Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Соммер А. Фото-эмиссионные материалы

.pdf
Скачиваний:
8
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
8.14 Mб
Скачать

6-і. СРАВНЕНИЕ СВОЙСТВ АНТИМОНИДОВ ЩЕЛОЧНЫХ

МЕТАЛЛОВ

Для облегчения сравнения рассмотренных фотокато­ дов наиболее важные свойства этих материалов приве­ дены в табл. 4. При использовании этой таблицы сле­ дует иметь в виду следующее:

1. Данные, приведенные в таблице, относятся к полу­ прозрачным фотокатодам, освещенным со стороны под­ ложки.

2. Все гексагональные соединения сурьмы кристалли­

зуются

в Na3 As структуре,

а

кубические соединения —

в D 0 3

структуре. Структура

Li3 Sb в виде тонких пленок

не исследовалась.

 

 

 

Т а б л и ц а

4

Фотокатод

Li3 Sb

Na3 Sb

K3 Sb

K3 Sb

Rb,Sb

Cs3Sb

Cs3Sb на MnO Na2 KSb (Cs)Na2KSb

K2CsSb

K2 CsSb(0)

Фотокатод

Li3 Sb

Na3 Sb

K,Sb

K3 Sb

Rb3 Sb

Cs3Sb

Cs3Sb на MnO

Na2 KSb

(Cs) Nas KSb

K2CsSb

K»CsSb(0)

Кристаллическая

Максимум

Хо, А, 1 %

Чувстви­

 

структура

квантового

от макси­

тельность,

 

 

выхода

мума

мка/лм

Гексагональная

 

 

 

To

же

0,02

3 300

Кубическая

>0,0 7

5 500

12

Гексагональная

0,07

4 600

2

Кубическая

0,10

5 800

25

То

же

0,15

5 800

25

И

V

0,20

6 500

80

V

Ш

0,30

6 000

60

Я

»

0,30

8 700

300

 

 

0,30

6 600

100

и

я

0,35

7 800

130

 

Продолженис

табл. 4

 

 

 

 

 

 

Термоэлект­

 

Ea

Порог ге­

Tim прово­

ронная эмиссия

 

нерации

при комнатной

 

димости

 

 

пар, эв

 

температуре, :

 

 

 

 

аісм'

1,0

-v-2,44

n

1,1

11

1,4

0,9

—.

P

1,1

~ 1 , 6

< 3 , 7

11

1,0

1,2

3,0

P

1,6

0,45

2,0

P

< і о - 1 6

1,6

<0,4 5

P

< 1 0 - 1 5

1,0

1,0

3,0

P

< ю - 1 6

1,0

0,55

3,0

P

< 1 0 - 1 6

1,0

' 1,1

P

< ю - "

1,0

< 1 , 1

P

> ю - 1 0

3.Квантовый выход фотокатодов каждого типа ме­ няется от образца к образцу примерно в 2 раза. Значе­ ния квантового выхода, приведенные в таблице, относят­ ся к лучшим образцам.

4.Квантовый выход фотоэмиссии вблизи длинновол­ новой границы меняется от образца к образцу значи­ тельно сильнее, чем в области высокой чувствительности. Поэтому величины Ко следует рассматривать лишь как наиболее вероятные значения длинноволнового порога фотоэмиссии. Величина «1 % от максимума» выбрана со­ вершенно произвольно. Как уже отмечалось, абсолютное значение порога фотоэмиссии установить трудно, по­

скольку спектральная характеристика

приближается

к оси абсцисс асимптотически. Однако для

большинства

практических применений выбранный предел ( 1 % от максимума) представляется полезным.

5.Интегральная чувствительность фотокатодов (вы­ раженная в мка/лм), так же как и квантовый выход, ме­ няется от образца к образцу примерно в 2 раза. В таб­ лице приведены значения для лучших образцов.

6.Ширина запрещенной зоны Eg определялась из из­

мерений

фотопроводимости и оптического

поглощения.

