
- •Общие сведения об электронных приборах
- •1.1. Классификация
- •1.2. Режимы, характеристики и параметры электронных приборов
- •1.3. Модели электронных приборов
- •Электрофизические свойства полупроводников
- •2.1. Концентрация носителей заряда в равновесном состоянии полупроводника
- •2.1.2. Метод расчета концентраций
- •2.1.3. Условие электрической нейтральности
- •2.1.4. Концентрация основных и неосновных носителей в примесных полупроводниках
- •2.1.5. Положение уровня Ферми в полупроводниках
- •2.1.6. Распределение носителей заряда по энергии
- •2.2. Неравновесное состояние полупроводника
- •2.2.1. Неравновесная и избыточная концентрации носителей заряда
- •2.2.2. Плотность тока в полупроводнике
- •2.2.3. Уравнение непрерывности
- •Глава 3 электрические переходы в полупроводниковых приборах
- •3.1. Электрические переходы
- •3.2. Электронно-дырочный переход в равновесном состоянии
- •3.3. Электронно-дырочный переход в неравновесном состоянии
- •3.4. Вольт-амперная характеристика идеализированного р-n-перехода
- •3.5. Вольт-амперная характеристика реального р-n-перехода
- •3.6. Параметры и модель р-n-перехода в динамическом режиме
- •3.7. Частотные свойства p-n-перехода
- •3.8. Импульсные свойства р-n-перехода
- •3.9. Контакт металл - полупроводник и гетеропереходы
- •Разновидности полупроводниковых диодов
- •4.1. Классификация
- •4.2. Выпрямительные диоды
- •4.3. Стабилитроны и стабисторы
- •4.4. Универсальные и импульсные диоды
- •4.5. Варикапы
- •4.6. Туннельные и обращенные диоды
- •Технологии производства полупроводниковых диодов
- •Биполярные транзисторы Принцип действия биполярного транзистора. Режимы работы Общие сведения
- •Физические процессы в бездрейфовом биполярном транзисторе
- •Эффект Эрли
- •5.2. Электрическая модель биполярного транзистора в статическом режиме (модель Эберса - Молла)
- •5.3. Статические характеристики биполярных транзисторов
- •5.3.2. Схема с общим эмиттером
- •5.3.3. Влияние температуры на статические характеристики бт
- •5.4. Дифференциальные параметры биполярного транзистора в статическом режиме
- •Квазистатический режим биполярного транзистора в усилительном каскаде Графоаналитическое рассмотрение при большом сигнале
- •Биполярный транзистор в квазистатическом режиме как линейный четырехполюсник
- •5.6. Нелинейная и линейная динамические модели биполярного транзистора
- •5.6.1. Нелинейная динамическая модель биполярного транзистора
- •5.6.2. Линейная (малосигнальная) модель биполярного транзистора
- •Тиристоры
- •6.1. Транзисторная модель диодного тиристора (динистора)
- •6.2. Вольт-амперная характеристика динистора
- •6.3. Тринистор
- •6.4. Симметричные тиристоры (симисторы)
2.1.2. Метод расчета концентраций
Концентрация электронов n в зоне проводимости и концентрация дырок р в валентной зоне могут быть представлены следующими общими выражениями:
;
(2.1)
;
(2.2)
Величины
и
– плотности
квантовых состояний, Функция
в (2.1) есть вероятность того, что состояние
с энергией
занято электроном. Соответственно
означает
вероятность отсутствия электрона на
уровне в валентной зоне, т.е. вероятность
существования дырки.
При квантово-механическом рассмотрении установлено, что
(2.3)
(2.4)
где h
– постоянная Планка;
и
– эффективные массы электронов и
дырок.
Вероятностная функция f() в (2.1) и (2.2) определяется по формуле
(2.5)
которая называется
функцией
распределения Ферми-Дирака.
В этой функции k
– постоянная
Больцмана, Т – абсолютная температура,
а
– энергия уровня Ферми. Очевидно, что
при
.
