- •А.А. Лукин з.С. Лукина
- •Введение
- •1. Сплошной спектр рентгеновских лучей
- •2. Характеристический спектр рентгеновских лучей
- •3. Поглощение рентгеновских лучей
- •4. Ослабление первичного рентгеновского излучения
- •5. Рассеивание рентгеновских лучей кристаллической решеткой (монокристаллом)
- •6. Интерференция в поликристаллических веществах
- •7. Основные методы исследования структуры
- •7.1. Метод неподвижного монокристалла (метод Лауэ)
- •7.2. Метод вращающегося монокристалла
- •7.3. Метод порошка
- •8. Дифрактометрия
- •8.1. Рентгеновские дифрактометры
- •8.2. Юстировка дифрактометра
- •8.3. Приставки к дифрактометру для высокотемпературных (гпвт-1500) и низкотемпературных (урнт-180) исследований
- •9. Текстура. Полюсные фигуры
- •9.1. Понятия текстуры
- •9.2. Разновидности текстур
- •9.2.1. Систематизация по Вайссенбергу
- •9.2.2. Волокнистые (аксиальные) текстуры
- •9.2.3. Простые аксиальные текстуры
- •9.2.4. Спиральная и кольцевая аксиальные структуры
- •9.3. Стереографическая проекция
- •10. Методы исследования и классификация текстур
- •10.1. Основные положения, используемые для описания текстурообразования при деформации
- •10.2. Текстуры протяжки
- •10.3. Текстуры прокатки
- •10.3.1. Текстуры прокатки металлов с о. Ц. К. Решеткой
- •10.3.2. Рассеяние текстуры прокатки металлов с о. Ц. К. Решеткой
- •10.3.3. Текстуры прокатки металлов с г. Ц. К. Решеткой
- •10.3.4. Рассеяние текстуры прокатки металлов с г. Ц. К. Решеткой
- •11. Методы съемки текстур
- •11.1. Рентгеновский метод
- •11.2. Фотографический метод
- •11.3. Метод съемки на просвет
- •11.4. Построение полюсных фигур по рентгенограммам
- •11.5. Приготовление образцов
- •Контрольные вопросы
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •8.1. Рентгеновские дифрактометры………………..……71
- •394026 Воронеж, Московский просп., 14
11.2. Фотографический метод
Чаще всего волокнистые текстуры определяют методом съемки с вращением. Рентгеновский луч обычно падает перпендикулярно оси проволоки. Чтобы получить сведения о возможно большем числе плоскостей решетки, рекомендуется использовать для тонких проволок дебаевскую камеру с цилиндрической пленкой (съемка слоевых линий). Однако образец не будет омываться рентгеновским пучком, если он толще, чем диаметр круглого отверстия диафрагмы, выбранной для съемки. В таких случаях можно уменьшить толщину образца, удалив внешние слои; при этом, однако, следует иметь в виду, что текстура в общем неоднородна, т. е. различна во внешних и внутренних слоях. Съемка с обычным расположением, когда ось проволоки перпендикулярна падающему лучу, не позволяет отличить одну от другой спиральную и двойную коническую волокнистые текстуры. Для кубических металлов они не отличаются также и от текстурограмм обычной волокнистой текстуры с рассеянием. В противоположность этому одинарную коническую текстуру можно узнать, потому что текстурограмма несимметрична относительно экватора. Возникновение такой асимметричной картины показано на рис. 64. при помощи сферы проекций.
|
Рис. 64. Возникновение несимметричных почернений |
11.3. Метод съемки на просвет
Образец из исследуемого листа величиной от нескольких квадратных миллиметров до нескольких квадратных сантиметров, стравленный до возможно меньшей и равномерной толщины, укрепляется в простом держателе. Держатель образца имеет ось вращения, например вертикальную, снабженную угловой шкалой. Образец крепится в держателе таким образом, чтобы определенное направление (чаще всего направление прокатки) совпадало с осью вращения.
В исходном положении образец стоит перпендикулярно к падающему лучу, как это показано на рис. 65. Это положение соответствует γ = 0°, где γ угол поворота вокруг вертикальной оси держателя образца. Угол γ увеличивается при повороте образца в направлении часовой стрелки, если смотреть сверху. Если смотреть на пленку от рентгеновской трубки, то левая сторона образца будет приближаться к пленке, а правая - удаляться от нее. Когда образец находится в исходном положении, снимают первую рентгенограмму. Затем его поворачивают в направлении часовой стрелки на любой определенный угол, обычно равный 10°, т. е. ;γ= 10° и Делают вторую съемку. После нового поворота образца на γ = 20° следует третья съемка и т. д. до γ = 80°.
|
Рис. 65. Схема расположения: образец (Р) — пленка (F) при определение текстуры фотометодом |
При съемке текстурограмм следует учитывать, что интенсивность уменьшается пропорционально квадрату расстояния от фокусного пятна трубки - до пленки. Чтобы по возможности сократить репозицию, необходимо выбирать короткое расстояние. Но, с другой стороны, при малом расстоянии сильно уменьшается диаметр дебаевского кольца, а следовательно, расшифровка становится неточной. Как правило, выбирают такое - расстояние, чтобы диаметр дебаевского кольца составлял 5 - 8 см.