7. Все значения электронного сродства получены вы­

читанием

Eg из е~\-Еа)—энергии,

соответствующей

порогу фотоэмиссии. Поскольку прямые

измерения Еа

невозможны, приведенные значения следует рассматри­

вать как приблизительные не

только

вследствие

неоп­

ределенности величины (Eg-\-Ea),

но

также из-за

того,

что эффект изгиба зон вблизи поверхности при этом иг­ норируется. Другими словами, величина Еа реально представляет «эффективное» электронное сродство.

8. Значения порога генерации пар были получены Спайсером [Л. 105] из измерений распределения элек­ тронов по скоростям.

Г л а в а с е д ь м а я СЕРЕБРЯНО-КИСЛОРОДНО-ЦЕЗИЕВЫЙ Ф О Т О К А Т О Д

7-1. ВВЕДЕНИЕ

Среди фотоэмиссионных материалов, обладающих чувствительностью в видимой области спектра, серебря- но-кислородно-цезиевый фотокатод занимает особое по­ ложение. Этот катод был первым и в течение нескольких

лет единственным фотокатодом, пригодным для прак­ тического применения. До настоящего времени это единственный фотокатод, обладающий заметном чувст­

вительностью в

ближней

инфракрасной области спект­

ра 1 . Химический

состав

и микроскопическая

структура

серебряно-кислородно-цезиевого фотокатода

до сих пор

окончательно не установлены, вследствие чего метод при­ готовления этого материала в значительной степени остается эмпирическим, и мы понимаем далеко не пол­ ностью значение отдельных этапов процесса изготовле­ ния.

7-2. ИЗГОТОВЛЕНИЕ Ag-0-Cs ФОТОКАТОДА

Эмпирически было разработано много различных ме­ тодов изготовления Ag-0-Cs фотокатода, однако во всех случаях присутствуют три основных этапа процесса: на­ несение основного слоя серебра, окисление этого слоя (частичное или полное) и обработка окиси серебра в па­ рах цезия. Дополнительными процессами могут быть испарение тонкой серебряной пленки после окисления основного слоя, до или после обработки окисла цезием, и поверхностное окисление катода.

Рассмотрим подробно три основных этапа изготовле­ ния фотокатода.

1. Основной слой серебра. Для непрозрачных фотока­ тодов, т. е. фотокатодов, которые освещаются со стороны вакуума, разработаны четыре метода получения основ­ ного слоя серебра:

а) Непрозрачный слой Ag может быть нанесен на стекло химическим методом, который обычно исполь­ зуется при изготовлении сосудов Дыоара. Этот метод состоит в восстановлении металлического серебра из рас­ твора азотнокислого серебра с помощью органического восстановителя [Л. 165]. Серебро прочно прилипает к стеклу, образуя зеркальную поверхность. Однако при изготовлении фотокатода обычно используют матовую стеклянную поверхность, и серебряная пленка имеет бе­ лесоватый оттенок.

б) Для изготовления фотокатода можно использовать очищенную пластинку чистого серебра. Пластинку обыч-

1 В самое последнее время появились новые фотокатоды на основе тройных соединений InPAs, GalnAs, обладающие более высо­ кой чувствительностью в ИК области спектра [Л. 253*]. (Прим. перев.)

ио травят в разбавленной азотной кислоте для дополни­ тельной очистки, а также для создания матовой поверх­ ности. Считается, что это приводит к увеличению фотоэмиссии готового фотокатода.

в) Серебряная пластинка может быть заменена дру­ гим металлом, например никелем, электролитически по­ крытым серебром.

г) Толстая серебряная пленка может быть также на­ несена испарением серебра.

Кажется удивительным, что свойства основного се­ ребряного слоя практически не влияют на фотоэмисси­ онные свойства готового фотокатода. В связи с этим сле­ дует отметить работу Хёне и Заггау (Л. 166]. Эти авторы использовали монокристаллы серебра и не обнаружили никакого влияния кристаллической плоскости па эмис­ сионные свойства фотокатода. Критическими стадиями: активационного процесса, по крайней мере для непро­ зрачных фотокатодов, являются не нанесение основного слоя Ag, а окисление серебра и обработка его цезием.

