Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Троицкий О.А. Радиация и прочность твердых тел

.pdf
Скачиваний:
12
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
5.14 Mб
Скачать

ются лишь

объединения вакансий.

Внедренные

атомы

и их — ансамбли — более редкое

радиационное

повреж­

дение

и их

существование может быть

обусловлено

только

сохранением облученных

образцов

при

очень

низких

температурах

(в большинстве

случаев единицы

и десятки

градусов

Кельвина),

когда

энергия

тепло­

вых колебаний узлов

кристаллической

решетки еще

мала .

 

 

 

 

 

 

 

Внедренные атомы могут занимать в решетке раз­ личное положение, в зависимости от типа облуча­ емой кристаллической решетки. На рис. 5 показано по-

о

6-

 

в

.2

Р и с.

5. Положение внедренного атома и грансцентрировашюй

(а),

объёмноцентрнрованиоп

(б),

гексагональной

(в) и типа

 

алмаза (г)

решетках.

 

ложение

внедренных атомов

в гранецентрированной

(а), объемноцентрированной (б), кубических, гексаго­

нальной

(в), и в решетке типа

алмаза (г).

 

В полярных кристаллах, которые построены из элек­

трически

взаимодействующих

и

противоположно

заря ­

женных

ионов, расположенных

в

соседних узлах

решет­

ки, дело

усложняется тем, что

необходимо сохранение

условия электрической нейтральности в материале. В

ионных кристаллах возникают в близком

соседстве сра­

зу две вакансии — одна з а р я ж е н н а я

положительно,дру­

гая отрицательно. Такая пара, в

целом,

я в л я ю щ а я с я

нейтральным дефектом, называется

дефектом

по

Шотт-

ки. Энергия

ее образования

составляет

примерно

2 эв,

т. е. вдвое

больше,

чем одиночной

вакансии.

Энергия

активации

движения

такой

пары должна

быть

т а к ж е

больше, чем в случае одиночной вакансии. В этом зак­ лючается одна из причин наблюдаемой на опыте стой­ кости радиационных изменений в ионных кристаллах

(при сравнении с

большинством металлов) . В алмазе —

в самом

прочном

материале — энергия образования

ва­

кансии

примерно

в четыре раза больше, а энергия

ак­

тивации перемещения вакансии вдвое больше, чем в ме­ таллах . По этим причинам алмаз принадлежит к числу

тех

материалов,

в которых радиационные

нарушения-

оказываются наиболее стойкими и с трудом

отжигают­

ся. В других ковалентных материалах, таких

как

крем­

ний

и германий,

энергия образования вакансий

также-

существенно выше, чем в металлах. Таким образом, мы видим, что образование и существование простейшихточечных дефектов зависит от типа кристаллической ре­ шетки. Наиболее легко дефекты образуются и мигриру­ ют в решетке с металлическим типом связей.

Рассмотрев коротко природу одиночных точечных де­ фектов, перейдем к рассмотрению их скоплений, посколь­ ку именно в скоплениях они могут существовать д л и ­ тельное время и со скоплениями дефектов большей частью связаны те изменения свойств, которые мы наб­

людаем в облученных материалах. М е ж д у

однотипны­

ми и разнотипными дефектами действуют

как далы-ю-

действующие, так и короткодействующие силы, приво­

дящие дефекты

в

направленное

движение

(движение

ж е

само

по

себе

обеспечивается

 

тепловыми

активация­

ми

в решетке,

находящейся

при

 

той или иной

темпера­

туре) .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Выше

мы

уже

рассмотрели

 

простейшее скопление-

д е ф е к т о в — пару

вакансий

по

Шоттки. Могут

образо ­

вываться пары связанных межузельных атомов

или

п а ­

ры

нейтральных

вакансий,

 

или

дивакансии.

Энергия'

связи дивакансии в металлах составляет примерно 0,5

эв,

а энергия

 

их

образования

~0,3

эв.

К а к

видим,

ва­

кансиям

выгоднее

существовать,

объединяясь

в дива­

кансии, а не быть самостоятельными. К тому

ж е и энер­

гия

активации

 

перемещения

дивакансии

существенно'

меньше, чем энергия активации перемещения

вакансий

(соответственно

~ 0 , 6 эв

и ~

 

1

эв).

