- •Оглавление
- •1. Робота з радіоелементами
- •1.1 Електротехнічні і конструкційні матеріали. Способи обробки матеріалів. Електротехнічні матеріали
- •Конструкційні матеріали
- •1.2 Основні види радіоелементів. Маркування радіоелементів
- •Маркування радіоелементів
- •1.3 Індивідуальне завдання
- •Отримання та обробка скла
- •Обробка скла
- •Флюс (пайка)
- •Властивості
- •Застосування
- •Електромонтажні роботи при провідному монтажі
- •2.1 Основні інструменти для електромонтажу
- •2.2 Марки та перетини кабелів
- •Провода и кабели в системах автоматики
- •2.3 Механізми і способи пайки
- •2.4 Різновид паяльних станцій Паяльна станція quick203d esd lead free
- •Паяльна станція Solderite sgs-2005l
- •Паяльна станція Xytronic xy-137esd
- •2.5 Механізм і способи мікрозварювання Микросварка
- •Детектор скрытой проводки ms6818
- •Мережевий мультиметр ms8236
- •Пірометр лазерний безконтактний ms6530
- •3 . Електромонтажні роботи при друкованому монтажі
- •3.1 Основні технології виготовлення друкованих плат.
- •3.1 Основні технології виготовлення друкованих плат.
- •3.2 Матеріали, технологічне обладнання та оснастка для Створення друкованих плат.
- •Вертикальний hasl
- •Горизонтальний hasl
- •Іммерсійне золото
- •Іммерсійне срібло
- •3.3 Проектування тз для електрообладнання
- •Технічні характеристики.
- •Опис роботи.
- •Конструкція.
- •Комплексні роботи
- •4.1 Ознайомлення з електрообладнанням спет.
- •4.2 Ознайомлення з підприємствами радіо та електрообладнання України.
- •Аналіз продукції на відповідність дсту.
Детектор скрытой проводки ms6818
В комплекті: генератор і приймач
Пошук та локалізація обривів і прихованої проводки, металевих труб у стінах, в землі
Відображення на дисплеях приладів: рівня потужності, коду, залишкової ємності батареї, напруги в кабелі
Відображення напружень в діапазоні: 12 - 400 В
Налаштовувана чутливості приймача
Технічні характеристики приймача:
ідентифікація:
- В однополюсному режимі: 0-2м
- В двополюсної режимі: 0-0,5 м
Батарея: 1,5 В (тип АА, 4 шт.)
Вага (з батареєю): 275 г
Габарити: 241х78х38 мм
Технічні характеристики генератора:
Частота вихідного сигналу: 125 кГц
Ідентифікація зовнішньої напруги: DC / AC 12-400 В
Батарея: 1,5 В (тип АА, 6 шт.)
Вага (з батареєю): 420 г
Габарити: 190х89х42мм
Мережевий мультиметр ms8236
Перевірка телефоннфх ліній, мережевих кабелів
Розрядність дисплея: 1999 відліків
Постійна напруга: 200 мВ - 600 В
Змінна напруга: 200 мВ - 600 В
Постійний струм: 200 мкА - 10 А
Змінний струм: 200 мкА - 10 А
Опір: 200 Ом - 20 МОм
послідовність вимірювань
Режим "продзвонювання", діод-тест
Утримання показань: DATA HOLD
Автоматичний і ручний діапазони вимірювань
Режим автоматичного відключення живлення
Батарея: 9 В (тип "Крона", 1 шт.)
Вага (з батареєю): 400 г
Габарити: 186х88х55 мм
Пірометр лазерний безконтактний ms6530
Для бесконтактного измерения температуры
поверхностей твердых и жидких сред
Автоматический выбор диапазонов
Широкий спектр измерения температуры
Двойной цифровой LCD-дисплей с подсветкой
Отображение MAX, MIN, MAX-MIN значений на дисплее
Измерение в шкалах Цельсия и Фаренгейта
Лазерная указка
Функция хранения данных AUTO HOLD
Индикатор разрядки батареи
Автоматическое выключение питания через 10 секунд
Диапазон измерений:
-20°С ~ 50°С: ±2,5°С
50°С ~ 537°С: ±1°С
Коэффициент излучения измеряемых поверхностей: 0,95
Площадь охвата: 12:1
Разрешение: 0,1°С
Мощность лазера: <1mW
Индикация перегрузки «OL» или «-OL»
Температура эксплуатации: от 0°C до 40°C
Допустимая влажность: 10–90%
Батарея: 9V, тип «Крона»
Вес (с батареей): 300 г
Габариты: 190х155х56 мм
Упаковка: футляр
3 . Електромонтажні роботи при друкованому монтажі
3.1 Основні технології виготовлення друкованих плат.