Основной слой серебра для полупрозрачных фотока­ тодов получают испарением в вакууме. Изготовление тонких серебряных пленок представляет собой довольно сложную проблему. Оптимальная толщина этих пленок

о

лежит в области от 100 до 200 А. Для большинства ме­ таллов воспроизводимые результаты при нанесении пле­ нок такой толщины могут быть получены путем контроля толщины пленки по пропусканию света. Соотношение между толщиной пленки и оптическим пропусканием устанавливается экспериментально. В случае серебра не существует надежного соотношения между этими вели­ чинами, поскольку тонкие серебряные пленки образуют не сплошные, а дисперсные слои, т. е. состоят из отдель­ ных частиц. Процесс образования частиц серебра сильно зависит от условий его испарения. В результате этого оптические свойства пленок также сильно различаются, при различных условиях испарения Ag. К настоящему времени опубликовано большое число эксперименталь­ ных исследований свойств тонких серебряных пленок.

Сеннет и Скотт [Л. 167] провели подробное исследо­ вание влияния температуры подложки и скорости испа­ рения Ag на оптические свойства тонких пленок и раз­ меры частиц. Фауст (Л. 168] показал, что зависимость оптического пропускания диспергированных пленок от толщины пленки имеет сложный характер. Как видно из

Рис. 35. Зависимость оптиче­ ского пропускания тонких се­ ребряных пленок от их тол­ щины для двух длин волн (Л. 168].
200 %Ю 600 Толщина, А

рис. 35 (Фауст [Л. 168]), при использовании монохрома­ тического света зависимость пропускания света от тол­ щины имеет минимум и максимум в определенной обла­ сти толщин пленок. Таким образом, одинаковое пропу­ скание наблюдается при трех различных толщинах плен­ ки. Рисунок 36 иллюстрирует влияние скорости испаре­ ния на оптическое пропускание пленки (по данным Фи­ липа [Л. 169]). Согласно Холланду [Л. 170] угол падения

атомов серебра на подложку во время испарения также заметно влияет на оптиче­ ские свойства пленки. Следу­ ет отметить, что различие значений толщины пленки, соответствующих максиму­ мам и минимумам на кри­ вых, приведенных на рис. 35 и 36, связано, по-видимому, с использованием разных методов определения толщи­ ны. Фауст измерял толщину оптическим методом, а Фи­ лип определял ее по весу испаренного серебра.

Для полупрозрачного Ag-0-Cs фотокатода зависи­ мость размеров частиц и оптических свойств пленки се­

ребра от условий ее испарения приводит к двум важным результатам. Во-первых, пленки воспроизводимой тол­ щины, или, точнее, воспроизводимой поверхностной плот­ ности, могут быть получены с помощью измерения опти­ ческого пропускания только в том случае, если удается сохранить все условия испарения Ag строго постоянны­ ми. По-видимому, важнее всего поддерживать постоян­ ной скорость испарения. Во-вторых, если размеры частиц влияют на фоточувствительность Ag-0-Cs фотокатода, должны существовать оптимальные условия нанесения пленки, которые соответствуют получению частиц с «оп­ тимальными» размерами. Однако до сих пор не извест­ но, существует ли прямая связь между размерами частиц Ag и фотоэмиссионными характеристиками.

На практике серебряный слой для получения полу­ прозрачного Ag-0-Cs фотокатода наносится с такой ско­ ростью испарения, чтобы за 30—60 сек получить плен-

ку,

которая пропускает 50%

падающего

(белого)

света.

 

 

 

 

2.

Окисление

слоя

серебра.