 

 

 

 

 

Процесс

объединения

вакансий может идти

дальше-

с образованием

 

комплексов

 

из

трех,

четырех,

пяти и

т. д. вакансий. Теоретические

расчеты

показывают,

что

тривакансия в металлах является некоторой переломной

точкой.

После нее присоединение дополнительных в а ­

кансий

уже стабилизирует конфигурацию и у м е н ь ш а е т

ее подвижность. Большую роль при росте числа

вакан­

сий в комплексе начинает играть объемная

конфигура­

ция скопления. Так, в

меди

была

найдена

устойчивая

конфигура­

ция из четырех вакан ­

сий

в форме

тетраэдра

с

атомом

в центре,

(рис.

6).

 

 

 

 

Энергия связи

такой

конфигурации

оказа­

лась

равной 0,54-2,8

эв,

а

энергия

активации

движения — уже

 

по­

рядка

2 эв. Таким

обра­

зом,

объединившись

в

 

 

конфигурации

из

четы­

'Рис. 6. Устойчивая

конфигурация че­

рех дефектов,

вакансии

становятся

малопод­

тырех вакансий в решетке меди в форме

тетраэдра с атомом в

центре (гранецен-

вижными .

 

 

трированная кубическая решетка).

Что

касается

внед­

 

 

ренных

атомов, то

про­

стейшей формой их объединения является так называе­ мый кроудион — выстраивание лишних атомов вдоль •направления плотной упаковки атомов. Частным случаем кроудиона является гантельная конфигурация атомов,

когда одно место в решетке занимается двумя

атомами

одновременно,

естественно,

с

некоторым

потесыением

соседей вдоль плотной упаковки атомов. Гантельная

кон­

фигурация внедренных атомов показана на рис. 7.

 

Как уже

указывалось,

в

конечном итоге

межузель-

•иые

атомы,

если их

объединению ничего

не

мешает,

•стремятся образовать

плоские

скопления в

виде

лиш­

них

атомных

плоскостей

в

кристаллической

решетке.

Наиболее подходящим местом для вклинивания

этих

•плоскостей в решетку являются места между

плотно-

упакованными

плоскостями,

т. е. плоскостями,

обладаю ­

щими наибольшей ретикулярной плотностью. Такие плоскости имеются в любой кристаллической решетке. Расстояния между такими плоскостями, измеренные по

нормам к

ним, являются наибольшими в решетке. Имен­

но

в этих

местах

удобно размещаются плоские скопле­

ния

внедренных

атомов. С такими местами связана ми-

нимальная энергия образования скоплений. Таким обра­ зом, внедренные атомы стремятся образовать дополни­ тельные плотноупакованные атомные плоскости. По краям таких плоскостей возникают дислокации.

Р и с . 7.

Гантельная

конфигурация

смещенных ато­

мов в гранецентрированион кубической решетке.

Подобным

же путем

могут объединяться вакансии.

Однако естественным результатом

объединения вакан­

сий будет у ж е

не создание участка

новой плоскости, а,

наоборот, уничтожение части ранее

существовавшей пло­

скости. Оба типа скоплений

показаны на рис.

8. Плос­

кие скопления такого типа

могут

объединять

сотни и

тысячи точечных дефектов. Они представляют собой де­ фекты упаковки с кольцевыми дислокациями вокруг них.

а

Р и с . 8. Скопление внедренных атомов (а) и вакансий (б).

Однако вернемся к объемным конфигурациям дефек­ тов. Наименьшей энергией обладают скопления в а к а н ­ сий в форме сферического пузырька. По мере роста пу­

зырька он постепенно принимает дискообразную

форму,,

а затем

может вообще захлопнуться опять ж е

с обра­

зованием

дислокационной

петли.

 

Отметим одну важную

особенность образующихся

при объединении внедренных атомов и вакансий дисло­ кационных петель, которая приобретает существенную роль при деформации решетки. Движение одиночной частичной дислокации приводит к удалению дефекта упаковки, представляющему собой вакансионную петлю,, тогда как для восстановления петли из внедренных ато­ мов требуются две частичные дислокации. Если в крис­ таллах отсутствует достаточная энергия для з а р о ж д е ­ ния двух частичных дислокаций, необходимых для вос­ становления петли на скоплении внедренных атомов, то,

возможно, будут устранены

вакансионные

петли,

петли

из внедренных атомов останутся нетронутыми

или толь­

ко уменьшатся в количестве.

