- •Общие сведения об электронных приборах
- •1.1. Классификация
- •1.2. Режимы, характеристики и параметры электронных приборов
- •1.3. Модели электронных приборов
- •Электрофизические свойства полупроводников
- •2.1. Концентрация носителей заряда в равновесном состоянии полупроводника
- •2.1.2. Метод расчета концентраций
- •2.1.3. Условие электрической нейтральности
- •2.1.4. Концентрация основных и неосновных носителей в примесных полупроводниках
- •2.1.5. Положение уровня Ферми в полупроводниках
- •2.1.6. Распределение носителей заряда по энергии
- •2.2. Неравновесное состояние полупроводника
- •2.2.1. Неравновесная и избыточная концентрации носителей заряда
- •2.2.2. Плотность тока в полупроводнике
- •2.2.3. Уравнение непрерывности
- •Глава 3 электрические переходы в полупроводниковых приборах
- •3.1. Электрические переходы
- •3.2. Электронно-дырочный переход в равновесном состоянии
- •3.3. Электронно-дырочный переход в неравновесном состоянии
- •3.4. Вольт-амперная характеристика идеализированного р-n-перехода
- •3.5. Вольт-амперная характеристика реального р-n-перехода
- •3.6. Параметры и модель р-n-перехода в динамическом режиме
- •3.7. Частотные свойства p-n-перехода
- •3.8. Импульсные свойства р-n-перехода
- •3.9. Контакт металл - полупроводник и гетеропереходы
- •Разновидности полупроводниковых диодов
- •4.1. Классификация
- •4.2. Выпрямительные диоды
- •4.3. Стабилитроны и стабисторы
- •4.4. Универсальные и импульсные диоды
- •4.5. Варикапы
- •4.6. Туннельные и обращенные диоды
- •Технологии производства полупроводниковых диодов
- •Биполярные транзисторы Принцип действия биполярного транзистора. Режимы работы Общие сведения
- •Физические процессы в бездрейфовом биполярном транзисторе
- •Эффект Эрли
- •5.2. Электрическая модель биполярного транзистора в статическом режиме (модель Эберса - Молла)
- •5.3. Статические характеристики биполярных транзисторов
- •5.3.2. Схема с общим эмиттером
- •5.3.3. Влияние температуры на статические характеристики бт
- •5.4. Дифференциальные параметры биполярного транзистора в статическом режиме
- •Квазистатический режим биполярного транзистора в усилительном каскаде Графоаналитическое рассмотрение при большом сигнале
- •Биполярный транзистор в квазистатическом режиме как линейный четырехполюсник
- •5.6. Нелинейная и линейная динамические модели биполярного транзистора
- •5.6.1. Нелинейная динамическая модель биполярного транзистора
- •5.6.2. Линейная (малосигнальная) модель биполярного транзистора
- •Тиристоры
- •6.1. Транзисторная модель диодного тиристора (динистора)
- •6.2. Вольт-амперная характеристика динистора
- •6.3. Тринистор
- •6.4. Симметричные тиристоры (симисторы)
3.7. Частотные свойства p-n-перехода
Будем считать, что к р-n-переходу кроме постоянного прямого напряжения U приложено синусоидальное напряжение с малой амплитудой Um и частотой . Частотные свойства p-n-перехода можно характеризовать зависимостью от частоты отношения амплитуд тока и напряжения, т.е. комплексной проводимостью . Для расчета проводимости формально можно использовать эквивалентную схему (линейную модель), приведенную на рис. 3.23,б, если уже известны частотные зависимости величин ее элементов. Мы уже отмечали, что барьерная емкость от частоты не зависит, а диффузионная емкость убывает с повышением частоты. О частотной зависимости дифференциального сопротивления речи вообще не было.
Достаточно строгое решение задачи без привлечения модели о частотной зависимости диффузионной емкости и дифференциального сопротивления проводится на основе фундаментального уравнения полупроводниковой электроники – уравнения непрерывности (см. § 2.2.3).