Металлическое

серебро

нельзя окислить

путем

нагрева

в атмосфере кислорода,

поскольку окись серебра термодинамически нестабильна. Окись серебра Ag 2 0 при температуре выше 100°С начи­ нает диссоциировать [Л. 171, 172]. Поэтому, как уже от­

мечалось,

окисление

серебря­

 

ного слоя

и

проводят

другим, ля?! 1 г

удобным

хорошо

контроли­

 

руемым способом, который

за­

 

ключается

в бомбардировке се­

 

ребра положительными ионами

 

кислорода. При окислении тол­

 

стых серебряных пленок, кото­

 

рые используются для изготов­

 

ления непрозрачных

фотокато­

Толщина, А

дов, процесс

сравнительно

не

сложен. Необходимо

окислить

Рис. 36.

Зависимость опти­

только верхнюю часть

серебря­

ческого

 

пропускания

тон­

ного слоя, поэтому пленка мо­

ких серебряных пленок

от

жет

служить отрицательным

их толщины при двух раз­

электродом

для

поддержания

личных

 

скоростях

испаре­

тлеющего

разряда

в

кисло­

 

 

ния

Ag.

 

 

Кривая

/:

500

о

в минуту;

кри­

роде. В качестве

положитель­

А

вая 2:

5

сі

минуту

[Л.

1691.

ного

электрода

можно ис­

А в

 

 

 

 

 

 

 

пользовать анод или любой другой подходящий электрод в приборе. Процесс окисления начинается с наполнения прибора кислородом при давлении около 0,1 мм рт. ст. (Для получения KH^qpoAa обычно используют разложе­ ние при нагревании подходящего соединения, например окиси ртути, хлората калия или марганцовокислого ка­ лия. Источником кислорода может также служить спе­ циальный сосуд со спектрально чистым кислородом.) После этого к электродам прикладывается напряжение от 400 до 800 в для получения тлеющего разряда. Вели­ чина напряжения зависит от давления кислорода. Вместе с тем величины напряжения и давления, необходимые для получения разряда, зависят от геометрии прибора, однако ни один из этих параметров не является крити­ ческим.

После установления разряда цвет серебряной пленки изменяется в определенной последовательности. Прескотт и Кэлли (Л. 173] наблюдали желтый, красный, си-

мин и зеленовато-желтый цвета. При продолжении окис­ ления цвета повторяются в той же последовательности. Экспериментально было установлено, что для получения окисного слоя оптимальной толщины следует прекра­ щать окисление при появлении первого синего или зеле­ новато-желтого цвета. Обычно полагают, что при окис­ лении в разряде образуется окись серебра Ag20.

Окисление серебряного слоя для получения полупро­ зрачного Ag-0-Cs фотокатода представляет некоторые трудности. Дело в том, что серебряную пленку в этом случае нельзя использовать в качестве отрицательного электрода, поскольку ее сопротивление слишком велико с самого начала и увеличивается по мере окисления. По­ этому окисление тонкой серебряной пленки проводят в высокочастотном разряде. Один электрод генератора высокой частоты располагают снаружи прибора, вблизи серебряной пленки, а другим электродом служит коллек­ тор или любой другой электрод внутри прибора. По­ скольку окись серебра Ag20 практически прозрачна для видимого света, за ходом окисления можно следить по увеличению пропускания света серебряной пленкой. Окисление обычно прекращают после того, как пропу­

скание света

достигает 100% первоначальной величины

(до испарения

серебра).

Следует отметить различие между процессами окис­ ления полупрозрачного и массивного фотокатодов. Вопервых, во время окисления тонкой серебряной пленки не удается наблюдать изменения ее цвета, так что нельзя сказать, одинаковы ли толщины окисной пленки в этом случае и при окислении толстого слоя серебра. Во-вто­ рых, поскольку тонкая пленка окисляется в высокоча­ стотном разряде, она бомбардируется как положитель­ ными, так и отрицательными ионами кислорода, в то время как массивный серебряный слой, служащий отри­ цательным электродом в разряде постоянного тока, мо­ жет бомбардироваться только положительными ионами. Однако эти особенности процессов окисления практиче­ ски не влияют на конечную чувствительность фотокато­ дов и поэтому подробно не изучались.

