- •Глава 1. Введение в физику полупроводников.
- •1. Энергетические уровни твердого тела.
- •2. Зонная структура полупроводников и типы проводимости.
- •Законы распределения носителей в зонах полупроводника.
- •Концентрация носителей в собственном и примесном полупроводниках.
- •С ростом температуры, когда примесный полупроводник постепенно превращается в собственный, уровень Ферми смещается к середине запрещенной зоны.
- •Подвижность носителей.
- •6. Электропроводность.
- •7. Рекомбинация носителей.
- •8. Законы движения носителей в полупроводниках.
- •9. Кинетика носителей заряда в полупроводниках.
- •10. Эффект поля.
- •Глава 2. Электронно-дырочные переходы.
- •1. Основные определения.
- •2. Классификация p-n переходов.
- •3. Структура p-n перехода.
- •4. Анализ перехода в равновесном состоянии.
- •5. Анализ перехода в неравновесном состоянии.
- •6. Контакт металл-полупроводник.
- •Глава 3. Полупроводниковые диоды.
- •1.Исходные предпосылки.
- •3. Характеристические сопротивления.
- •4. Обратная характеристика реального диода.
- •5. Эквивалентная схема диода по постоянному току при обратном смещении.
- •Пробой p-n перехода.
- •7. Прямая характеристика реального диода.
- •8.Барьерная и диффузионная емкости диода.
- •9. Классификация диодов.
- •1) По технологическим методам создания электрических переходов и диодных структур
- •2) По выполняемой функции диодов.
- •1.Выпрямительные низкочастотные диоды. Они используются в источниках питания для выпрямления переменного тока.
- •3. Импульсные диоды. Предназначены для работы в импульсном режиме, т.Е. В устройствах формирования и преобразования импульсных сигналов, ключевых и цифровых схемах.
- •Глава 4. Биполярные транзисторы.
- •1. Введение.
- •2. Способы включения транзистора.
- •3. Распределение носителей в базе.
- •4. Модуляция толщины базы.
- •5. Статические характеристики транзистора.
- •6. Статические параметры транзистора.
- •7. Динамические параметры транзистора.
- •2. Коэффициент переноса. Для определения коэффициент переноса воспользуемся нестационарным уравнением диффузии:
- •8. Характеристики и параметры транзистора при включении с общим эмиттером.
- •9. Схема с общим коллектором
- •10. Разновидности дискретных транзисторов
- •Глава 5. Полевые транзисторы.
- •Введение.
- •2. Полевой транзистор с управляющим p-n переходом.
- •Крутизна характеристики:
- •Выходное сопротивление
- •3) Коэффициент усиления:
- •Цепь затвора характеризуется входным сопротивлением транзистора:
- •2. Полевые транзисторы с изолированным затвором.
- •2. Эквивалентные схемы полевых транзисторов.
- •Глава 6. Элементы интегральных схем.
- •3. Особенности устройств цифровых интегральных схем на биполярных транзисторах.
- •Глава 1. Усилительные каскады на биполярных транзисторах.
- •1.1. Усилительный каскад с общим эмиттером.
- •Расчет усилительного каскада по переменному току.
- •1). Средние частоты.
- •2). Нижние частоты.
- •3). Верхние частоты.
- •Глава 2. Усилители на полевом транзисторе с управляющим p-n-переходом и n-каналом.
- •1.1. Расчет усилительного каскада по постоянному току.
- •2.2. Расчет усилительного каскада по переменному току.
- •Сопротивление .
- •1). Основные расчетные соотношения в области средних частот.
- •2) Основные расчетные соотношения в области нижних частот.
- •3) Основные расчетные соотношения в области верхних частот.
Концентрация носителей в собственном и примесном полупроводниках.
Перемножая левые и правые части в формулах (1.12) и учитывая (1.9), нетрудно представить произведение концентраций электронов и дырок следующим образом:
.
(1..14)
Как видим, при неизменной температуре произведение концентраций - величина постоянная, т.е. увеличение одной из концентраций сопровождается уменьшением другой.
В собственном полупроводнике концентрации электронов и дырок одинаковы. Обе они обозначаются ni и называются собственными концентрациями. Подставляя n=ni и p=ni в (1.9) и извлекая квадратный корень, получаем выражение для собственной концентрации:
. (1.15)
Отметим
две важные особенности этого выражения.
