Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Троицкий О.А. Радиация и прочность твердых тел

.pdf
Скачиваний:
11
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
5.14 Mб
Скачать

ж ет распадаться, ка к это показано на рис. 25, на дива-

кансии, ориентированные в направлении < 1 1 2 0 > . Другой путь образования точечных дефектов во вре­

мя пластической деформации — это генерирование ва­ кансий быстро движущимися дислокациями со ступень-

Р и с . 25.

Распад цепочки

вакансии в направлении

<1010>

плоскости

(0001)

на дивакансии, ориенти­

рованные в направлении <1120> той же

 

 

плоскости

ками (цугом). Н а этот

механизм указывалось в разделе,

посвященном дислокациям. Отставание атомов' ступень­ ки происходит в силу динамической неустойчивости. Су­ ществуют т а к ж е другие механизмы образования точеч­ ных дефектов.

При деформировании металла в области высоких тем­ ператур устанавливается стационарная неравновесная концентрация вакансий, пропорциональная скорости де­ формирования и времени релаксации вакансий. Количе-

ство

избыточных

вакансий может на несколько поряд­

ков

превышать

равновесную

концентрацию.

Любопытно,

что скачки

деформации, наблюдаемые

при растяжении монокристаллов цинка в интервале тем­ ператур 18—100°, сопровождаются кратковременным увеличением электросопротивления образцов. Этот эф­ фект объясняется интенсивным образованием в полосе скольжения точечных дефектов, которые затем анниги­ лируют иа дислокациях.

§ 5. Образование точечных дефектов при закалке

Скорость установления равновесной концентрации то­ чечных дефектов определяется средним расстоянием

между источниками

дефектов

и стоками, где эти

дефек­

ты могут погибнуть,

а также

энергией активации

и тем­

пературой. При повышении температуры равновесие уста­ навливается быстрее, чем при понижении, поскольку подвижность дефектов и их число изменяются с темпера­ турой по экспотенциалыюму закону. В определенных условиях при повышении температуры скорость установ­ ления новой равновесной концентрации дефектов будет определяться, в основном, температурой, а не расстоя­

нием источник-сток и энергией активации. При

низких

температурах,

напротив,

главную

роль

играют

энергия

активации

и

геометрия

диффузионных

путей.

 

При

низких

температурах концентрация

днвакансий

может

быть

па

несколько

порядков

меньше,

чем

концен­

трация моиовпкаиспй. По мере повышения температуры скорость возникновения днвакансий начинает преобла­ дать над скоростью возникновения моновакаисий, и кон­ центрация днвакансий может достигнуть 1% от числа

моновакансий.

Поскольку

энергия образования меж­

узел ытых атомов

намного больше, чем энергия образо­

вания

вакансии,

концентрация межузельных атомов в .

экспериментах

с

закалкой

пренебрежимо

мала .

Наилучшие условия для получения большой концен­

трации

вакансий

и небольшого процента

обьеднненпых

дефектов получаются при использовании большой ско­ рости охлаждения образцов. Однако с большой ско­ ростью охлаждения связано т а к ж е появление термиче­ ских напряжении, которые могут вызвать пластическую деформацию металла. Дислокации, которые могут воз-

6

81

никнуть в процессе пластической деформации образца, в свою очередь, могут быть источниками или стоками для точечных дефектов. Д л я того чтобы избежать осложне­ ний, связанных с появлением в образце дополнительных стоков и источников в виде дислокаций, закалку нужно проводить в условиях, исключающих пластическую де­

формацию

металла.

 

 

 

 

Как правило,

чистый

эксперимент

с закалкой может

быть проведен

в очень

узких диапазонах

температур,

скоростей

охлаждения

и размеров

образца.

 

§ 6. Образование точечных дефектов при облучении

Способам производства точечных

дефектов

закалкой

и пластической

деформацией свойственны

ограничения.

