Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Фролов ЭМ.Технология изготовления деталей машин

.pdf
Скачиваний:
38
Добавлен:
06.09.2013
Размер:
33 Мб
Скачать

310

Глава 2.6. ЛАЗЕРНЫЕ И ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВЫЕ МЕТОДЫ ОБРАБОТКИ

£(г

 

 

пить в тот момент, когда температурный пе­

^о^\

ехр

репад в е раз устанавливается по всей толщи­

 

\'о у

'о у

не стекла, т.е.

где EQ - плотность мощности на расстоянии го от оси излучения.

Кроме листовых материалов, методом управляемого термораскалывания могут раз­ деляться хрупкие материалы, изготовленные в виде труб. В общем виде термораскалывание хрупких материалов трубчатой формы выгля­ дит следующим образом. При вращении тру­ бы относительно неподвижного лазерного луча каждая точка поверхности трубы вдоль линии обработки нагревается до температуры Т. Вследствие относительно низкой теплопро­ водности хрупких материалов при уходе луча в процессе относительного перемещения об­ разец достаточно медленно охлаждается, пока лазерный луч не приходит снова в рассматри­ ваемую точку при следующем обороте. Нагрев поверхности трубы скачкообразно повторяет­ ся, пока градиент температур в осевом на­ правлении трубы вдоль всей линии обработки не превысит предел термостойкости материа­ ла. В этот момент'на одном из наиболее зна­ чительных дефектов материала вдоль линии воздействия лазерного излучения возникает начало трещины, приводящей к раскалыва­ нию трубы по намеченному контуру.

В результате воздействия лазерного из­ лучения прогревается очень тонкий поверхно­ стный слой материала. В нагретом слое воз­ никает термонапряжение сжатия в осевом направлении, а на внутренней части трубки под линией обработки - напряжение растяже­ ния. Благодаря окружной симметрии трубки возникшие в ней механические напряжения направлены вдоль оси и стремятся разорвать ее по линии лазерной обработки.

Разрушение стекла происходит с некото­ рым запаздыванием относительно движущего­ ся вдоль обрабатываемой поверхности лазер­ ного пучка. Для вычисления этого запаздыва­ ния необходимо описать движущуюся картину температурного поля.

Используя выражение для мгновенного значения температуры, до которой нагревает­ ся материал под воздействием поверхностного точечного источника теплоты, можно полу­ чить условия изменения температуры в е раз,

которое имеет вид z^ = 4а/ и подтверждает,

что на глубине, равной (4а/) , температура

материала в е раз меньше, чем на поверхно­ сти.

Есть основание предположить, что раз­ рушение хрупкого материала или, в данном случае, появление трещины в стекле под дей­ ствием лазерного излучения должно насту­

(4а/)1/2. К

(2.6.2)

Данное допущение в рамках инженер­ ного расчета справедливо по следующим со­ ображениям. Как правило, термостойкость стекла составляет приблизительно одну треть от температуры стеклования (или размягче­ ния). Следовательно, если поверхность стекла в процессе обработки лазерным излучением нагревается до температуры, близкой к темпе­ ратуре размягчения, то через время / при вы­ полнении условия (2.6.2) практически по всей толщине стекло будет разогрето до температу­ ры, превышающей предел термостойкости.

Условие (2.6.2) позволяет определить технологическую скорость протекания про­ цесса управляемого термораскалывания. Пока стекло прогревается до такой степени, чтобы обеспечить условие (2.6.1), лазерный луч ус­ певает уйти на расстояние, равное произведе­ нию скорости перемещения луча на время, определяемое по (2.6.1): I = vt. Подставляя значения / из (2.6.2), получаем выражение для расстояния начала зарождения трещины от подвижной точки облучения поверхности стекла:

L = H^v/{4a).

(2.6.3)

Чем больше запаздывает начало трещи­ ны по отношению к положению движущегося следа луча на поверхности стекла, тем меньше вероятность ее следования за лучом, особенно при наличии заметных дефектов, неоднородностей в стекле, а также внешних механиче­ ских воздействий, способных увести трещину в сторону от траектории перемещения лазер­ ного луча. Поэтому величина отставания тре­ щины должна задаваться условиями обеспе­ чения заданной траектории и точностью раз­ деления. Таким образом, задаваясь значением / из (2.6.3), можно получить выражение для определения скорости управляемого термо­ раскалывания стекла:

v = 4al/H^ .

С другой стороны, скорость V определя­ ется уровнем мощности или плотности мощ­ ности лазерного излучения, которую необхо­ димо обеспечить для создания условий термо­ раскалывания стекла. Скорость термораска­ лывания прямо пропорциональна температу­ ропроводности и обратно пропорциональна квадрату его толщины. Следовательно, ника­ кими изменениями параметров лазерного излучения, в том числе и повышением мощ-

 

 

 

 

 

 

ЛАЗЕРНОЕ ТЕРМОРАСКАЛЫВАНИЕ

 

 

 

 

 

 

 

 

311

ности излучения, увеличить эту скорость не

вие на стекло вдоль одной линии термораска­

представляется возможным.