Друкована плата - це конструктив електронного пристрою (ЕУ), що представляє собою жорстку або гнучку платівку з діелектрика (або металу, покритого діелектричної ком), що містить на поверхні плівкові провідники, службовці в подальшому для електричного з'єднання висновків різних виробів електронної техніки (ВЕТ) (на-приклад, ІС, діодів, транзисторів, резисторів, конденсаторів та ін), що встановлюються на пластинці.
3.1 Основні технології виготовлення друкованих плат.
В залежності від технологій формування шарів металізації і отримання малюнка комутуючих елементів розрізняють такі технології виготовлення ПП:
субтрактівниє (в яких використовуються фольговані діелектрики і фотохі-вів або хіміко-механічні (наприклад, офсетний друк) методи та спосо-би створення малюнка комутуючих елементів), коли малюнок провідників по-лучает видаленням шляхом травлення електропровідного шару (фольги) з ділянок поверхні , що утворюють непровідні (діелектричні) проміжки між коммутирующими елементами (тобто пробільні місця);
полуаддітівние (хіміко-гальванічні), коли малюнок елементів комутації отримують при селективному гальванічному осадженні провідного шару металев-зації на попередньо хімічно нанесений (зазвичай на діелектричне осно-вання) тонкий шар електропровідного (допоміжного) покриття, впоследст-вії видаляється з пробільних місць;
адитивні (хімічні), коли малюнок елементів комутації отримують при се-колективної хімічному осадженні шару металізації на діелектричне основа-ня;
з використанням прийомів товстоплівкових або тонкоплівкової технології;
рельєфні, коли малюнок комутації задається рельєфом, виконаним в діелек-тричним підставі, а з пробільних місць обкладена провідний шар металев-зації видаляється переважно шліфуванням;
комбіновані, коли для отримання елементів комутації застосовують ком-комбінації різних технологій (наприклад, субтрактивной і полуаддітівной, тон-копленочной і гальванічної та ін) в конкретних цілях (наприклад, для виробниц-ства ПП на основі фольгованого діелектрика з металізацією наскрізних отвер-стій; для виробництва мікрополоскових плат СВЧ-пристроїв; для виготовлення гнучких ПП (КП) та ін.)
Субтрактивна технологія (від латинського слова subtraho - витягувати, віднімати, уда-лять) є найпростішою і дешевої у виробництві ПП (мал.6.4). використовується
Мал.6.4. Основні етапи найпростішої субтрактивной технології виготовлення ПП на основі односторонньо фольгированного діелектрика: а - очищення заготовки; б - формуванні-ня малюнка комутації фотодруком (створення захисного рельєфу у вигляді участ-ков з фоторезиста); в - формування комутації (травлення фольги в місцях, не -захищених фоторезистом) і подальше видалення фоторезиста; г - свердління отворів і видалення захисного лаку; 1 - діелектричне підставу; 2 - мідна фольга, 3 - маскує рельєф з фоторезиста; 4 - наскрізний отвір.
найчастіше для отримання односторонніх ПП, внутрішніх шарів МПП і гнучких друкованих шлейфів. ОПП (і рідше ДПП), одержувані з даної технології можуть застосовуватися для з-приготування макетних або експериментальних зразків ЕУ на етапах їх розробки, по-кільки відсутність перехідних і монтажних металізованих отворів істотно обмежує застосування ПП, виконаних за даною технологією. Зокрема, через ис-користування фольгованих діелектриків ширина провідників і відстань між ними може бути отримано не менше 0,3 мм (через подтравливания фольги), а наявність неметали-зований отворів значно знижує надійність електричних і механічних со-єднань після монтажу на таких ПП навісних компонентів (електричне з'єднання виходить в цьому випадку на малих дільницях фольга - висновок компонента без механічно-го і електричного контакту зі стінками отвору). Тому найбільш поширеною у виробництві ПП є комбінована технологія, що представляє собою комбіна-цію субтрактивной і хіміко-гальванічної технології (її іноді називають усовершенст-вовало субтрактивной або комбінованої позитивної або негативної технологією).