В первом случае образуются, в основном,

вакансии. Во

втором случае образующиеся точечные дефекты

сущест­

венно связаны с дислокациями. Облучение является наи­ более универсальным способом производства точечных

дефектов, т.

к.

позволяет

получать вакансии и внедрен­

ные атомы

в

разных

количествах и равномерно по

объекту.

 

 

 

Энергия частиц, особенно заряженных, в значитель­ ной мере затрачивается на ионизацию и электронное воз­ буждение. З а р я ж е н н ы е частицы отдают ядрам только

1

1

 

ТОО ~^ТШб

часть своей энергии, расходуя остальную

часть на возбуждение электронов. Однако ниже некото­ рого критического значения скорости движения (или энергии) большая часть энергии частиц расходуется на упругие столкновения с ядрами.

Выше подробно рассматривался вопрос о радиацион­ ных повреждениях в решётке применительно к различ­ ным типам частиц. В этой главе мы только вернемся к исключительно в а ж н ы м вопросам взаимодействия излу­

чения с плотными

направлениями решетки и с

дислока­

циями.

 

 

 

 

 

 

 

Облучение в

направлении

плотных

рядов

атомов,

если и не увеличивает числа дефектов,

то,

по

крайней

мере, создаются

более

«стабильные»

пары

Френкеля,

увеличивая

расстояние

внедренного

атома-вакансии.

С помощью

ряда

механизмов

взаимодействия

излучения

с веществом, о котором была речь выше и где учитыва­

ется влияние кристаллической решетки,

можно

объяс­

нить увеличение этого расстояния. В

процессе

фокуси­

рующихся соударений, например,

в

направлениях

плотной упаковки внедренный атом возникает далеко от вакансии. Фокусирующиеся столкновения распространя­

ются в

глубь кристалла на

расстояния,

в десятки раз

большие, чем при простом выбивании атомов, и

являют­

ся теми

процессами, которые

увеличивают

долю

объема

образца, подверженного действию радиации. В случае каналирования выбитых атомов т а к ж е происходит уве­

личение расстояния

в

паре Френкеля,

поскольку выби­

тый атом обладает

значительной кинетической энергией

и, отклоняясь в начале

своего пути в

канал, останавли­

вается

на значительном расстоянии от пустого узла. На­

конец,

в связи с анизотропией энергии

смещения

атомов

в меди, например, на смещение атома

из центра

грани

требуется энергия, на несколько процентов меньшая, чем

для смещения углового

атома. Это значит, что атом, ле­

ж а щ и й в направлении

плотной упаковки, может быть

выведен из своего положення в решетке легче, чем любой другой. То ж е справедливо и для гексагональной решет­ ки: для смещения атомов вдоль гексагональной оси требуется большая энергия, чем для смещения в перпен­ дикулярном направлении, т. е. вдоль плоскости базиса. Это приводит в свою очередь к двум следствиям. Во-пер­ вых, в плоскости базиса могут возникать выбитые атомы на большом расстоянии от первичного акта столкнове­ ния, так как энергия смешения мала. Во-вторых, облу­ чение в направлении гексагональной оси приводит, по­ мимо уменьшения длины диполя Френкеля и связанного с этим уменьшения числа дефектов (обусловленного легкостью рекомбинации и самоотжига дефектов), к до­ полнительному уменьшению числа дефектов в связи с возрастанием затрат энергии на производство одного дефекта. Таким образом, при облучении образцов при низких температурах в направлениях плотной упаковки (без учета взаимодействия с дислокациями) можно ожи­ дать увеличения скорости накопления точечных дефек­ тов за счет возрастания устойчивости пар Френкеля, воз­ никающих под действием радиации.

Кроме того, количество смещенных атомов будет за­ висеть от плотности дислокаций, увеличение которой

(например, при деформации) приведет к увеличению ско­ рости радиационного повреждения. Об этом эффекте мы уже упоминали. Число точечных дефектов, возникающих по этому механизму, пропорционально плотности дисло­ каций. Линейная зависимость имеет место до тех пор, пока дислокации не экранируют друг друга. Наибольший дислокационный вклад равен почти 50% при плотности дислокаций ~ 101 3 слг2, и в этой области степень увели­ чения повреждения будет пропорциональна плотности дислокаций.