При рассматриваемом прямом включении р-n-перехода предполагается, что в емкости Сд преобладает диффузионная емкость, так что , а проводимость
(3.63)
Приведем без расчета результаты, полученные для p-n-перехода с размерами областей, много большими соответствующих диффузионных длин носителей заряда. На низких частотах дифференциальное сопротивлениеrД имеет такое же значение, так и Rдиф, определенное по ВАХ. Значение диффузионной емкости оказывается в 2 раза меньше, чем определенное по формуле (3.61). На высоких частотах дифференциальное сопротивление rД убывает примерно обратно пропорционально (как и диффузионная емкость), а проводимость1/rД соответственно растет.
За критерий «низкой» частоты берутся значения от p<< 1 и n <<1, где p и n – времена жизни неосновных носителей в областях. За критерий «высокой» частоты берутся значения p>>1 и n>>1.
На рис. 3.24 показаны зависимости дифференциальной проводимости и диффузионной емкости от нормализованной частоты, при этом для упрощения предполагался асимметричный переход. Значения величин нормированы к низкочастотным значениям 1/Rдиф и Сдф о [4].
3.8. Импульсные свойства р-n-перехода
Под импульсными свойствами p-n-перехода обычно понимают переходные процессы, происходящие при скачкообразном изменении полярности напряжения на р-n-переходе и прохождении через него импульса тока.
3.8.1. Переходные процессы при скачкообразном изменении полярности напряжения
Этот случай соответствует переключению p-n-перехода из проводящего состояния в непроводящее, схематично представленному на рис. 3.25, где вместо реального импульсного генератора, обеспечивающего переключение от прямого напряженияUr1 к обратному – Ur2 (рис. 3.26,а), использованы два источника с напряжениями Ur1 и Ur2 и ключ К.
Для ограничения обратного тока включен резистор R. В положений 1 ключа через р-n-переход протекает прямой ток Iпр (рис. 3.26,б), а на переходе существует прямое напряжение (рис. 3.26,в). После переключения в р-n-переходе должен протекать обратный ток, изменение которого можно пояснить с помощью распределения концентрации неосновных носителей в базовой области, за которую принята n-область (Nа>>Nд).
Исходное распределение концентрации дырок вn-области рn(х) до переключения (t < 0) изображено кривой 1 на рис. 3.27. Разность рn - рn0 представляет собой концентрацию избыточных дырок, накопленных в базе. Значение рn(0) при х = 0 соответствует границе обедненного слоя (перехода). Распределение концентрации дырок в базе и значение ее на границе обедненного слоя х = 0 после скачка напряжения не может измениться мгновенно из-за конечной скорости носителей. Поэтому не может измениться мгновенно и напряжение на самом переходе (см. рис. 3.26, в), и некоторое время (до момента t1) оно остается прямым. Однако через достаточно большое время (условно ) распределение концентрации дырок в базе установится и будет изображаться кривой 2 (рис. 3.27), соответствующей статическому обратному напряжению Ur2 (см. рис. 3.11). Распределения в промежуточные моменты времени заключены между кривыми 1 и 2.
Получается, что в интервале 0...t1 на р-n-переходе действует прямое напряжение, однако через него протекает обратный ток Iобр m (см. рис. 3.26,6), определяемый из рис. 3.25 соотношением
При Ur2 >> Unp ток Iобр m Ur2/R, т.е. определяется приложенным обратным напряжением и сопротивлением R в цепи. Ток Iобр m при малом сопротивлении R может быть очень большим. Значение R выбирается для ограничения тока Iобр m, но все равно оказывается на несколько порядков больше теплового тока Iо перехода, который устанавливается в конце переходного процесса (рис. 3.26,б).
Происхождение обратного тока при прямом напряжении на переходе объясняется тем, что после отключения напряжения Ur1 прекращается инжекция дырок в базу, т.е. исчезает причина, поддерживающая концентрацию избыточных дырок. Поэтому избыточные дырки (как неосновные носители) ускоряющим полем обедненного слоя начнут переноситься в р-область. Уход дырок приводит к изменению знака градиента dpn/dx около границы перехода даже при небольшом уменьшении концентрации (кривые на рис. 3.27 при 0 < t < t1) накопленных дырок. Знак dpn/dx соответствует направлению обратного тока из n-области в р-область. Пока у границы обедненного слоя (х = 0) имеется достаточное число неосновных носителей, р-n-переход способен пропускать большой ток в обратном направлении. После того как концентрация на границе станет равной концентрации pn0, при которой напряжение на переходе равно нулю, градиент и количество уходящих через обедненный слой дырок будет монотонно убывать. Обратный ток при этом стремится к значению теплового тока Iо, а скорость убывания тока определяется в основном временем жизни неосновных носителей (дырок в n-области).