3. Обработка цезием. Процесс обработки цезием при изготовлении Ag-0-Cs фотокатода обладает одной осо­ бенностью, которая отличает его от аналогичного процес­ са при изготовлении антимонидов щелочных металлов. При изготовлении антимонидов. избыток, щелочного ме,-

галла может быть удален прогревом или компенсирован добавлением сурьмы. В отличие от этого избыток Cs в Ag-0-Cs фотокатоде вызывает необратимые изменения его свойств. Поэтому процесс обработки цезием в этом случае является значительно более критичным и требует большой осторожности.

Для активации непрозрачных фотокатодов разрабо­ тано несколько методов. Наиболее удачными, по-види­ мому, являются следующие:

а)

Весь

прибор

нагревается до температуры.

150—

200 °С,

в то

время

как катод остается холодным,

т. е.

поддерживается при температуре, близкой к комнатной. Затем Cs осторожно перегоняется на фотокатод до тех пор, пока его цвет не становится темно-коричневым.

Следует отметить, что цвет катода

зависит от типа се­

ребряной подложки и существенно

различается, напри­

мер, для испаренных в вакууме и химически

нанесенных

слоев серебра. Поэтому этот

процесс может

быть изу­

чен только непосредственным

наблюдением.

Поскольку

стенки прибора поддерживаются при высокой темпера­ туре, Cs не может на них конденсироваться и в приборе не образуется избытка щелочного металла. После окон­ чания перегонки Cs весь прибор вместе с фотокатодом нагревается до температуры 150—'200°С до тех пор, пока не установится постоянный фототок. В течение этой ча­ сти процесса возникает большой термоэлектронный ток с катода, быстро достигающий постоянной величины. Аб­ солютная величина термоэлектронного тока зависит не только от свойств данного фотокатода, но, естественно, и от его площади и температуры.

б) Весь прибор, включая фотокатод, нагревается до температуры 150—200°С, после чего в объем осторожно вводится Cs. Процесс контролируется по изменению фо­ тотока и термоэлектронной эмиссии. При увеличении ко­ личества Cs фототок постепенно увеличивается. Термо­ электронная эмиссия появляется значительно позднее, но затем быстро растет. Типичный ход изменения фотоэмис­ сии и термоэмиссии во время обработки цезием приве­ ден на рис. 37. Вблизи максимума фототока термоэлек­ тронная эмиссия достигает острого максимума и затем быстро уменьшается до нуля. В это время фототок па­ дает до некоторого промежуточного значения, после чего медленно меняется со временем. Эмпирически найдено, что лучше всего прекратить введение Cs в момент ис-

7^10

97

чезновеиия термоэмисспн. В дальнейшем прогрев при­ бора продолжается до тех пор, пока фототок не дости­ гнет стабильной величины. В это время термоэмиссия снова возникает и также стабилизируется.

в) Оба предыдущих метода удобны для получения наилучших результатов в отдельных приборах, однако они занимают много времени и требуют значительного опыта и мастерства. При производстве серийных фото­ элементов необходим процесс, который может автомати­

чески предотвращать

опасность введения избытка

Cs.

Это требование может

быть обеспечено одним из

двух

методов. В первом методе эмпирически подбирается ко­

личество

материала

в источнике

цезия

таким образом,

чтобы он

содержал

количество

Cs, необходимое

для

оптимальной обработки катода

данной

площади.

Весь

Cs освобождается сразу, до или во время прогрева при­

бора. В другом методе в

прибор

вводится

геттер

цезия,

т. е. материал, который

связывает

нежелательный

избы­

 

 

 

 

 

 

 

ток

Cs. В качестве

геттера

 

 

 

 

 

 

 

можно

использовать,

свин­

 

 

 

 

 

 

 

цовое

стекло,

которое

энер­

 

 

 

 

 

 

 

гично

реагирует

с

цезием,

 

 

 

 

 

 

 

особенно

при

повышенной

 

 

 

 

 

 

 

температуре.