 

 

 

 

 

 

лывания двумя лазерными лучами, направ­

Уровень мощности лазерного излучения,

ляемыми с противоположных сторон образца

необходимый

для

обеспечения

 

управляемого

материала. Поскольку в этом случае тепловая

термораскалывания,

можно

определить

при

энергия распространяется в объеме стекла от

анализе приближенного выражения для тем­

двух источников навстречу друг другу, усло­

пературы обрабатываемой поверхности на оси

вие термораскалывания

примет следующий

подвижного луча. Для удобства практического

вид:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

использования

необходимо

выразить

плот­

 

 

 

\1/2

= Я / 2 ,

 

 

 

 

ность мощности Е и радиус лазерного пучка г

 

 

( 4 а Г р

 

 

 

 

через реально измеряемые параметры лазер­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ного излучения. Учитывая, что оптимальным

а выражение для скорости термораскалы­

для качественного темораскалывания является

вания:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

луч трубчатой

формы, полную мощность ла­

 

 

v = l6al/

 

Н .

 

 

 

 

 

зерного излучения Р можно выразить через

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

плотность мощности Е, вычисляя интеграл по

Таким

образом,

 

при

одновременном

радиусу:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

воздействии лазерного излучения с двух про­

 

 

00

 

 

 

 

 

 

 

 

 

тивоположных сторон вдоль одной линии

 

/>=

[2'KrdrE[r)^A'Kr'^EQ.

 

 

разрушения скорость управляемого терморас­

 

 

 

калывания при прочих равных условиях уве­

 

 

О

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

личивается в 4 раза. Кроме того, это особенно

Выражая теперь £"0 через Р и подставляя

важно

при

термораскалывании

толстых

сте­

кол, при односторонней обработке которых с

в (2.6.1), получаем зависимость

максимальной

необлучаемой стороны могут появляться

ско­

температуры поверхности материала, обраба­

лы и

неровности. При

двухсторонней

обра­

тываемой

излучением

лазера, перемещающе­

ботке вероятность получения

ровной

кромки

гося вдоль его поверхности со скоростью v.

среза значительно

повышается. Представлен­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,45/>

 

 

 

 

 

 

ный метод расчета режимов управляемого

 

 

[iir^)\^[cp)v

V2

 

 

 

 

 

термораскалывания

с

 

помощью

лазерного

 

 

 

 

 

 

 

излучения не накладывает ограничения на

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

свойства обрабатываемого материала и его

Термонапряжения

возрастают

с

повы­

можно

использовать

для

расчета

 

режимов

термораскалывания

не

 

только

стекла,

но и

шением температуры до тех пор, пока она не

 

других хрупких материалов: ситалла,

керами­

достигнет значения температуры стеклования.

ки и т.п., - при условии непрозрачности об­

При более высокой температуре стекло раз­

мягчается и напряжения в нем резко снижа­

рабатываемого материала в диапазоне длин

ются. Таким образом, для наиболее эффек­

волн

лазерного

излучения.

В

 

работах

тивного термораскалывания

стекла

лазерным

Г. А. Мачулки было показано,

что для

обес­

излучением максимальная температура

стекла

печения термораскалывания по строго задан­

должна равняться

температуре

 

стеклования

ному контуру отставание начала трещины от

г,.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

подвижной точки попадания луча должно

 

сказанное, окончательное

вы­

быть вполне определенным.

 

 

 

 

 

Учитывая

Наиболее важно сохранить заданное от­

ражение мощности

лазерного излучения,

не­

ставание трещины на начальном и

конечном

обходимой

для

обеспечения

 

управляемого

 

участках линии разделения. Трещина зарож­

термораскалывания

стекла с заданной

скоро­

дается на срезе, обычно имеющем много раз­

стью, записывается в виде:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

личных дефектов - микротрещин, сколов,

Р = 222Т

{щ)\^{ср)и

1/2

 

 

 

царапин и т. д. При этом трудно гарантиро­

 

 

 

 

вать, что по соседству с линией разделения

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

будут отсутствовать более крупные дефекты,

Таким образом, зная размеры и характе­

способные более легко зародить трещину в

ристики подлежащего обработке стекла, мож­

стороне от точки набегания луча на край пла­

но рассчитать режим управляемого терморас­

стины. На некотором расстоянии от пластины

калывания.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

обычно направление трещины совмещается с

Анализ результатов показывает, что ско­

направлением перемещения луча. При этом

рость управляемого термораскалывания

отно­

трещина искривляется.

 

 

 

 

 

 

 

 

сительно мала и одним из методов ее увели­

Для устранения такого искривления не­

чения для обеспечения технико-эконо­

обходимо

применять

 

специальные

меры.

мической

рентабельности

рассматриваемого

Можно, например, снижать скорость переме­

технологического процесса является

воздейст­

щения

лазерного луча

на

начальном

участке,

312

Глава 2.6. ЛАЗЕРНЫЕ И ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВЫЕ МЕТОДЫ ОБРАБОТКИ

увеличивая тем самым степень воздействия на стекло. В некоторых случаях это приводит к более точному разделению. Известны также другие меры - изменение степени фокусиров­ ки луча с переходом на скрайбирование на начальном участке, предварительное нанесение царапин, легкое обкалывание кромки, прикос­ новение острого охлажденного инструмента.

