при охлаждении мо гут быть увеличение ширины запрещенной зоны и небла гоприятное изменение изгиба зон у поверхности.
При охлаждении фотокатода до температуры 90 °К, кроме уже описанного плавного изменения всей спект ральной характеристики, возникает небольшой максимум при энергии фотона около 2,25 эв. Этот максимум наблюдали Миязава [Л. 89], Борзяк [Л. 95] и Тафт и Филипп [Л. 96]. Последние согласны с предположением
6000 5000 WOO
Рнс. 9. Влияние охлаждения на спектральную характеристику квантового выхода Cs3Sb фотока тода [Л. 94].
Борзяка о том, что этот
Амаксимум связан с воз буждением экситонов.
Влияние поверхностно го окисления. Как уже отмечалось, поверхност ное окисление увеличива ет чувствительность Cs3Sb фотокатода. Этот
эффект впервые |
был опи |
||
сан Герлнхом |
(Л. |
69] |
|
в его первой |
работе |
по |
|
исследованию |
|
сурьмяно- |
|
цезиевого |
фотокатода. |
Соммер [Л. 72] качествен-
но (с помощью фильтров) исследовал влияние оки сления на спектральную характеристику фотока тода и обнаружил, что
впервый момент окисление вызывает увеличение
чувствительности |
во всей видимой области спектра. |
При продолжении |
окисления происходит дальнейшее |
увеличение чувствительности фотокатода в длин новолновой области, но в коротковолновой области чувствительность начинает уменьшаться. Наконец, насту пает момент, когда при продолжении окисления чувстви тельность фотокатода падает во всей области спектра. Соммер заметил также, что изменение спектральной характеристики фотоэмиссии сопровождается уменьше нием термоэлектронной работы выхода. Изменение спектральной характеристики CssSb фотокатода при окислении до получения максимальной чувствительности подробно было изучено Кунцем [Л. 81]. Результаты его исследований приведены на рис. 10.
Изменение чувствительности фотокатода при окисле нии, по-видимому, вызвано двумя причинами. Во-первых, окисление уменьшает высоту поверхностного барьера, что приводит к увеличению чувствительности во всей области спектра, продвижению чувствительности в более длинноволновую область и к уменьшению термоэлек тронной работы выхода. Во-вторых, окисление изменяет химический состав фотокатода, в результате чего число фотоэлектронов, возбуждаемых в фотокатоде, уменьша ется. В начале процесса окисления первый эффект с из бытком компенсирует второй, и поэтому чувствительность увели чивается во всей области спектра.
При продолжении окисления вто рой эффект начинает преобла дать, однако уменьшение чувстви тельности наступает раньше для коротковолнового света, возбуж дающего более быстрые электро ны, так как для них уменьшение поверхностного барьера сказыва ется слабее.
В настоящее время можно счи тать установленным, что окисле ние фотокатода до получения ма ксимальной чувствительности воз действует только на его поверх ность. Экспериментальные дока зательства этого факта были по лучены Дятловицкой [Л. 97], ко
торая показала, что оптические свойства фотокатода не изменяются при окислении, а также Блумером и Коксом [Л. 98]. Последние на основании количественных изме рений показали, что для получения максимальной чув ствительности требуется примерно один монослой ки слорода.
Влияние подложки на фотоэмиссию. Химические свой
ства П О Д Л О Ж К И М О Г У Т В Л И Я Т Ь На ф о Т О Э М И С С И Ю И З CS3SD
фотокатода. Следует иметь в виду, что влияние подлож ки может оказаться довольно сложным, поэтому неуди вительно, что некоторые экспериментальные факты до сих пор не удается объяснить. Ниже кратко описаны ос новные экспериментальные факты о влиянии подложки на фотоэмиссию.