Интервал 0...t1 принято называть временем рассасывания неосновных носителей (точнее большей их части). Это рассасывание можно трактовать также как процесс разрядки диффузионной емкости. Когда напряжение на р-n-переходе при t = t1 практически приближается к нулю, а затем становится обратным, диффузионной емкостью можно пренебречь (равна нулю). После момента t1 происходит рассасывание остальной части неосновных носителей вследствие ухода и рекомбинации. Практически за момент окончания этой стадии переходных процессов берут момент (t1 + t2), когда значение обратного тока уменьшается до 0,1Iобр м, или до 0,1Iпр, или другого значения, близкого к Iо. Интервал t2 принято называть временем восстановления обратного тока или обратного сопротивления (tвoc = t2). За это время обратное напряжение на переходе практически достигает значения напряжения генератора Ur2 (см. рис. 3.26,в). При этом происходит также расширение границ обедненного слоя, т.е. изменение (уменьшение) барьерной емкости. Установление обратного тока на второй стадии (t > t1)можно смоделировать барьерной емкостью и трактовать как ее зарядку, приводящую к увеличению количества зарядов в обедненном слое.
Таким образом, для описания переходных процессов в р-n-переходе можно использовать нелинейную модель (см. рис. 3.23, д), содержащую диффузионную и барьерную емкости. Очевидно, что для уменьшения длительности переходных процессов необходимо снижать значения барьерной и диффузионной емкостей.
3.8.2. Переходные процессы при воздействии импульса прямого тока
Импульс тока с амплитудойIпр (рис. 3.28,а) может быть получен с помощью генератора тока, в качестве которого можно использовать импульсный генератор напряжения с большим внутренним сопротивлением или сопротивлением, включенным последовательно с исследуемым р-n-переходом. Эти сопротивления должны быть много больше прямого сопротивления р-n-перехода.
До включения генератора тока базовая область (n-область) находилась в состоянии равновесия (не было избыточных дырок). После включения генератора дырки будут переноситься током из р-области в n-область. Для получения установившегося распределения и необходимого количества дырок в n-области требуется определенное время. Установившееся распределение показано кривой 4 на рис. 3.29. Кривые 3, 2 и 1 соответствуют распределению в предыдущие моменты времени. Однако наклон всех кривых (градиент dpn/dx) при х = 0 одинаков, так как он всегда должен обеспечивать один и тот же диффузионный ток Iпр ~ dpn/dx. Так как после включения происходит рост концентрации дырок pn на границе (х = 0) обедненного слоя и в самой базе, то одновременно происходит как плавный рост прямого напряжения на переходе, так и уменьшение объемного сопротивления базы Rб, на котором ток создает падение напряжения.
Поэтому следует рассматривать два случая. Если Iпр мал и падением напряжения IпрRб можно пренебречь, то изменение прямого напряжения р-n-перехода будет соответствовать рис. 3.28,б. При этом устанавливается напряжение Up. После окончания импульса тока на р-n-переходе сохраняется прямое напряжение, пока избыточные носители базы (дырки) не рекомбинируют.
При больших токах Iпр необходимо учитывать падение напряжения Uб = IпрRб и его изменение, вызванное уменьшением Rб по мере накопления носителей в базе. Этому случаю соответствует рис. 3.28,в. Вначале наблюдается скачок напряжения Uб. Затем идет плавный рост напряжения (обычно быстрый) и далее начинается спад до установившегося значения Uпр. Спад связан с уменьшением Rб. После окончания импульса тока (I = 0) напряжение на диоде скачком уменьшается на IпрRб, а затем убывает, как на рис. 3.28,б, пока не рекомбинируют все избыточные дырки в базе.
Длительность процесса установления прямого напряжения р-n-перехода характеризуется временем установления прямого напряжения или прямого сопротивления tycт. Это время отсчитывается от момента включения импульса тока до момента, при котором напряжение достигает значения 1,1Uпр.