Особенно трудно зарождается термотре­ щина на кромке стекла, полученной в резуль­ тате лазерного термораскалывания. Высокое качество кромки стекла, обеспечиваемое в результате его разделения рассматриваемым методом, в данном случае затрудняет раскрой стекла во взаимно пересекающихся направле­ ниях.

На конечном участке линии разделения термораскалывание облегчается и часто здесь трещина обгоняет лазерный луч, что приводит к потере контроля над ходом процесса. Для устранения этой причины искривления линии термораскалывания можно повысить скорость перемещения лазерного луча на конечном участке разделения или снизить его мощ­ ность. Во многих случаях это позволяет уст­ ранить обгон и обеспечить контролируемое распространение термотрещины по всей ли­ нии разделения.

Результаты экспериментальных работ по управляемому термораскальканию некоторых хрупких материалов {X = 10,6 мкм) приведены в табл. 2.6.3.

2.6.3. Данные по термораскальшанию некоторых материалов

Материал

Размеры образцов, мм

Мощность

Скорость

Отставание

 

 

 

 

Толщина

Поперечные размеры

лазерного луча,

перемещения,

трещины, мм

 

 

Вт

мм/с

 

Оконное

1,0

60x50

10

2,0

1,0

стекло

 

1,0

60x50

10

10,0

4,9

 

 

 

 

2,5

250x50

15

1,7

5,0

Ситалл

СТ50

1,0

60x50

30

5,0

-

Поликор

1,0

35x30

30

33,0

1,0

Алюмооксидная

0,635

-

100

50,8

-

керамика

 

 

 

 

 

Приведенные в табл. 2.6.3 данные по управляемому термораскалыванию керамики типа "Поликор" представляют интерес с двух точек зрения. Во-первых, скорость терморас­ калывания этого материала в десятки раз вы­ ше, чем стекла. Поэтому рассматриваемый процесс наиболее выгодно использовать при разделении прежде всего такого материала. Во-вторых, значительное ускорение процесса является следствием теплофизических свойств поликора. Благодаря высокой теплопроводно­ сти температуропроводность этой керамики примерно на два порядка превышает темпера­ туропроводность стекла. Тем самым экспери­ ментальные данные по разделению методом управляемого термораскалывания этого мате­ риала подтверждает теоретическое предполо­ жение о том, что скорость управляемого тер­ мораскалывания непрозрачных хрупких мате­ риалов с помощью лазерного излучения опре­ деляется их температуропроводностью.

Лазерное термораскалывание стеклян­ ных труб имеет много общего с управляемым термораскалыванием листового стекла. Одна­

ко одно принципиальное отличие приводит к необходимости рассмотреть этот процесс от­ дельно. При управляемом термораскалывании листового стекла начало трещины находится на краю стеклянной пластины, имеющем обычно много заметных дефектов, способст­ вующих достаточно легкому образованию начала линии термораскалывания по задан­ ному направлению разделения, которое далее относительно легко направляется лазерным лучом по заданной конфигурации разделяе­ мого изделия.

Стеклянная труба имеет замкнутый пе­ риметр. Она также имеет достаточно большое количество дефектов, способных дать начало трещине. Однако эти дефекты в большинстве случаев не выражены явно и не могут иметь свободы для образования локального зазора. Поэтому при лазерном термораскалывании стеклянных труб место начала трещины не определено.

Принципиально возможны две схемы лазерного термораскалывания стеклянных труб, также как и труб из других хрупких

ЛАЗЕРНОЕ ТЕРМОРАСКАЛЫВАНИЕ

313

материалов. Первая схема - преобразование формы лазерного луча в радиально сходящий­ ся (или радиально расходящийся - при обра­ ботке изнутри) лучевой диск. При равенстве длины лазерно-лучевой ленты длине контура резания на обрабатываемом стекле образуется линия, вдоль которой возникает напряжение в материале и которая задает контур термо­ раскалывания. На этой линии всегда найдется достаточно заметный дефект стекла, способ­ ный зародить трещину, которая практически мгновенно распространяется по описанному лазерным излучением контуру. Однако осу­ ществить такую технологию не всегда воз­ можно из-за сложности оптической системы. Кроме того, надежность и повторяемость процесса термораскалывания стеклянных труб при однократном воздействии теплового ис­ точники невысоки.

Наиболее надежное и качественное раз­ деление стекла обеспечивается при использо­ вании второй схемы термораскалывания - при многократном воздействии лазерного излуче­ ния на стекло вдоль линии разрушения. Наи­ более легко термораскалывание стеклянных труб можно осуществить их вращением отно­ сительно лазерного луча (или наоборот).

