книги из ГПНТБ / Троицкий О.А. Радиация и прочность твердых тел
.pdfж ет распадаться, ка к это показано на рис. 25, на дива-
кансии, ориентированные в направлении < 1 1 2 0 > . Другой путь образования точечных дефектов во вре
мя пластической деформации — это генерирование ва кансий быстро движущимися дислокациями со ступень-
Р и с . 25. |
Распад цепочки |
вакансии в направлении |
|
<1010> |
плоскости |
(0001) |
на дивакансии, ориенти |
рованные в направлении <1120> той же |
|||
|
|
плоскости |
|
ками (цугом). Н а этот |
механизм указывалось в разделе, |
посвященном дислокациям. Отставание атомов' ступень ки происходит в силу динамической неустойчивости. Су ществуют т а к ж е другие механизмы образования точеч ных дефектов.
При деформировании металла в области высоких тем ператур устанавливается стационарная неравновесная концентрация вакансий, пропорциональная скорости де формирования и времени релаксации вакансий. Количе-
ство |
избыточных |
вакансий может на несколько поряд |
|
ков |
превышать |
равновесную |
концентрацию. |
Любопытно, |
что скачки |
деформации, наблюдаемые |
при растяжении монокристаллов цинка в интервале тем ператур 18—100°, сопровождаются кратковременным увеличением электросопротивления образцов. Этот эф фект объясняется интенсивным образованием в полосе скольжения точечных дефектов, которые затем анниги лируют иа дислокациях.
§ 5. Образование точечных дефектов при закалке
Скорость установления равновесной концентрации то чечных дефектов определяется средним расстоянием
между источниками |
дефектов |
и стоками, где эти |
дефек |
ты могут погибнуть, |
а также |
энергией активации |
и тем |
пературой. При повышении температуры равновесие уста навливается быстрее, чем при понижении, поскольку подвижность дефектов и их число изменяются с темпера турой по экспотенциалыюму закону. В определенных условиях при повышении температуры скорость установ ления новой равновесной концентрации дефектов будет определяться, в основном, температурой, а не расстоя
нием источник-сток и энергией активации. При |
низких |
|||||||
температурах, |
напротив, |
главную |
роль |
играют |
энергия |
|||
активации |
и |
геометрия |
диффузионных |
путей. |
|
|||
При |
низких |
температурах концентрация |
днвакансий |
|||||
может |
быть |
па |
несколько |
порядков |
меньше, |
чем |
концен |
трация моиовпкаиспй. По мере повышения температуры скорость возникновения днвакансий начинает преобла дать над скоростью возникновения моновакаисий, и кон центрация днвакансий может достигнуть 1% от числа
моновакансий. |
Поскольку |
энергия образования меж |
|||
узел ытых атомов |
намного больше, чем энергия образо |
||||
вания |
вакансии, |
концентрация межузельных атомов в . |
|||
экспериментах |
с |
закалкой |
пренебрежимо |
мала . |
|
Наилучшие условия для получения большой концен |
|||||
трации |
вакансий |
и небольшого процента |
обьеднненпых |
дефектов получаются при использовании большой ско рости охлаждения образцов. Однако с большой ско ростью охлаждения связано т а к ж е появление термиче ских напряжении, которые могут вызвать пластическую деформацию металла. Дислокации, которые могут воз-
6 |
81 |
никнуть в процессе пластической деформации образца, в свою очередь, могут быть источниками или стоками для точечных дефектов. Д л я того чтобы избежать осложне ний, связанных с появлением в образце дополнительных стоков и источников в виде дислокаций, закалку нужно проводить в условиях, исключающих пластическую де
формацию |
металла. |
|
|
|
|
|
Как правило, |
чистый |
эксперимент |
с закалкой может |
|||
быть проведен |
в очень |
узких диапазонах |
температур, |
|||
скоростей |
охлаждения |
и размеров |
образца. |
|
||
§ 6. Образование точечных дефектов при облучении |
||||||
Способам производства точечных |
дефектов |
закалкой |
||||
и пластической |
деформацией свойственны |
ограничения. |
||||
В первом случае образуются, в основном, |
вакансии. Во |
|||||
втором случае образующиеся точечные дефекты |
сущест |
венно связаны с дислокациями. Облучение является наи более универсальным способом производства точечных
дефектов, т. |
к. |
позволяет |
получать вакансии и внедрен |
ные атомы |
в |
разных |
количествах и равномерно по |
объекту. |
|
|
|
Энергия частиц, особенно заряженных, в значитель ной мере затрачивается на ионизацию и электронное воз буждение. З а р я ж е н н ы е частицы отдают ядрам только
1 |
1 |
|
ТОО ~^ТШб |
часть своей энергии, расходуя остальную |
часть на возбуждение электронов. Однако ниже некото рого критического значения скорости движения (или энергии) большая часть энергии частиц расходуется на упругие столкновения с ядрами.