 

 

 

 

 

 

«-

§

 

 

 

 

 

Изготовление

 

полупро­

О»'

 

 

 

 

 

зрачных

фотокатодов

н

не­

 

 

 

 

 

прозрачных

фотокатодов

с

 

 

 

 

 

испаренным

слоем

 

серебра

^ Si

 

 

 

 

 

отличается

от предыдущих

•fr

. .

0,5'

1,0

1,5

2,0

2,5

 

 

способов тем, что после окис­

 

 

 

Cs:0

 

 

ления обычно проводится до­

Рис. .37. Изменение фотоэмис­

полнительное

испарение

се­

сии (кривая /) и термоэлек­

тронной

эмиссии

(кривая

2)

ребра, которое, по-видимому,

в течение реакции окиси се­

оказывает

 

благоприятный

ребра с

цезием

в

зависимости

эффект

на

 

окончательную

от

отношения

Cs : О [Л.

179].

чувствительность

фотокато­

да. Для непрозрачного фотокатода испарение Ag

продол­

жается до тех пор, пока цвет окиси не изменится до темнопурпурного. В случае полупрозрачного фотокатода испа­ рение прекращается в тот момент, когда пропускание све­ та снова уменьшится до 50% (после окисления пропуска­ ние достигает 100%). Следует отметить, что при повтор­ ном испарении серебра прозрачность пленки уменьшает­ ся на такую же величину, как и при первом испарении.

Однако это не означает, что в обоих случаях наносится одинаковое количество серебра, поскольку оптические свойства тонкой пленки серебра на Ag 2 0 могут отличать­ ся от свойств пленки Ag на стекле. Это еще один вопрос, который можно было бы экспериментально решить срав­ нительно просто, но который, по-видимому, не исследо­ вался.

После второго испарения серебра проводится обра­ ботка слоя цезием. При этом обычно используют второй метод активировки, описанный для непрозрачного фото­ катода. Изменения фототока и термоэлектронной эмис­ сии происходят в той же последовательности, как пока­ зано на рис. 37 для непрозрачного фотокатода. После окончания обработки цезием прибор прогревается до по­ лучения постоянной фотоэмиссии.

4. Дополнительное нанесение серебра. В фотоэлемен­ тах, изготовленных с испаренным серебряным слоем, по­ лупрозрачных и непрозрачных, испаритель серебра обыч­ но используют и для дополнительного нанесения серебра после обработки цезием. Этот процесс был разработан Аса о [Л. 174] и Асао и Сузуки [Л. 175]. Серебро испа­ ряется на холодный (при комнатной температуре) фо­ токатод, причем процесс испарения контролируется по величине фототока. После начального подъема чувстви­ тельность падает, и испарение прекращается в тот мо­ мент, когда фототок уменьшается примерно до половины первоначальной величины. Затем прибор прогревается до получения постоянной фотоэмиссии. Конечная чувст­ вительность катода к белому свету значительно превы­ шает величину чувствительности перед последним нане­ сением серебра.

5. Поверхностное окисление. Дополнительным процес­ сом, который часто (но не всегда) приводит к дальней­ шему улучшению фоточувствительности, является тща­ тельно контролируемое поверхностное окисление катода [Л. 176]. Так же как в случае Cs3Sb фотокатода, кисло­ род очень осторожно вводится в прибор. Окисление контролируется по величине фототока. Величина чувст­ вительности, особенно вблизи порога, сначала увеличи­ вается, а затем при продолжении обработки слоя кисло­ родом падает. Процесс окисления отличается от анало­ гичного процесса для Cs3Sb тем, что продолжение окис­ ления после максимума фототока не приводит к необра­ тимому ухудшению чувствительности. Более того, про-

7*

99