Для осуществления термораскалывания стеклянных труб необходимо обеспечить нафев стекла вдоль всей линии обработки до температуры, превышающей предел термо­ стойкости. При этом необходимо учитывать, что температура нагрева в рассматриваемом случае является неравномерной: в текущей точке непосредственного облучения она зна­ чительно превышает предел термостойкости. Для предотвращения растрескивания поверх­ ности и связанного с этим ухудшения качест­ ва разделяемых изделий максимальная темпе­ ратура нагрева поверхности стекла не должна достигать, как и в процессе управляемого термораскалывания листовых материалов, температуры стеклования.

Другим условием качественного разде­ ления хрупких материалов лазерным излуче­ нием в результате непосредственного термо­ раскалывания независимо от формы разде­ ляемых образцов является обеспечение равен­ ства диаметра df лазерного луча толщине Н стенки разделяемого материала:

df.H

(2.6.4)

Учитывая условие (2.6.4), а также под­ ставляя вместо линейной скорости взаимного перемещения разделяемого материала и ла­ зерного луча более удобную при разделении труб угловую скорость вращения, из (2.6.4) можно получить выражение для максималь­ ной температуры, до которой нагревается поверхность стекла под воздействием под­ вижного лазерного источника:

0,2Р

(2.6.5)

т,-\вН'пХ^[с^)\1/2 '

 

где п ' частота вращения изделия, с"^; D - наружный диаметр трубы; Р - мощность ла­ зерного источника.

До определяемой по (2.6.5) температуры нагревается поверхность стекла в текущей точке, непосредственно облучаемой в момент времени. При уходе луча в процессе враще­ ния трубы эта температура в результате отвода теплоты вследствие теплопроводности стекла начинает снижаться до прихода луча в эту же точку на следующим обороте. С каждым по­ следующим оборотом линия обработки будет прогреваться до все более высокой температу­ ры. Суммарный нагрев поверхности обраба­ тываемого материала может быть определен как сумма мгновенной температуры То непо­ средственно в точке облучения и средней

температуры стекла Т , которую можно опре­ делить как результат стационарного нагрева усредненным во времени источником нагрева. Для средней температуры нагрева тонких (Н « D) стеклянных труб справедливо выра­ жение:

P{at)1/2

(2.6.6)

Ti^X^DH

Для обеспечения термораскалывания по заданному контуру средняя температура на­ грева по всей линии разделения должна дос­ тигнуть предела термостойкости стекла:

f >ATjf ,

где ATfj - интервал температур, определяю­

щий термостойкость стекла.

Это условие позволяет непосредственно из (2.6.6) получить формулу для расчета вре­ мени, необходимого для нагрева стекла вдоль линии разделения до предела термостойкости. Поскольку в этот момент должно наступить термораскалывание, это значение можно принять в качестве времени резки стеклянной трубы:

1

(nhDHATr.

(2.6.7)

t = —

 

 

 

а

Для инженерных расчетов необходимо использовать экспериментальное понятие термостойкости стекла АЕр , основанное на

наборе статистических данных по его прочно­ сти при воздействии температурного градиен­ та. Учитывая это, следует иметь в виду, что экспериментальные значения термостойкости

314

 

Глава 2.6. ЛАЗЕРНЫЕ И ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВЫЕ МЕТОДЫ ОБРАБОТКИ

 

 

зависят от толщины стекла в соответствии с

 

/'max = 2п^Х^ПАТн = пР^

 

(2.6.10)

формулой

 

 

 

 

 

 

 

Для

обеспечения

качественного термо­

 

 

Д£р = ДГяЯ-1/2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

раскалывания стеклянных труб уровень мощ­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

в которой толщина образца выражается в мм.

ности

излучения должен выбираться между

пределами, определяемыми (2.6.8) и (2.6.10).

Минимальное

значение

мощности

ла­

Следует также учесть, что при достаточ­

зерного

излучения,

необходимое

для

обеспе­

но большой толщине

стенки (Я > 10 мм) в

чения термораскалывания и определяемое из

условиях поверхностного нагрева в материале

условия, что область заметного прогрева стек­

не может быть создан градиент температуры,

ла не должна иметь протяженность более

гарантирующий

контролируемое

разрушение

толщины стенки стекла, определяется нера­

материала.

расчета режимов

термораскалыва­

венством

 

 

 

 

 

 

 

Для

 

 

 

 

 

 

 

(2.6.8)

ния необходимо также определить макси­

 

 

^тш^27гХ,^ДГя.

 

 

мальную

скорость

перемещения

лазерного

 

 

 

 

 

 

 

 

 

луча относительно обрабатываемого образца.

Для

надежного термораскалывания

уро­

Для расчета оптимальной скорости вра­

щения трубки, обеспечивающей

качественное

вень мощности излучения должен превышать

термораскалывание,

можно использовать сле­

устанавливаемый (2.6.8) предел. Для установ­

дующую формулу:

 

 

 

 

 

ления ограничения по допустимому уровню

 

 

 

 

 

мощности

лазерного

излучения

следует

ис­

 

 

 

4

 

2 п 2

 

 

 

пользовать условие (2.6.2), введенное для тер­

 

 

 

10-^Р

 

 

(2.6.11)

мораскалывания листового стекла и имеющее

 

 

(Г - АГ^)

DH\(cp)

 

в данном случае смысл: для осуществления

 

При снижении скорости вращения ниже

термораскалывания

стеклянной

трубки необ­

 

ходимо, помимо описанных условий, чтобы

значения, определяемого (2.6.11), будет на­

температура стекла по всей его толщине пре­

блюдаться

достаточно

надежное

термораска­

высила

предел термостойкости.