Атомы примеси, закрепленные

на

дислокациях,

имеют меньшую пороговую энергию

смещения,-чем при­

месь в нормальном положении

решетки. Взаимодействие

фокусирующихся столкновений

с примесью

увеличивает

число точечных дефектов в кристалле. Число произве­ денных пар Френкеля пропорционально концентрации примесей до тех пор, пока значение атомов примеси, сме­ щенных фокусонами, не станет равно полному числу фокусонов. Затем степень повреждения становится по­ стоянной и независимой от концентрации примесей.

§ 7. Взаимодействие точечных дефектов с дислокациями

Дислокации могут играть роль ловушек для точечных дефектов. Дислокации могут служить т а к ж е источника­ ми и стоками для точечных дефектов. Следовательно, дислокации играют ведущую роль в установлении тер­ модинамически равновесной концентрации точечных де­ фектов и их комплексов.

Рассмотрим число скачков вакансий до исчезновения в стоке на плоскости базиса гексагональных металлов. Если координационное число равно Z, то вероятность элементар­

ного перехода равна

В плоскости базиса - g - =

Чис­

ло отдельных узлов, в которые вакансия может попасть за п шагов, равно S = б + В/г. Для больших п справедливо S = Вп. Величина В равна В=^ 0,7. Следовательно, S 0,7 п.

Допустим, в плоскости базиса имеются стоки в виде дислокаций, пересекающих плоскость базиса. Такие стоки имеют неограниченную емкость. Пусть р — атомная доля таких стоков. Если р — вероятность сохранения дефекта после п переходов, то вероятность исчезновения дефекта равна произведению р на вероятность перехода, в новый узел

а и на вероятность р того, что последний окажется в непо­ средственном соседстве с ядром дислокации.

Следовательно

 

— — = ра$ .

 

 

 

откуда

 

 

p =

e~a?n

 

 

 

Среднее

число

переходов до

исчезновения

дефекта

най-

 

 

1

 

00

 

 

 

дется как

~g =

\ п

( _ „рч =

j в с п е

~ d / і

= А -

( 3 6 )

 

 

0

 

0

 

°Р

 

Изменение механических свойств

твердых тел в

свя­

зи с их облучением

частицами

высоких энергий объясня­

ется, в основном, взаимодействием дислокаций с радиа­

ционными

точечными дефектами.

Это

взаимодействие

чрезвычайно сложное и включает в

себя

взаимодействие

как

с одиночными вакансиями и с

внедренными атома­

ми,

так и

комплексами точечных

дефектов.

При очень низких температурах порядка единиц гра­ дусов Кельвина точечные дефекты, возникшие в резуль­ тате облучения, распределены более или менее равно­ мерно в объеме кристалла. Но уже в этих условиях на них оказывают определенное действие упругие поля дис­ локаций, которые контролируют весь объем кристалла. Проследим, что произойдет со сложным ансамблем внед­ ренных атомов, вакансий и дислокаций-при постепенном повышении температуры. Сначала при достижении тем­ пературы десятка или двух десятков градусов Кельвина начнут двигаться внедренные атомы, которые имеют очень малую энергию активации движения (примерно в десять раз меньшую, чем вакансии) . При этом вакансии и дислокации остаются неподвижными. Те и другие мо­ гут быть местом стока внедренных атомов. В первом случае при встрече внедренного атома с вакансией про­ исходит аннигиляция. Во втором случае дислокация при­ обретает порог, если внедренный атом осаждается не­ посредственно на ее линии, либо захватывает его в растянутую область решетки в районе ядра дислокации. Протяженность дислокаций и значительные упругие поля напряжений от них обусловливают то, что основными стоками для точечных дефектов являются дислокации. Вслед за внедренными атомами при повышении темпе­ ратуры начинают двигаться вакансии, которые имеют

у ж е стоки только в виде дислокаций. Они оседают на линиях дислокаций, либо останавливаются в сжатых об­ ластях решетки в районе ядра дислокации.