Выше подробно рассматривался вопрос о радиацион ных повреждениях в решётке применительно к различ ным типам частиц. В этой главе мы только вернемся к исключительно в а ж н ы м вопросам взаимодействия излу
чения с плотными |
направлениями решетки и с |
дислока |
|||||
циями. |
|
|
|
|
|
|
|
Облучение в |
направлении |
плотных |
рядов |
атомов, |
|||
если и не увеличивает числа дефектов, |
то, |
по |
крайней |
||||
мере, создаются |
более |
«стабильные» |
пары |
Френкеля, |
|||
увеличивая |
расстояние |
внедренного |
атома-вакансии. |
||||
С помощью |
ряда |
механизмов |
взаимодействия |
излучения |
с веществом, о котором была речь выше и где учитыва
ется влияние кристаллической решетки, |
можно |
объяс |
|
нить увеличение этого расстояния. В |
процессе |
фокуси |
|
рующихся соударений, например, |
в |
направлениях |
плотной упаковки внедренный атом возникает далеко от вакансии. Фокусирующиеся столкновения распространя
ются в |
глубь кристалла на |
расстояния, |
в десятки раз |
|
большие, чем при простом выбивании атомов, и |
являют |
|||
ся теми |
процессами, которые |
увеличивают |
долю |
объема |
образца, подверженного действию радиации. В случае каналирования выбитых атомов т а к ж е происходит уве
личение расстояния |
в |
паре Френкеля, |
поскольку выби |
тый атом обладает |
значительной кинетической энергией |
||
и, отклоняясь в начале |
своего пути в |
канал, останавли |
вается |
на значительном расстоянии от пустого узла. На |
||
конец, |
в связи с анизотропией энергии |
смещения |
атомов |
в меди, например, на смещение атома |
из центра |
грани |
требуется энергия, на несколько процентов меньшая, чем
для смещения углового |
атома. Это значит, что атом, ле |
ж а щ и й в направлении |
плотной упаковки, может быть |
выведен из своего положення в решетке легче, чем любой другой. То ж е справедливо и для гексагональной решет ки: для смещения атомов вдоль гексагональной оси требуется большая энергия, чем для смещения в перпен дикулярном направлении, т. е. вдоль плоскости базиса. Это приводит в свою очередь к двум следствиям. Во-пер вых, в плоскости базиса могут возникать выбитые атомы на большом расстоянии от первичного акта столкнове ния, так как энергия смешения мала. Во-вторых, облу чение в направлении гексагональной оси приводит, по мимо уменьшения длины диполя Френкеля и связанного с этим уменьшения числа дефектов (обусловленного легкостью рекомбинации и самоотжига дефектов), к до полнительному уменьшению числа дефектов в связи с возрастанием затрат энергии на производство одного дефекта. Таким образом, при облучении образцов при низких температурах в направлениях плотной упаковки (без учета взаимодействия с дислокациями) можно ожи дать увеличения скорости накопления точечных дефек тов за счет возрастания устойчивости пар Френкеля, воз никающих под действием радиации.
Кроме того, количество смещенных атомов будет за висеть от плотности дислокаций, увеличение которой
(например, при деформации) приведет к увеличению ско рости радиационного повреждения. Об этом эффекте мы уже упоминали. Число точечных дефектов, возникающих по этому механизму, пропорционально плотности дисло каций. Линейная зависимость имеет место до тех пор, пока дислокации не экранируют друг друга. Наибольший дислокационный вклад равен почти 50% при плотности дислокаций ~ 101 3 слг2, и в этой области степень увели чения повреждения будет пропорциональна плотности дислокаций.