Во-первых, собственная концентрация
очень сильно зависит от ширины запрещенной
зоны. С уменьшением ширины запрещенной
зоны увеличивается собственная
концентрация. Например, для кремния
=1,1В,
собственная концентрация ni=2*1010
см-3,
для германия
=0,67В,
собственная концентрация ni
=2*1013
см-3.
Во-вторых, собственная концентрация
очень сильно зависит от температуры
через величину
,
стоящую в показателе степени. Легко
заметить, что влияние температуры тем
сильнее, чем больше ширина запрещенной
зоны.
Соотношение (1.14) часто записывают в более компактной форме через собственную концентрацию:
np=ni2 . (1.16)
Это соотношение говорит о том, что увеличение концентрации одного типа носителей сопровождается уменьшением другого типа носителей. Так для электронных полупроводников, у которых n>>ni, имеем p<<ni , а для дырочных полупроводников, у которых p>>ni, имеем n<<ni.
Используя формулы (1.16), (1.15) и (1.14), и полагая для простоты Nc=Nv, нетрудно выразить концентрации n и p через собственную концентрацию ni:
;
(1.17a)
,
(1.17б)
где
– потенциал середины запрещенной зоны,
который иногда называют электростатическим
потенциалом полупроводника.
Используя выражения (1.17а) и (1.17б), легко получить уровень Ферми в двух формах:
;
(1.18a)
;
(1.18б)
Вторые члены в правых частях (1.18) , характеризующие концентрации носителей, называются химическим потенциалом. Следовательно, уровень Ферми является суммой электрического и химического потенциалов. Отсюда еще одно его название – электрохимический потенциал.
Из выражений (1.18) можно сделать следующие выводы:
в собственных полупроводниках, у которых n=p=ni уровень Ферми расположен в середине запрещенной зоны;
в дырочных полупроводниках, у которых p>ni, уровень Ферми лежит в нижней половине запрещенной зоны и тем ниже, чем больше концентрация носителей;
в электронных полупроводниках, у которых n>ni, уровень Ферми лежит в верхней половине запрещенной зоны и тем выше, чем больше концентрация дырок.
С ростом температуры, когда примесный полупроводник постепенно превращается в собственный, уровень Ферми смещается к середине запрещенной зоны.
Одно из фундаментальных положений в физике полупроводников формулируется следующим образом: уровень Ферми одинаков во всех частях равновесной системы, какой бы разнородной она ни была. Это положение можно записать в виде равносильных выражений:
,
(1.19a)
.
(1.19б)
Для того чтобы определить уровень Ферми по формулам (1.18), нужно знать концентрации свободных носителей. При оценке величин n и p используют условие нейтральности полупроводника: в однородном полупроводнике не может быть существенных некомпенсированных объемных зарядов ни в равновесном состоянии, ни при наличии тока. Поэтому в общем виде условие нейтральности для единичного объема записывают так:
p + Nд*- (n + N*a) =0. (1.20)
Исходя из условия нейтральности, запишем для электронного полупроводника следующее соотношение:
n = N*д +p, (1.21)
где N*д - концентрация положительных донорных ионов. Выражая концентрацию дырок через концентрацию электронов (1.16) и решая получившееся квадратное уравнение относительно n, находим концентрацию электронов в следующем виде:
(1.22а)
Аналогичным путем можно найти концентрацию дырок в дырочном полупроводнике:
(1.22б)
Индексы n и p означают принадлежность к полупроводнику с соответствующим типом проводимости.
Как правило, в рабочем температурном диапазоне примесных полупроводников все атомы примеси ионизированы. Тогда концентрации основных носителей запишутся в виде:
nn = Nд , pp =Na . (1.23)
Концентрации неосновных носителей легко определить, воспользовавшись соотношением (1.11):
pn = ni2 / Nд , np =ni2 / Na (1.24)
Из выражения (1.24) следует, что при низких температурах концентрация неосновных носителей очень мала. Однако с ростом температуры концентрация неосновных носителей возрастает очень резко - пропорционально ni2 , т.е. значительно быстрее, чем даже концентрация собственных носителей. Так, в кремнии рост температуры на 500 С сопровождается увеличением концентрации неосновных носителей примерно в три раза.