Комбінована позитивна (чи негативна) технологія заснована на вико-вання субтрактивной технології та хіміко-гальванічної металізації перехідних і монтажних отворів (ріс.6.5 ... 6.8). Відмінності між ними полягають у тому, що захисний рельєф (з фоторезиста) в комбінованій позитивної технології створює зображення позитивного малюнка комутації, тобто відкриває робочі ділянки на шарі металізації (див. ріс.6.5 і 6.7), а в негативній - не робітники, тобто відкриває місця, що підлягають страв-Лівані (див. рис.6.6 і 6.8). Це відноситься до вітчизняних технологій, так як в закордон-них технологіях виробництва ПП прийнято розрізняти ці дві технології по типу рельєфу в шарі фоторезиста, а не по малюнку відкритих ділянок на шарі металізації, тому комбі-лося раніше позитивну технологію називають негативною, а негативну - позитивної . В подальшому, будемо дотримуватися вітчизняної термінології…
Адитивні технології (від латинського слова additio - додаток), в порівнянні з раніше розглянутими, дозволяють: збільшити щільність комутації (за рахунок вико-вання нефольгірованного діелектриків і селективної їх металізації, мінімальна ши-рина провідних доріжок і відстань між ними може становити 0,065 ... 0 , 15 мм); забезпечити високу однорідність і рівномірність шару металізації (так як металліза-цію поверхонь і отворів отримують в єдиному технологічному процесі); усунути подтравліваніе елементів комутації (за рахунок селективності осадження металу);
Полуаддітівная (хіміко-гальванічна) технологія заснована на хімічному осадженні тонкого (не більше 2 ... 3 мкм) шару міді по всій поверхні діелектрика, а потім селективного гальванічного дорощування міді. Попередня хімічна металліза-ція забезпечує електричний контакт для гальванічної металізації, а захисний рельєф з фоторезиста - селективність останньої (див. ріс.6.9). Основні особливості по-луаддітівной технології: застосування нефольгірованного діелектриків (як результат-них заготовок), поверхня яких покривають шаром (товщиною приблизно 60 мкм) адге-зіва (клейового композиційного полімерного матеріалу, наприклад, на основі епоксікаучу-ка) для додання поверхням адгезионной здібності, а також вирівнювання їх рельєфу
шляхом заповнення пір адгезивом;
Адитивна (хімічна) технологія відрізняється від полуаддітівной: застосуванням спеціальних нефольгірованного діелектричних заготовок, що містять (в просочують-щей смолі) мелкодісперсний каталізатор, що поліпшує адгезію хімічно осаджується міді; відсутністю гальванічного осадження металів; селективним хімічним обложено-ням міді; відсутністю операцій процесу травлення міді. Основні етапи виготовлення ПП по адитивної технології представлені на ріс.6.10. Така технологія дозволяє одержувати ширину друкованих провідників і зазори між ними до 65 мкм при товщині провідни-ків до 30 мкм. Це істотно підвищує щільність комутуючих елементів і відпо-ного монтажу компонентів на платі. Недоліки адитивної технології пов'язані, перш за все, з тим, що процес хімічного міднення - один з трудомістких і складних в техноло-ня циклі виробництва ПП (на його частку припадає 20 - 40% браку). Це пояснюється цілим рядом причин: низькою стабільністю розчину хімічного міднення, труднощами отримання якісних шарів великої товщини, складністю управління самим процесом хімічного осадження, трудомісткою попередньою підготовкою матеріалу основи пла-ти, а також гіршої адгезією і погіршеними фізико-хімічними властивостями хімічно обложеної міді в порівнянні з гальванічною через відмінності їх структур, що пов'язано зі специфікою процесів осадження.
Рельєфна технологія відрізняється від інших тим, що елементи комутації форми-руют в канавках, попередньо виготовлених на одній або двох поверхнях діелек-тріческого підстави. Основні етапи рельєфною технології представлені на ріс.6.11.
Особливості рельєфною технології: малюнок комутації задається рельєфом поверх-ностей заготовки, що отримуються в діелектричної заготівлі (зазвичай з пластичного полі-мірного матеріалу) пресуванням (штампуванням, тисненням) при невисокій температурі і невеликому тиску, або гравіюванням, або з застосуванням лазерного променя і ін ; метал-лізація здійснюється із застосуванням хімічної або хіміко-гальванічного обложено-ня, або вакуумним напиленням, або трафаретного печаткою; виявлення малюнка комутац-ції виконується видаленням шару металізації з неробочих плоских ділянок заготовки (зазвичай сошліфовиванія) до появи чітких обрисів рельєфу канавок.