Атомы примеси, закрепленные |
на |
дислокациях, |
|
имеют меньшую пороговую энергию |
смещения,-чем при |
||
месь в нормальном положении |
решетки. Взаимодействие |
||
фокусирующихся столкновений |
с примесью |
увеличивает |
число точечных дефектов в кристалле. Число произве денных пар Френкеля пропорционально концентрации примесей до тех пор, пока значение атомов примеси, сме щенных фокусонами, не станет равно полному числу фокусонов. Затем степень повреждения становится по стоянной и независимой от концентрации примесей.
§ 7. Взаимодействие точечных дефектов с дислокациями
Дислокации могут играть роль ловушек для точечных дефектов. Дислокации могут служить т а к ж е источника ми и стоками для точечных дефектов. Следовательно, дислокации играют ведущую роль в установлении тер модинамически равновесной концентрации точечных де фектов и их комплексов.
Рассмотрим число скачков вакансий до исчезновения в стоке на плоскости базиса гексагональных металлов. Если координационное число равно Z, то вероятность элементар
ного перехода равна |
В плоскости базиса - g - = |
Чис |
ло отдельных узлов, в которые вакансия может попасть за п шагов, равно S = б + В/г. Для больших п справедливо S = Вп. Величина В равна В=^ 0,7. Следовательно, S — 0,7 п.
Допустим, в плоскости базиса имеются стоки в виде дислокаций, пересекающих плоскость базиса. Такие стоки имеют неограниченную емкость. Пусть р — атомная доля таких стоков. Если р — вероятность сохранения дефекта после п переходов, то вероятность исчезновения дефекта равна произведению р на вероятность перехода, в новый узел
а и на вероятность р того, что последний окажется в непо средственном соседстве с ядром дислокации.
Следовательно |
|
— — = ра$ . |
|
|
|
||
откуда |
|
|
p = |
e~a?n |
|
|
|
Среднее |
число |
переходов до |
исчезновения |
дефекта |
най- |
||
|
|
1 |
|
00 |
|
|
|
дется как |
~g = |
\ п |
( _ „рч = |
j в с п е |
~ d / і |
= А - |
( 3 6 ) |
|
|
0 |
|
0 |
|
°Р |
|
Изменение механических свойств |
твердых тел в |
свя |
|||||
зи с их облучением |
частицами |
высоких энергий объясня |
ется, в основном, взаимодействием дислокаций с радиа
ционными |
точечными дефектами. |
Это |
взаимодействие |
|
чрезвычайно сложное и включает в |
себя |
взаимодействие |
||
как |
с одиночными вакансиями и с |
внедренными атома |
||
ми, |
так и |
комплексами точечных |
дефектов. |
При очень низких температурах порядка единиц гра дусов Кельвина точечные дефекты, возникшие в резуль тате облучения, распределены более или менее равно мерно в объеме кристалла. Но уже в этих условиях на них оказывают определенное действие упругие поля дис локаций, которые контролируют весь объем кристалла. Проследим, что произойдет со сложным ансамблем внед ренных атомов, вакансий и дислокаций-при постепенном повышении температуры. Сначала при достижении тем пературы десятка или двух десятков градусов Кельвина начнут двигаться внедренные атомы, которые имеют очень малую энергию активации движения (примерно в десять раз меньшую, чем вакансии) . При этом вакансии и дислокации остаются неподвижными. Те и другие мо гут быть местом стока внедренных атомов. В первом случае при встрече внедренного атома с вакансией про исходит аннигиляция. Во втором случае дислокация при обретает порог, если внедренный атом осаждается не посредственно на ее линии, либо захватывает его в растянутую область решетки в районе ядра дислокации. Протяженность дислокаций и значительные упругие поля напряжений от них обусловливают то, что основными стоками для точечных дефектов являются дислокации. Вслед за внедренными атомами при повышении темпе ратуры начинают двигаться вакансии, которые имеют
у ж е стоки только в виде дислокаций. Они оседают на линиях дислокаций, либо останавливаются в сжатых об ластях решетки в районе ядра дислокации.