К

вопросу

о

дислока­

циях мы вернемся еще позже.

 

 

 

 

 

 

Существуют два пути образования скоплений дефек­

тов. Первый путь заключается в постепенном

объедине­

нии однотипных дефектов и образовании скоплений

в

неповрежденной до этого области решетки. Такой

путь

называется гомогенным зарождением

скопления.

Не ­

большие скопления дефектов остаются подвижными,

но

после встречи с себе подобными

закрепляются

и с л у ж а т

в дальнейшем центрами конденсации других

дефектов

этого

типа.

 

 

 

 

 

 

 

Второй путь заключается в гетерогенном

зарожде ­

нии скоплений. При этом конденсация

дефектов проис­

ходит

на уже имеющихся в

кристалле

несовершенствах

кристаллической решетки. Такими местами могут слу­

жить скопления

примесных

атомов,

границы

з е р е н ' и

дислокации.

 

 

 

 

Второй путь

более реален

и чаще

встречается

по той

простой причине, что не существует идеальных кристал­ лических структур и реальная структура кристаллов изобилует различными несовершенствами строения и примесными атомами. Поэтому результат облучения можно успешно осмыслить, если проанализировать, ис­ ходя из реальной структуры твердого тела, влияние не-

совершенств в

кристаллах

на зарождение

скоплений

внедренных атомов и вакансий.

 

 

 

Примесные

атомы в кристаллах

служат

центрами

притяжения для внедренных

атомов

и вакансий,

обра­

зующихся при

облучении.

Дислокации служат

т а к ж е

•стоками для дефектов, только гораздо более мощными, чем примесные атомы. .Механизм оседания радиационных дефектов на дислокациях зависит в первую очередь от типа дислокации. В случаях краевой и винтовой дисло­

каций

эти механизмы резко

отличаются.

 

 

В разделе, посвященном дислокациям, эти вопросы

рассматриваются более подробно. Отметим здесь

толь­

ко, что в окрестностях краевых дислокаций

имеются

растянутые

области

(в- направлении

оборванного

края

экстраплоскости). Именно в эти места стремятся

пере­

меститься внедренные атомы. Здесь они могут

образо­

вывать целые

атмосферы (атмосферы

Коттрелла),

кото­

рые

препятствуют

перемещению дислокаций

или, в

случае медленного движения

дислокации, перемещают­

ся за

ней как хвост.

 

 

 

 

 

В

случае ж е винтовой 'дислокации,

которая

не

обла­

дает полем растягивающих напряжений, притяжение внедренных атомов не имеет место, по вакансии могут притягиваться в связи с тем, что в районе винтовой дис­ локации существуют немалые напряжения, а вакансии способны уменьшать энергию поля напряжений. По­ скольку вакансии притягиваются к дислокациям обоего типа, а внедренные атомы только к краевым дислока­ циям, последние имеют больше возможностей к гомо­ генному образованию скоплений дефектов.

Однако чаще всего увеличенная концентрация де­ фектов вблизи дислокаций приводит к предпочтитель­ ному зарождению скопления именно в районе дислока­ ций.

Радиационные дефекты могут поглощаться ступень­ ками на дислокациях. На рис. 9 показана ступенька на дислокации, которая может двигаться вправо или вле­ во в зависимости от того присоединится к ней вакансия или внедренный атом.

Таким образом, дислокации могут играть' двоякую роль в кристалле. С одной стороны, являясь мощными центрами притяжения д л я точечных дефектов, они способ­ ствуют зарождению скоплений дефектов. Вместе с тем

 

 

 

 

 

 

 

они ж е при своем движе ­

 

 

 

 

 

 

 

нии,

или

просто выступая

 

 

 

 

 

 

 

стоком для точечных де­

 

 

 

 

 

 

 

фектов,

уменьшают

число'

 

 

 

 

 

 

 

точечных

дефектов,

спо­

 

 

 

 

 

 

 

собных

к

объединению

в

 

 

 

 

 

 

 

скопления. Например,

эк­

 

 

 

 

 

 

 

страплоскость

в

краевой

 

 

 

 

 

 

 

дислокации

может

интен­

 

 

 

 

 

 

 

сивно поглощать внедрен­

 

 

 

 

 

 

 

ные

атомы,

увеличиваясь

 

 

 

 

 

 

 

в

длине,

или

поглощать

 

 

 

 

 

 

 

вакансии,

наоборот,

сок­

 

 

 

 

 

 

 

р а щ а я с ь

в

длине.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Центром

зарождения

Р и с .