Таким образом, точечные дефекты, стремящиеся к дислокациям, могут иметь двойную судьбу. Одни могут аннигилировать на линии дислокации с образованием ступенек. Другие собираются в центре дислокации и не уничтожаются, а образуют вдоль линии дислокации поры атомного масштаба, либо, наоборот, комплексы внедрен­ ных атомов. Во всех указанных случаях дислокации за­ крепляются. В этом причина широко известного на прак­ тике радиационного упрочнения.

§ 8. Участие точечных дефектов во внутреннем трении

Возникновение

внутреннего

трения в

металлах

связано, в основном,

с движением

дислокаций

и взаимо­

действием дислокаций с точечными дефектами. Фон внутреннего трения может быть связан т а к ж е с переори­ ентацией под действием внешних переменных напряже ­ ний комплексов точечных дефектов. Как будет показано в разделе комплексных дефектов, компактной конфигура­ цией является тривакансия. Один из атомов базисной плоскости в гексагональных кристаллах может сместить­ ся в центр комплекса, и тривакансия распределится по четырем атомным позициям, а, срелакенровавшись, атом займет центр тетраэдра. Другая возможность стабили­ зации тривакансии заключается в том, что происходит релаксация двух атомов из соседних плоскостей в поло­ жение, симметричное относительно фигуры октаэдра. Релаксация напряжений в процессе внутреннего трения

может быть

частично связана

с резонансом между тет-

раэдрической

и октаэдрической

конфигурациями

трива­

кансии.

 

 

 

 

 

 

В связи с наличием изолированных точечных дефек­

тов, занимающих либо октаэдрические, либо

тетраэдри-

ческие места, не может быть

механической релаксацией

напряжений. Вместе с тем в случае, если возможна

реак­

ция

между

дефектами, а

именно — если

возможны

прыжки межузельного атома

из

октаэдрических

пустот

в тетраэдрические и наоборот, то появляется

механиче­

ски активная мода и возможна

механическая релакса­

ция

напряжений.

 

~"

 

 

§ 9. Простейшие комплексы точечных дефектов

Из предыдущего ясно, что комплексы

из. двух или

трех

вакансий являются

устойчивыми. Энергия образо­

вания

дивакансий равна

удвоенной энергии

образования

моновакансий минус энергии связи дивакансий. Энергия связи дивакансий в благородных металлах составляет приблизительно 0,06 от энергии Ферми. Следовательно, для этих металлов типичным значением энергии связи

является

~

0,3

эв. Д в е

вакансии

притягиваются друг

 

 

 

 

 

о

 

 

другу на

расстояниях,

меньших

~ 7 А ,

а на

больших

расстояниях

в

заметной

степени

не взаимодействуют.

• Крупные

комплексы

вакансий

еще

мало

изучены.

Известно только, что релаксация одного или более ато­ мов в комплексе вакансий стабилизирует конфигурацию. Такого рода релаксация дает большой вклад в энергию связи.

Теоретические расчеты показывают, что у тривакансии

энергия активации

перемещения

существенно

больше,

чем у моновакансий

и немного

больше, чем

у дива­

кансий. Следовательно, трмвакансия является наимень­ шим комплексом вакансий, обладающихся в то ж е вре­ мя самой высокой устойчивостью и малой подвижностью. Тривакансия являются, по сути дела, зародышем мини­ мального размера при образовании пор в материале.

Тривакансии

весьма устойчивы, потому что имеют боль­

шей

частью

тетраэдрическую

конфигурацию

(рис.

6).

