Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Лазерка.doc
Скачиваний:
450
Добавлен:
18.02.2016
Размер:
5.3 Mб
Скачать

21.Лазер на рубине. Принцип действия и генерационные характеристики.

Этот лазер работает преимущественно в импульсном режиме и генерирует излучение на длине волны ʎ=0,6943 мкм. Рубиновый кристалл состоит из молекул оксида алюминия в его решетке вместо некоторых ионов внедрены ионы хрома . Вынужденное излучение происходит при переходах в электронной оболочке 3d ионов . Под действием оптической накачки электроны из основного состояния 1 (уровень 4) переходят в полосу поглощения 3 (), из которой энергия за счет быстрой безызлучательной релаксации (время релаксации примерно ) переносится на метастабильный уровень 2 (2E, время жизни 2-4 с), являющийся верхним лазерным уровнем. Лазерный переход 2→4.

Как верхний, так и нижний лазерные уровни в действительности представляют собой два близко расположенных уровня, которые при комнатной температуре почти одинаково заселены. Однако этого достаточно для того, чтобы лазер излучал линию на длине волны ʎ=0, 694 мкм. Особенности рубинового лазера: нижний лазерный уровень соответствует основному состоянию и тем самым сильно заселен. Для создания инверсии заселенностей необходимо возбудить по меньшей мере половину ионов , для этого необходимы высокие мощности накачки. Пороговая энергия в импульсном режиме достигает 45 Дж. Излучение накачки создается мощными стержневыми ксеноновыми лампами с несколькими эллиптическими отражателями или спиральными лампами. При энергии накачки 200- Дж мощность лазерного излучения достигает 10-500 кВт при длительности импульсов 0,1-1 мс и до 100 Вт при непрерывном режиме работы, КПД составляет меньше 1%. Излучение рубинового лазера характеризуется большой мощностью при невысоком качестве излучения. Рубиновый лазер имеет выходные параметры: 1)в режиме модуляции добротности его мощность в одиночном гигантском импульсе длительностью 10-20 нс составляет 10-50 МВт; 2) в режиме синхронизации мод пиковая мощность в импульсе длительностью ≈10 пс равна нескольким ГВт.

22. Полупроводниковые лазеры на гетероструктурах и их генерационные характеристики.

Лазер на р—n-переходе представляет собой полупроводниковый диод, у которого две плоскопараллельные поверхности, перпендикулярные р—n-переходу,

образуют оптический резонатор (коэффициент отражения от граней кристалла Полупроводниковый лазер20—40%). Инверсия населённостей достигается при большой плотности прямого тока через диод. Для получения достаточно интенсивной инжекции применяют сильно легированные полупроводники.

Инжекционные лазеры на гетеропереходе представляют собой, например, двусторонние гетероструктуры.

а — лазер на гетеропереходе (двусторонняя гетероструктура), б — его энергетическая схема.

Активный слой (GaAs) заключён между двумя полупроводниковыми гетеропереходами (См. Полупроводниковый гетеропереход), один из которых (типа р—n) служит для инжекции электронов, а второй (типа р—р) отражает инжектированные электроны, препятствуя их диффузионному растеканию из активного слоя (электронное ограничение). При одинаковом токе накачки в активном слое гетероструктуры достигается большая концентрация электронно-дырочных пар и, следовательно, большее оптическое усиление, чем в П. л. На р—n-переходах. Другое преимущество гетероструктуры состоит в том, что образованный активным слоем диэлектрический волновод удерживает излучение, распространяющееся вдоль структуры, в пределах активного слоя (оптическое ограничение), благодаря чему оптическое усиление используется наиболее эффективно. Для П. л. на гетеропереходе необходимая плотность тока при Т = 300 К более чем в 10 раз ниже, чем у П. л. на р—n-переходе, что позволяет осуществить непрерывный режим генерации при температуре до 350 К.

П. л. инжекционного типа работают в импульсном режиме с выходной мощностью до 100 вт и в непрерывном режиме с мощностью более 10 вт (GaAs) в ближней инфракрасной (ИК) области (λ = 850 нм) и около 10 мвт (PbxSn1-xTe) в средней ИК области (λ = 10 мкм). Недостаток инжекционных лазеров — слабая направленность излучения, обусловленная малыми размерами излучающей области (большая дифракционная расходимость), и относительно широкий спектр генерации по сравнению с газовыми лазерами.