Использова­

лывание.

 

 

 

 

 

 

 

ние условия (2.6.2) позволяет определить ми­

 

Некоторые экспериментальные результа­

нимальный промежуток времени, необходи­

ты по лазерному термораскалыванию стек­

мый для обеспечения условий термораскалы­

лянных цилиндрических оболочек

представ­

вания стеклянной трубки:

 

 

 

 

лены в табл. 2.6.4.

 

 

термораскалыва­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Методом управляемого

 

 

^min =

H^IM

 

 

(2.6.9)

ния можно осуществлять разделение почти

 

 

 

 

 

 

 

 

 

всех

хрупких

материалов

(алюмооксидной

Подставляя (2.6.9) в (2.6.7), можно опре­

керамики,

монокристаллического

кварца,

делить

максимально

допустимый

уровень

сапфира, силикатных стекол), за исключени­

мощности

лазерного

излучения,

превышение

ем плавленого кварца, так как его слабое теп­

которого

исключает

 

возможность качествен­

ловое расширение не обеспечивает возникно­

ного термораскалывания стеклянной трубки:

вения достаточных термонапряжений.

 

 

 

 

2.6.4. Данные по термораскалыванию оболочек

 

 

 

 

Изделие

Марка

Размеры оболочек, мм

 

Расчетная

 

Мощность

 

Время

оптимальная

 

лазерного

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Наружный

Толщина

скорость вращения,

излучения,

 

резки, с

 

 

 

 

диаметр

 

стенки

 

МИН"^

 

 

Вт

 

 

 

1

 

2

 

3

 

 

4

 

5

 

 

6

 

 

7

Цилиндр

С93-2

85

 

 

2,5

 

12,0

 

 

47,2

 

 

2 0 - 25

 

 

 

 

 

 

 

 

1,0

 

56,8

 

 

 

 

 

 

Колба

 

С93-2

68,5

 

2,5

 

15,3

 

 

30

 

 

1 5 - 2 0

 

 

 

 

 

 

 

 

1,5

 

238

 

 

 

 

 

 

Цилиндр

С93-2

58

 

 

2,2

 

26,4

 

 

30

 

 

1 0 - 2 0

 

 

 

 

 

 

 

 

1,2

 

281

 

 

 

 

 

 

Колба

 

С52-1

35,0

 

2,0

 

79,8

 

 

30

 

 

1 0 - 15

 

 

 

 

 

 

 

 

1,0

 

642

 

 

 

 

 

 

 

 

ЛАЗЕРНОЕ СКРАЙБИРОВАНИЕ И МАРКИРОВАНИЕ

 

 

315

 

 

 

 

Продол:исение табл. 2.6.4

1

2

3

4

5

6

7

 

труба

Пирекс

20

1,0

342

30

1 , 4 - 2

 

 

22,5

1,75

204

40

6 - 1 0

 

 

60

5,0

5,1

50

4 0 - 9 0

Колба

АМ-К

140

11,0

0,1

50

180 -

300

 

 

250

4,5

0,74

50

180 -

300

2.6.4.ЛАЗЕРНОЕ СКРАЙБИРОВАНИЕ

ИМАРКИРОВАНИЕ

Скрайбирование представляет собой ши­ роко распространенный метод резки и кон­ турной обработки образцов, в ходе которого испарению подвергается лишь часть поверх­ ности вдоль границы раздела.

Скрайбирование осуществляется путем нанесения на поверхность сплошной канавки или прошивки близко расположенных отвер­ стий, после чего материал легко надламывает­ ся вдоль линии скрайбирования.

Лазерное скрайбирование значительно повышает точность разделения пластин на отдельные кристаллы и производительность операции резки, обеспечивает высокое каче­ ство поверхности пластин, а также позволяет автоматизировать этот процесс. Процесс ла­ зерного скрайбирования универсален и при­ меним для приборов различной геометрии и широкого ряда материалов. Он экономичен даже при малом объеме производства, не тре­ бует высокой квалификации операторов. Этот метод используется для обработки хрупких материалов типа керамики, стекла.

Скрайбирование осуществимо для всех видов полупроводниковых пластин, включая Si, Ge, GaAs, InSb. В отличие от скрайбиро­ вания алмазным резцом возможна обработка пластин с нанесенными на них металличе­ скими пленками.

Лазерное скрайбирование требует мень­ ших затрат энергии на единицу длины, по­ скольку для его осуществления не требуется прорезать материал на всю толщину. По этой причине процесс разделения образца на части с прямолинейными краями выполняется ме­ тодом скрайбирования значительно быстрее, чем путем непосредственной резки. Края за­ готовок, получаемых в результате разделения по методу скрайбирования, менее подверже­ ны разрушению в результате избыточного нагрева и менее искажены термическими напряжениями. Поэтому в тех случаях, когда необходимо получить заготовки прямоуголь­ ной формы, целесообразнее применять метод скрайбирования. Методы непосредственной

резки следует использовать в тех случаях, когда требуется получить заготовки сложной формы.