Д л я

того чтобы перемещаться,

тривакансия должна

ча­

стично диссоциировать, а

в исходном устойчивом состоя­

нии один атом находится

в релаксированном

положении

в центре тетраэдра. Вокруг него находятся четыре «ча­ стичные вакансии». При движении такого комплекса в тем или ином направлении требуются большие пе­ рестройки и соответствующие атомы меняются функ­ циями.

Рассмотрим тривакансии в плоскости базиса гекса­ гональных металлов. Будем предполагать, что комплекс образовался путем объединения моновакансий, исходная концентрация которых в кристалле известна. На рис. 26 приведены семь геометрически различимых плоских кон­ фигураций тривакансии, включающих в себя 31 конфи : гурацию, не повторяющих друг друга путем операции простой трансляции в плоскости (0001).

Р и с . 26. Семь геометрических ры.ушчиых плоских конфигурации триваканспй, включающих в себя 31 конфигурацию не повторя­ ющегося путем операции простой трансляции.

I —«стабильная»

конфигурация;

 

 

 

 

 

I I п е р е х о д в «стабильную»

конфигурацию

дости­

гается за

один

акт диффузии

(атом

1 перехо­

дит в

положение 2);

 

 

 

 

 

 

 

I I I нестабильная

конфигурация;

переход

к «ста­

бильной»

 

происходит за один акт диффузии

(атом

1 переходит в положение 2);

 

 

 

I V н е с т а б и л ь н а я конфигурация;

переход

к

«ста­

бильной»

 

происходит

за два акта

диффузии

(атом

1 переходит

в

положение

2, атом

3 —

в положение 4);

 

 

 

 

 

 

 

 

V плотная

линейная

конфигурация

тривакансии

в направлении

типа < 1 1 2 0 > ;

переход

к

«ста­

бильной»

 

конфигурации

достигается

за

два

акта

диффузии

(атом

1 переходит

в положе­

ние 2; атом

3 — в положение

1);

 

 

 

 

V I линейная

 

конфигурация

тривакансии

в

нап­

равлении

 

типа

< 1 0 1 0 > ;

переход

к

«стабиль­

ной»

конфигурации

происходит

за

счет

трех

актов

диффузии

(атом

1 — в положение 2,

атом

3 — в положение

4, атом

5 — в

положе­

ние

3);

 

 

 

 

 

 

 

 

V I I — неплотная линейная

конфигурация

тривакан-

син

в направлении

типа

<11~20>;

переход

к «стабильной»

конфигурации

происходит за

четыре перехода

атомов (атом

1 — в

положе­

ние 2, атом 3 — в положение

1, атом 4 — в по­

ложение

5; атом

6 — в

положение

4).

 

Рассмотренные

конфигурации

тривакансни

в

плоско­

сти спайности гексагональной решетки в различной сте­ пени нестабильны. З а меру нестабильности при этом рассмотрении мы принимали число диффузионных путей для превращения нестабильной конфигурации в стабиль­ ную.

Д л я образования

одной вакансии требуется

разорвать

12 связей

в объеме

и сформировать Є связей

на поверх­

ности. В случае дивакансии и тривакансии

требуется

разорвать,

соответственно, I I и

10 связей в объеме.

В общем случае можно показать, что поливакансия п —

— порядка

имеет энергию

связи

 

 

а энергия

образования

комплекса

составит

 

 

 

j n

) =

з + 4п

(53)

где Ее — энергия связи

в

решетке.

 

Если разделить значение энергии образования

комплекса

на число вакансий, то получится удельная энергия образо­

вания

комплекса, которая максимальна для

дивакансии

0,91

Ее и

монотонно

уменьшается до постоянной

величины

2

 

 

 

 

 

с

при

бесконечно

большом числе вакансий

в

комплек­

се. Что касается энергии связи комплекса, то ее удельная величина, получаемая при делении энергии связи комплек­

са на число вакансий в комплексе, равна для дивакансии -yipCc, а для поливакансии п — порядка - у - Ес.

Таким образом, д л я плоской конфигурации поливаканоий увеличение числа вакансий в комплексе приводит к снижению удельной энергии образования комплекса

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