Поэтому формально уровнем Ферми
является уровень, вероятность нахождения
электрона на котором равна 0,5 (рис. 2.2).
При Т > 0 К функция имеет плавный, но
быстрый спад приблизительно в интервале
значений энергии ±2kT
около уровня
.
При комнатной температуре (T=300
К) kT=
0,026 эВ, т.е. ±2kT=
±0,052 эВ, что значительно меньше
,
составляющего единицы электронвольта.
Вероятность
при
,
и
при
.
Функцию распределения
необходимо «привязывать» к зонной
диаграмме полупроводника. Как правило,
для этого надо знать, где находится
уровень Ферми. У обычно используемых
полупроводников
находится в запрещенной зоне: вn-полупроводнике
– на «расстоянии»
>>2kT
от дна зоны проводимости, а в р-полупроводнике
– на расстоянии
>>
2kT от
потолка валентной зоны и в формуле
(2.5) можно пренебречь в знаменателе
единицей, т.е. функция распределения
Ферми-Дирака сводится приближенно к
функции распределения Максвелла-Больцмана:
(2.6)
Полупроводники, для которых справедлива функция распределения Максвелла- Больцмана, называют невырожденными. Для них характерно то, что число частиц значительно меньше числа разрешенных состояний. Если в полупроводнике уровень Ферми доказывается в интервале 2kT вблизи границ зон или внутри этих зон, то следует пользоваться только функцией распределения Ферми-Дирака, а состояние полупроводника становится вырожденным.
(2.7)
(2.8)
Формулы (2.7) и (2.8)
являются универсальными, так как
применимы для расчета концентраций
в любых типах полупроводников: собственном
(типа i)
и примесных (типов п
и р).
Коэффициенты
и
следует
трактовать как эффективное число
состояний, расположенных на границах
зон (уровней
и
,
которые только и входят в формулы).
Значения
и
для кремния и германия составляют
примерно 1019
см-3.
Формулы (2.7) и (2.8)
следует также понимать как отражение
взаимосвязи между концентрацией
(числом носителей) и уровнем Ферми. Если
известно значение
,
то можно вычислить концентрации п
и
р,
соответствующие
этому значению
.
Если же известна концентрация п
(или р), то можно вычислить соответствующее
ей значение
.
Формула для
в
этом случае получается из (2.7) или (2.8),
но значение в результате расчета,
естественно, должно получиться одинаковым:
(2.9)
Одинаковый результат является следствием имеющейся связи между значениями концентраций п и р, т.е. связи между полным числом носителей в зоне проводимости и валентной зоне. Рассмотрим эту связь.
Используя (2.7) и (2.8), найдем произведение концентраций:
Так как ширина
запрещенной зоны
(2.10)
Применим (2.10) для
собственного (чистого, беспримесного)
полупроводника, в котором концентрация
электронов и дырок одинакова
.
Получим формулу
(2.11)
которую можно использовать для расчета концентраций носителей в собственном полупроводнике, не зная положения уровня Ферми:
(2.12)
или преобразования формулы (2.10) до вида
(2.13)
Смысл этого соотношения состоит в том, что увеличение концентрации частиц с одним знаком заряда сопровождается уменьшением концентрации частиц с другим знаком. Такая зависимость объясняется тем, что при увеличении, например, концентрации электронов п обязательно пропорционально увеличится и вероятность рекомбинации носителей, в результате чего будет пропорционально убывать концентрация дырок р.
Расчет по формуле
(2.12) дает следующие значения
:
дляGe
– 2,4 1013
см-3;
для Si
– 1,45 1010
см-3
; для GaAs
– 1,79 106
см-3.
Превышение ширины запрещенной зоны
кремния по сравнению с германием
всего в 1,12/0,66=1,7 раза привело к уменьшению
концентрации собственных носителей
приблизительно в 103
раз.