Таким образом, точечные дефекты, стремящиеся к дислокациям, могут иметь двойную судьбу. Одни могут аннигилировать на линии дислокации с образованием ступенек. Другие собираются в центре дислокации и не уничтожаются, а образуют вдоль линии дислокации поры атомного масштаба, либо, наоборот, комплексы внедрен ных атомов. Во всех указанных случаях дислокации за крепляются. В этом причина широко известного на прак тике радиационного упрочнения.
§ 8. Участие точечных дефектов во внутреннем трении
Возникновение |
внутреннего |
трения в |
металлах |
связано, в основном, |
с движением |
дислокаций |
и взаимо |
действием дислокаций с точечными дефектами. Фон внутреннего трения может быть связан т а к ж е с переори ентацией под действием внешних переменных напряже ний комплексов точечных дефектов. Как будет показано в разделе комплексных дефектов, компактной конфигура цией является тривакансия. Один из атомов базисной плоскости в гексагональных кристаллах может сместить ся в центр комплекса, и тривакансия распределится по четырем атомным позициям, а, срелакенровавшись, атом займет центр тетраэдра. Другая возможность стабили зации тривакансии заключается в том, что происходит релаксация двух атомов из соседних плоскостей в поло жение, симметричное относительно фигуры октаэдра. Релаксация напряжений в процессе внутреннего трения
может быть |
частично связана |
с резонансом между тет- |
||||
раэдрической |
и октаэдрической |
конфигурациями |
трива |
|||
кансии. |
|
|
|
|
|
|
|
В связи с наличием изолированных точечных дефек |
|||||
тов, занимающих либо октаэдрические, либо |
тетраэдри- |
|||||
ческие места, не может быть |
механической релаксацией |
|||||
напряжений. Вместе с тем в случае, если возможна |
реак |
|||||
ция |
между |
дефектами, а |
именно — если |
возможны |
||
прыжки межузельного атома |
из |
октаэдрических |
пустот |
|||
в тетраэдрические и наоборот, то появляется |
механиче |
|||||
ски активная мода и возможна |
механическая релакса |
|||||
ция |
напряжений. |
|
~" |
|
|
§ 9. Простейшие комплексы точечных дефектов
Из предыдущего ясно, что комплексы |
из. двух или |
||
трех |
вакансий являются |
устойчивыми. Энергия образо |
|
вания |
дивакансий равна |
удвоенной энергии |
образования |
моновакансий минус энергии связи дивакансий. Энергия связи дивакансий в благородных металлах составляет приблизительно 0,06 от энергии Ферми. Следовательно, для этих металлов типичным значением энергии связи
является |
~ |
0,3 |
эв. Д в е |
вакансии |
притягиваются друг |
||
|
|
|
|
|
о |
|
|
другу на |
расстояниях, |
меньших |
~ 7 А , |
а на |
больших |
||
расстояниях |
в |
заметной |
степени |
не взаимодействуют. |
|||
• Крупные |
комплексы |
вакансий |
еще |
мало |
изучены. |
Известно только, что релаксация одного или более ато мов в комплексе вакансий стабилизирует конфигурацию. Такого рода релаксация дает большой вклад в энергию связи.
Теоретические расчеты показывают, что у тривакансии
энергия активации |
перемещения |
существенно |
больше, |
чем у моновакансий |
и немного |
больше, чем |
у дива |
кансий. Следовательно, трмвакансия является наимень шим комплексом вакансий, обладающихся в то ж е вре мя самой высокой устойчивостью и малой подвижностью. Тривакансия являются, по сути дела, зародышем мини мального размера при образовании пор в материале.
Тривакансии |
весьма устойчивы, потому что имеют боль |
|||||
шей |
частью |
тетраэдрическую |
конфигурацию |
(рис. |
6). |
|
Д л я |
того чтобы перемещаться, |
тривакансия должна |
ча |
|||
стично диссоциировать, а |
в исходном устойчивом состоя |
|||||
нии один атом находится |
в релаксированном |
положении |
в центре тетраэдра. Вокруг него находятся четыре «ча стичные вакансии». При движении такого комплекса в тем или ином направлении требуются большие пе рестройки и соответствующие атомы меняются функ циями.
Рассмотрим тривакансии в плоскости базиса гекса гональных металлов. Будем предполагать, что комплекс образовался путем объединения моновакансий, исходная концентрация которых в кристалле известна. На рис. 26 приведены семь геометрически различимых плоских кон фигураций тривакансии, включающих в себя 31 конфи : гурацию, не повторяющих друг друга путем операции простой трансляции в плоскости (0001).