9. Перемещение

ступеньки на

скопления

дефектов

мо­

гут

служить

т а к ж е

пики

дислокации, в

зависимости от того,

смещений,

 

возникающие

присоединяется

«пі к пей

вакансия

 

 

или внедренный

атом.

 

 

во время облучения

мате­

 

 

 

 

 

 

 

риала

 

нейтронами.

При

плотности потока

нейтронов-

2

jQia

нейтрон

за

неделю

в меди образуется

примерно

101 6

 

 

см'сек,

внедрен­

 

скоплений

ных

атомов

и

несколько

меньше

скоплений

вакан ­

сий. Причем

расчеты

показывают,

что

скопления

вне­

дренных атомов

содержат

около

100

дефектов,

а

скоп­

ления вакансий — до 200.

Если

 

облучение

проводится

длительное

время, то

скорость

образования

скоплений

может уменьшиться

в

связи

с тем,

что

возникнет

пере­

крытие областей

повреждений,

и ранее

образовавшиеся

скопления будут притягивать и поглощать вновь возник­ шие зародыши скоплений.

В заключение отметим, что механические свойства облученных материалов, в основном, зависят от взаимо­ действия неподвижных скоплений дефектов со скользя­ щими дислокациями. Маловероятно, чтобы скользящие дислокации могли образовываться как результат объе­

динения

радиационных

дефектов

или

непосредственно

во время

облучения, поэтому наиболее естественно ожи­

дать,

что

в результате

облучения

существенно увели­

чится

напряжение, необходимое д л я

начала пластичес­

кой деформации материала. Опыт подтвердил этот вы­ вод.

§ 6. Отжиг радиационных нарушений

Остановимся теперь коротко на возможности про­ цессов возврата или отжига радиационных дефектов.

Каждой данной температуре отвечает существова­ ние в решетке термодинамически равновесного числа вакансий и внедренных атомов. Поскольку вакансии об­ разуются примерно в пять раз легче внедренных -ато­ мов, равновесными тепловыми точечными дефектами являются, а основном, вакансии.

Если температура кристалла увеличивается, то в ма­ териале рождаются новые вакансии и общее число их

опять

будет

соответствовать

термодинамическому

рав­

новесию. При понижении температуры, наоборот,

часть

дефектов исчезнет тем или иным

путем.

 

 

В

случае

облучения решетки

быстрыми

частицами

число

вакансий и внедренных

атомов резко

увеличива­

ется и становится в вопиющее противоречие

с термоди­

намическими возможностями решетки. Вполне естест­

венно, кристаллическая

решетка

стремится

избавиться

от навязанных ей извне

лишних

дефектов.

В связи с

этим начинаются процессы возврата или отжига дефек­

тов,

в

ходе

чего

уменьшается

общее

число вакансий

и

внедренных

атомов.

 

 

 

 

 

Таким

образом, когда

концентрация

дефектов

в

твердом

теле превышает

равновесную

концентрацию,

то эти

дефекты

начинают

двигаться,

взаимодействовать

друг

с

другом,

с внутренними

стоками в

кристалле,

а

т а к ж е

с

поверхностью образца

с тем,

чтобы уменьшить

свободную энергию кристалла. В процессе отжига де­ фектов, особенно при высоких температурах, могут пол­

ностью

исчезнуть лишние

дефекты,

а вместе

с ними

исчезнут и те

изменения

свойств

материала,

которые

были

связаны

с облучением.

 

 

Процессы отжига в решетке многолики, они гораздо разнообразней, чем причины, вызвавшие их. Действи­ тельно, одиночные дефекты стремятся друг к другу и образуют двойные дефекты. Двойные дефекты двига­ ются у ж е быстрее. Они могут соединяться как с одиноч­ ными дефектами, так и с двойными, тройными и т. д.