Учитывая, что разделение материалов методом лазерного скрайбирования с после­ дующим разламыванием наиболее рациональ­ но осуществлять с помощью импульсного лазерного излучения, анализ физических про­ цессов, протекающих при этом, сходен с ана­ лизом процесса возгонки лазерным лучом отверстий в материале.

Лунки в материале могут образовываться как под действием сильных единичных им­ пульсов, так и с помощью многоимпульсной обработки в режиме модулированной доброт­ ности. Последний режим обработки позволяет получать необходимый результат при скрайбировании материала непрерывно движущим­ ся лазерным лучом с большой частотой следо­ вания импульсов, обеспечивающей перекры­ тие лунок. Снижение энергии в импульсе в данном случае компенсируется соответствую­ щим повышением частоты повторения им­ пульсов.

Перекрытие лунок характеризуется соот­ ветствующим коэффициентом

^п=(27-^)/Ы'

где rf - радиус лунки на поверхности образца; S - расстояние между центрами двух соседних лунок.

Учитывая, что

' 1

коэффициент перекрытая можно определить как

'-^ii-^'

где 1^ - длительность паузы; т^^ - длитель­

ность импульса; F^ - частота следования

импульсов.

При достаточно большой мощности из­ лучения поверхностная часть стекла расплав-

316

Глава 2.6. ЛАЗЕРНЫЕ И ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВЫЕ МЕТОДЫ ОБРАБОТКИ

ляется. При уходе луча стекло быстро затвер­ девает, что сопровождается резким изменени­ ем его объема в обрабатываемой области и приводит к поверхностному растрескиванию стекла. При этом след луча имеет вид строч­ ного шва (строчки). При достаточно большой скорости обработки эта строчка отделяется от стекла аналогично стружке при механической обработке. Самопроизвольное разделение стекла по этому контуру происходит доста­ точно редко. Чаще всего необходимо разла­ мывать стекла по контуру механическим спо­ собом, дополнительным термоударом или их комбинацией.

При дальнейшем повышении степени воздействия лазерного излучения часть стекла разлагается, возгоняется и испаряется, обра­ зуя вдоль линии обработки дорожку, сопро­ вождаемую крестообразными трещинами. При этом последующее разламывание значительно облегчается. Однако края разделенного таким образом стекла получаются неровными из-за наличия трещин, искажающих область разде­ ления, а также возможности ухода трещин в сторону от линии скрайбирования. Этот не­ достаток можно устранить повышением энергии лазерного излучения снижением вре­ мени его воздействия до такой степени, чтобы стекло испарялось вдоль линии обработки практически без прогрева прилегающей об­ ласти стекла.

Такой режим обработки реально осуще­ ствим при воздействии на материал импульс­ ного лазерного излучения. Большая энергия в импульсе позволяет быстро испарить часть стекла вдоль линии обработки, а пауза между импульсами приводит к тому, что стекло в это время охлаждается и его средний нагрев ока­ зывается незначительным. В результате этого в стекле не наблюдаются заметные термона­ пряжения и оно не разрушается. Такой вид скрайбирования образует последовательность лунок вдоль линии обработки, по которой можно осуществить разламывание стекла без образования заметных сколов и неровностей краев среза. Еще большая точность разделе­ ния обеспечивается в том случае, если обра­ зованные лазерным излучением лунки распо­ лагаются рядом, с небольшим перекрытием в виде ровной неглубокой канавки. Таким пу­ тем удается обеспечить наиболее качественное разделение хрупких материалов с точностью до 30 мкм.

При скрайбировании стекла благодаря короткоимпульсному воздействию с непо­ средственной возгонкой материала размягче­ ния стекла не происходит. Для предотвраще­ ния откалывания стекла область материала, в которой возникают заметные напряжения, должна быть ограниченной. Это возможно в

том случае, если на периферии пространства, ограниченного линейной протяженностью области скрайбирования /, температура нагре­ ва стекла не достигает предела термостойкости

Учитывая, что в режиме скрайбирования применяется фокусировка лазерного излуче­ ния в пятно минимального размера, диаметр которого меньше линейной протяженности области профева, лазерное излучение можно считать точечным источником и использовать для вычисления температурного поля соответ­ ствующую формулу:

Ti =

Р

f

vl

 

exp -

 

 

 

InXjl

V 2a

Приравнивая / к

глубине лунки и учи­

тывая, что для эффективного разделения дос­ таточно, чтобы глубина лунки составляла примерно 25% толщины материала [/ = Я/4],

получаем формулу для оценки средней мощ­ ности лазерного излучения, превышение ко­ торой приводит к обкалыванию кромок раз­ деления стекла:

Р <(\/2)nXjHATff ехр|

Связь между импульсными параметрами излучения

Р = Р X F =w F

И И И

И И

дает возможность оценить граничную частоту следования импульсов, превышение которой приводит к перегреву материала и его некон­ тролируемому скалыванию.