Р и с . 26. Семь геометрических ры.ушчиых плоских конфигурации триваканспй, включающих в себя 31 конфигурацию не повторя ющегося путем операции простой трансляции.
I —«стабильная» |
конфигурация; |
|
|
|
|
|
||||||
I I — п е р е х о д в «стабильную» |
конфигурацию |
дости |
||||||||||
гается за |
один |
акт диффузии |
(атом |
1 перехо |
||||||||
дит в |
положение 2); |
|
|
|
|
|
|
|
||||
I I I — нестабильная |
конфигурация; |
переход |
к «ста |
|||||||||
бильной» |
|
происходит за один акт диффузии |
||||||||||
(атом |
1 переходит в положение 2); |
|
|
|
||||||||
I V — н е с т а б и л ь н а я конфигурация; |
переход |
к |
«ста |
|||||||||
бильной» |
|
происходит |
за два акта |
диффузии |
||||||||
(атом |
1 переходит |
в |
положение |
2, атом |
3 — |
|||||||
в положение 4); |
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
V — плотная |
линейная |
конфигурация |
тривакансии |
|||||||||
в направлении |
типа < 1 1 2 0 > ; |
переход |
к |
«ста |
||||||||
бильной» |
|
конфигурации |
достигается |
за |
два |
|||||||
акта |
диффузии |
(атом |
1 переходит |
в положе |
||||||||
ние 2; атом |
3 — в положение |
1); |
|
|
|
|
||||||
V I — линейная |
|
конфигурация |
тривакансии |
в |
нап |
|||||||
равлении |
|
типа |
< 1 0 1 0 > ; |
переход |
к |
«стабиль |
||||||
ной» |
конфигурации |
происходит |
за |
счет |
трех |
|||||||
актов |
диффузии |
(атом |
1 — в положение 2, |
атом |
3 — в положение |
4, атом |
5 — в |
положе |
|||||
ние |
3); |
|
|
|
|
|
|
|
|
V I I — неплотная линейная |
конфигурация |
тривакан- |
|||||||
син |
в направлении |
типа |
<11~20>; |
переход |
|||||
к «стабильной» |
конфигурации |
происходит за |
|||||||
четыре перехода |
атомов (атом |
1 — в |
положе |
||||||
ние 2, атом 3 — в положение |
1, атом 4 — в по |
||||||||
ложение |
5; атом |
6 — в |
положение |
4). |
|
||||
Рассмотренные |
конфигурации |
тривакансни |
в |
плоско |
сти спайности гексагональной решетки в различной сте пени нестабильны. З а меру нестабильности при этом рассмотрении мы принимали число диффузионных путей для превращения нестабильной конфигурации в стабиль ную.
Д л я образования |
одной вакансии требуется |
разорвать |
||||
12 связей |
в объеме |
и сформировать Є связей |
на поверх |
|||
ности. В случае дивакансии и тривакансии |
требуется |
|||||
разорвать, |
соответственно, I I и |
10 связей в объеме. |
||||
В общем случае можно показать, что поливакансия п — |
||||||
— порядка |
имеет энергию |
связи |
|
|
||
а энергия |
образования |
комплекса |
составит |
|
||
|
|
j n |
) = |
з + 4п |
„ |
(53) |
где Ее — энергия связи |
в |
решетке. |
|
|||
Если разделить значение энергии образования |
комплекса |
на число вакансий, то получится удельная энергия образо
вания |
комплекса, которая максимальна для |
дивакансии |
|||
0,91 |
Ее и |
монотонно |
уменьшается до постоянной |
величины |
|
2 |
|
|
|
|
|
^Ес |
при |
бесконечно |
большом числе вакансий |
в |
комплек |
се. Что касается энергии связи комплекса, то ее удельная величина, получаемая при делении энергии связи комплек
са на число вакансий в комплексе, равна для дивакансии -yipCc, а для поливакансии п — порядка - у - Ес.
Таким образом, д л я плоской конфигурации поливаканоий увеличение числа вакансий в комплексе приводит к снижению удельной энергии образования комплекса