В фотоэлементах, |
предназначенных |
для |
освещения |
со стороны вакуума, |
Cs3Sb фотокатод |
часто |
наносится |
на металлический электрод, изготовленный из металла, обычно используемого в вакуумных приборах, например никеля. Пленка сурьмы обычно наносится на этот элек трод до монтажа в вакуумном приборе и, следователь но, до обезгаживания прибора путем прогрева. Было выяснено, что для получения таким способом фотокато дов с нормальной чувствительностью необходимо, чтобы толщина пленки сурьмы была много больше, чем требу ется для поглощения падающего света. Причина этого состоит в том, что сурьма легко образует сплавы с дру гими металлами. В результате после обезгаживания прибора поверхность пленки, которая должна обраба тываться в парах цезия, может состоять не из чистой сурьмы, а из ее сплава с материалом подложки. Важно, чтобы толщина пленки сурьмы и режим обезгаживания прибора были выбраны таким образом, чтобы фронт диффузии материала подложки не достигал приповерх ностной области толщиной порядка глубины выхода фо тоэлектронов.
В фотоэлементах, используемых для тылового осве щения, из-за высокого сопротивления Cs3Sb иногда при ходится использовать подложку с хорошей электропро водностью. При этом подложка должна быть прозрачной для видимого света. В качестве такой подложки часто используют пленки двуокиси олова, поскольку они обла дают более высокой прозрачностью по сравнению с ме таллами при одинаковой электропроводности. Приготов ление пленок двуокиси олова описано в ряде работ, например в {Л. 99]. Следует отметить, что изготовление Cs3Sb на подложке из двуокиси олова требует большой осторожности, так как пары Cs реагируют с двуокисью олова, образуя темный материал и уменьшая прозрач ность подложки. Для того чтобы предотвратить эту реакцию, необходимо не допускать избытка Cs в прибо ре, т. е. количество Cs, вводимое в прибор, не должно превышать количества, необходимого для перехода Sb в Cs3Sb.
Очень тонкие металлические пленки в качестве полу прозрачных проводящих подложек для фотокатодов исследованы недостаточно подробно. Однако если плен ки наносятся после процеса обезгаживания, так что воз можность образования вышеупомянутых сплавов исклю-
чается, они, по-видимому, не оказывают существенного влияния на свойства Cs3Sb и ие мешают процессу изго товления фотокатода. Поэтому подложки из испаренных металлических пленок, таких, как хром или вольфрам, часто оказываются предпочтительнее, чем пленки дву окиси олова, хотя они поглощают 10—20% света при такой же проводимости.
Особый интерес представляет влияние на фотоэмис сию подложки из окиси марганца. При использовании этой подложки получаются фотокатоды, обладающие более высоким квантовым выходом по сравнению с обыч ными Cs3Sb фотокатодами. К тому же их чувствитель ность простирается в более длинноволновую область
спектра. Можно сказать, |
что влияние подложки из оки |
си марганца на свойства |
Cs3Sb фотокатода качественно |
подобно влиянию поверхностного окисления. Поэтому вначале казалось естественным предположить, что окись марганца служит хорошо контролируемым источником для ввода кислорода в Cs3Sb. Однако последующие ис следования показали ошибочность такой интерпретации. Было показано, что кислород, входящий в состав МпО, не реагирует с Cs (Л. 100], т. е. окись марганца не может служить поставщиком кислорода.
С другой стороны, независимо от толщины подложки из окиси марганца и, следовательно, количества кисло рода чувствительность фотокатода увеличивалась при последующем поверхностном окислении. К тому же ока
залось, что окиси других |
металлов, например железа |
или никеля, не оказывают |
аналогичного влияния на |
свойства Cs3Sb фотокатода. Возможная интерпретация этого явления была предложена Вутеном [Л. 101], ко торый предположил, что в фотокатоде на границе с МпО возникает изгиб энергетических зон, благоприятный для фотоэмиссии.
Энергия эмиттированных фотоэлектронов. Первые из мерения энергии эмиттированных фотоэлектронов отно сились к определению максимальной энергии электрона при данной длине волны и были важны для установле ния справедливости закона Эйнштейна. Целью дальней ших исследований явилось получение информации о де талях эмиссионного процесса из измерений распределе ния электронов по энергиям при данной длине волны.
Измерение энергии электронов представляет значи тельные практические трудности, которые здесь не бу-