Скрайбирование пластин из кремния, арсенида галлия и других полупроводниковых материалов выполняют для последующего разделения пластин на отдельные элементы по линии надреза. В электронной промыш­ ленности такой способ разделения применяют на одной из стадий групповой технологии производства полупроводниковых приборов и интегральных схем. Лазерное скрайбирование находит все более широкое применение, вы­ тесняя скрайбирование алмазным резцом.

Лазерный метод имеет следующее дос­ тоинство: возможность получения надрезов с ровными и чистыми краями, без загрязнения микросхем отходами резки; получение более глубоких по сравнению с механическим спо­ собом надрезов без приложения усилий к разделяемому материалу, что исключает ско­ лы на углах микросхем; более высокий про­ цент выхода годных изделий после разламы­ вания пластины; возможность получения не

 

 

 

 

 

 

 

 

ЛАЗЕРНОЕ СКРАИБИРОВАНИЕ И МАРКИРОВАНИЕ

 

 

 

 

317

ТОЛЬКО надрезов, но и полных разрезов без

висит от параметров лазерного пучка и скоро­

нарушения

взаимной ориентации

микросхем;

сти

скрайбирования.

Оптимальная

глубина

небольшая продолжительность и малая об­

надреза составляет 25 ... 30% толщины пла­

ласть воздействия, что обеспечивает неболь­

стины. Большая глубина надреза (например,

шие напряжения в разделяемой полупровод­

60%) требует большего усилия при разламы­

никовой

пластине;

высокая

производитель­

вании пластин. Причиной этого является

ность

(скорость

скрайбирования

составляет

менее выгодное распределение сжимающих и

1 ... 25 см/с); возможность скрайбирования

растягивающих напряжений в разламываемой

полупроводниковых

пластин

с нанесенными

пластине и большая эластичность тонкого

защитными покрытиями.

кремния, обладаю­

слоя проводника под надрезом.

 

 

 

 

Для скрайбирования

 

Получение большей глубины надреза (до

щего высокой поглощательной способностью

40 мкм) или сквозное разделение пластин

на полосе ~ 1 мкм, применяются

ИАГ-лазеры

требует многопроходного скрайбирования.

свободной генерации или с модуляцией доб­

 

В процессе

лазерного

скрайбирования

ротности. Для прецизионной резки полупро­

часть удаляемого полупроводника может осе­

водниковых материалов может использоваться

дать около надреза на поверхности пластины.

установка на базе импульсного лазера на азо­

С подложкой эти загрязнения связаны слабо

те. В отлитие от полупроводников, обрабо­

и поверхность пластины не загрязняют. Очи­

танных

излучением

твердотельных

 

лазеров,

стка полупроводниковых пластин может осу­

работающих в режиме свободной генерации,

ществляться в ультразвуковых ваннах. Кроме

монокристаллы сурьмянистого индия, арсе-

того, применяются

 

специальные

предохра­

нида галлия

и германия,

подвергнутые

воз­

няющие

покрытия

(например,

натуральный

действию

излучения

азотного лазера,

не из­

латекс), которые наносят на поверхность пла­

меняют структуру вблизи

зоны реза. Указан­

стины перед скрайбированием и удаляют по­

ное

обстоятельство является

весьма

важным,

сле

него.

Чтобы

избежать

загрязнения по­

так

как

 

даже

незначительное

изменение

 

верхности

со

 

структурами,

применяется

структуры

поверхности полупроводника

мо­

 

скрайбирование

нижней поверхности пласти­

жет сильно

изменить

его

электрофизические

ны. В этом

случае

необходимо

использовать

свойства. Этот метод был применен

для раз­

глубокое

(до 80 ...

90 % толщины

пластины)

деления

плоского /7-л-перехода на

ряд

эле­

скрайбирование

во

избежание

повреждения

ментов различной конфигурации.

 

 

 

 

 

 

 

 

структур при разламывании.

 

 

 

 

 

Контроль глубины канавки

в

процессе

 

 

 

 

 

 

В отличие

от скрайбирования

полупро­

обработки осуществляется либо путем регист­

 

водников вследствие более высокой

поглоща­

рации

вольт-амперной

характеристики

зоны

тельной способности керамики на длине вол­

обработки,

либо

по

 

сопротивлению

между

 

ны

10,6 мкм

для

скрайбирования

керамиче­

контактирующими площадками.

 

 

 

 

 

 

 

 

ских пластин в основном используются СО2-

 

Существенным

достоинством

 

описан­

 

 

лазеры.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ного метода является возможность контроли­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Скрайбирование

с

применением

лазера

ровать

ход

процесса

обработки

в

 

течение

 

 

на СО2 заключается

в выполнении вдоль ли­

всего

времени

разделения

диффузионных

нии разделения пластины ряда несквозных

областей, что позволяет исключить брак на

операции разделения.