дефектами. Скопления

четырех,

пяти

и

т. д. стано­

вятся у ж е малоподвижными,

но

и они

в процессе отжи­

га могут увеличиваться

или

уменьшаться

в зависимое-

ти от того

однотипный или

противоположный

дефект

подходит к скоплению. Таким

образом,

в твердом теле

происходит

сразу множество

процессов

отжига,

кото­

рые характеризуются различными скоростями. Процес­ сы с небольшой энергией активации (например, объеди­ нение дивакансий) протекает быстрее, а с высокой энергией активации — существенно медленнее. Сущест­ вуют области температур с постоянной энергией акти­ вации, их обычно разделяют области отжига, в которых энергия активации постоянно растет с увеличением тем­ пературы. Эти стадии отжига носят название переход­ ного отжига.

Чтобы понять природу происходящего процесса отжига необходимо изучать одновременно возврат нескольких •свойств твердого тела. Как это реально делается? Во-первых,

облучение материала

проводится такого рода частицами, ко­

торые дают дефекты

только

одного ИЛИ двух

типов с бо­

лее ИЛИ менее равномерным

распределением

их в объеме

материала. Этим целям отвечают, например, быстрые элек­

троны (энергии выше 1 Мзв)

и 7 — кванты,

испускае

ые

изотопом Со 0 0 , также обладающие энергией несколько

вы­

ше 1Мэв. В обоих случаях в

материале образуются только

одиночные внедрённые атомы и вакансии.

 

 

Во-вторых, объекты берутся строго одинаковых раз­

меров, чтобы роль поверхности в процессах

отжига

бы­

ла одинаковой. Подготовка образцов к опыту, их внут­

ренняя структура должны

быть т а к ж е одинаковыми с

тем, чтобы условия по внутренним

стокам

для дефек­

тов были бы

равными.

 

 

 

В-третьих,

исследуется

возврат

сразу

нескольких

свойств облученного материала. Например, можно од­

новременно

исследовать (на разных образцах

из од­

ной и той

ж е партии) изменение механических

свойств

и внутреннего трения материала, провести дилатометри­ ческие измерения, изучить электрические свойства и оп­ ределить потери накопленной энергии в облученных образцах . Именно такой комплексный подход предопре­

делит

успех

исследования.

 

 

По изменению механических свойств и внутреннего

трения

можно

определить

взаимодействие

радиацион­

ных дефектов

со скользящими дислокациями. Из дила­

тометрических

исследований можно сделать заключе­

ние о

типе взаимодействия

дефектов между

собой, а из

электрических

свойств — о

порядке

происходящих

ре­

акций и энергиях активации. Эти

ж е сведения

могут

быть определены и уточнены из опытов с оценкой

по­

терь накопленной в результате облучения энергии.

 

Многочисленные исследования показывают, что про­

цессы отжига

затрагивают

сначала

внедренные

атомы.

Раньше мы уже указывали,

что они

имеют энергию

ак­

тивации перемещения примерно в десять раз меньше

энергии

активации перемещения

вакансий.

Сначала

происходит рекомбинация внедренных

атомов

с

близле­

ж а щ и м и

неподвижными

вакансиями.

Затем

могут

об­

разоваться комплексы из внедренных атомов

и

вакан­

сий. З а

этим

следует

спаривание

внедренных

атомов

между собой

и образование скоплений

внедренных

ато­

мов. Дальнейшее повышение температуры может при­ вести к распаду комплексов из внедренных атомов и примесных атомов, а т а к ж е к растворению скоплений внедренных атомов. В это время начинают у ж е дви­ гаться вакансии. Они образуют ди- и три вакансии. За ­ тем возникают скопления вакансий. Часть вакансий гибнет при встрече с внедренными атомами. Одним сло­ вом, процессы отжига, действительно, чрезвычайно сложны и многолики. Дополнительную неопределен­ ность вносит присутствие в твердом теле различных не­ совершенств структуры.

В последнее время процессы отжига радиационных дефектов стали успешно изучаться с помощью электрон­

ных вычислительных

машин.

Этим методом

представ­

ляется возможным

проверить

сразу много

вариантов

и выбрать тот из них, который

наиболее полно отвечает

экспериментальным

данным.

 

 

 

Г Л А В А

I I I

 

ДИ С Л О К А Ц И И

§1. Методы испытания на прочность

Основой д л я исследования-прочности твердых тел на протяжении многих десятков лет служили методы ме­ ханического испытания, в первую очередь растяжения и сжатия . Используют т а к ж е и более сложные напря­ женные состояния: изгиб, кручение и т. д.

49

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