 

выполненного

пучком

отверстий диаметром 75 ... 200 мкм и глуби­

 

Глубина надреза,

ной 100 ... 200 мкм на расстоянии друг от

сфокусированного лазерного

излучения,

со­

друга 75 ... 200 мкм. В слое керамики, приле­

ставляет 40 ... 125 мкм,

а ширина

 

-

20 ...

гающем

к

отверстиям

на

глубине

20 ...

40

мкм

 

при

толщине

пластины

150 ...

50 мкм, в этом случае появляются

большие

300 мкм. Большая плотность мощности (10 ...

напряжения,

которые

облегчают

разламыва­

100 Вт/см^) вызывает плавление и испарение

ние и деление пластин. Надрезанные таким

полупроводника. Однако очень малая дли­

образом пластины можно легко и без повреж­

тельность лазерного импульса и быстрое пе­

дений разломить вдоль линии надреза, что

ремещение

 

разрезаемой

пластины

 

относи­

позволяет исключить брак при выполнении

тельно

сфокусированного

лазерного

пучка

этой технологической операции.

 

 

 

является причиной того, что теплота, выде­

 

Величина напряжений и глубина зоны

ляющаяся в прилегающей к надрезу области

их возникновения снижаются с уменьшением

материала, не вызывает в нем существенных

мощности

и

продолжительности

импульса

изменений. Зона термического влияния со­

лазера на СО2. При использовании импульсов

ставляет не более 50 мкм.

 

 

 

 

 

 

малой продолжительности (менее 0,8 мс),

 

Глубина надреза является важным пара­

сила, необходимая для разламывания пласти­

метром, определяющим выход годных изде­

ны, возрастает. Например, для импульсов

лий при разламывании

пластин. Глубина за­

мощностью 50 Вт и продолжительностью 2 мс

318

 

Глава 2.6. ЛАЗЕРНЫЕ И ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВЫЕ МЕТОДЫ ОБРАБОТКИ

 

 

она составляет 3 Н, что соответствует удель­

(40 ... 50 кГц). В этом случае на пластине

ной нагрузке 34,5-10 Н/м.

Для

мощности

образуется непрерывный надрез.

 

 

75 Вт и продолжительности импульса 0,2 мс

 

Из-за очень малой продолжительности

сила разламывания составляет 11,8 Н, а

импульсов ИАГ-лазеров большие напряжения

удельная нагрузка

64-10 Н/м

при

расстоянии

в слое керамики вдоль надреза не возникают,

между отверстиями 100 мкм.

 

 

 

и

для разламывания пластина

должна

быть

 

 

 

равномерно надрезана либо разделена полно­

Для скрайбирования

керамических

пла­

стью.

 

 

 

стин могут использоваться также ИАГ-лазеры,

 

 

 

 

Некоторые

режимы скрайбирования

обеспечивающие

хорошие

 

результаты

при

 

 

различных материалов приведены в

табл.

большой

частоте

следования

импульсов

2.6.5.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2.6.5. Режимы скрайбирования различных материалов

 

 

Материал

Толщина,

Скорость

 

Ширина

Средняя

Частота

 

мм

скрайбирования,

надреза,

мощность

следования

 

 

 

 

 

 

 

см/с

 

мм

излучения, Вт

импульсов, кГц

Стеклянная

подложка

1,27

 

25,4

 

0,102

3,5

0,350

Листовое

стекло

 

1,57

 

26,3

 

0,05

40,0

0,350

Кварц

 

 

 

0,8

 

25,4

 

0,05

9,6

0,350

Сапфир

 

 

 

0,254

 

25,4

 

0,102

3,5

0,350

(монокристалл)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Керамика:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

стеатитовая

 

0,635

 

101,5

 

0,127

50,0

0,350

алюмооксидная

 

2,03

 

7,2

 

 

250,0

0,350

оксиднобериллиевая

0,763

 

76,2

 

0,127

50,0

0,350

Полупроводники:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

кремний

 

 

0,400

 

50,0

 

0,03

8,0

17,2

 

арсенид

галлия

 

0,15

 

150,0

 

0,02

6,0

26,5

 

Маркировка. Один из видов фигурной обработки поверхности материалов состоит в том, что лазерный луч, форма сечения кото­ рого задается с помощью маски, проецируется на обрабатываемую поверхность в нужном масштабе для получения фигурного изобра­ жения, повторяющего форму маски.

Данный метод обработки поверхностей, получивший название проекционного, широ­ ко применяется в микроэлектронике для фи­ гурной обработки тонких пленок, а также в других областях для обработки поверхностей объемных заготовок. Одним из направлений проекционного метода является нанесение знаков (лазерное печатание) на обрабатывае­ мые детали с целью идентификации продук­ ции, нанесения на изделия соответствующей информации.

К лазерной маркировке следует прибе­ гать лишь в тех случаях, когда требования к маркировке не могут быть достаточно хорошо выполнены обычными методами (трафаретная печать, механическая или ручная гравировка, травление). Эта необходимость возникает в

тех случаях, когда изделия имеют малые раз­ меры или очень хрупки, а также при необхо­ димости обеспечить высокую скорость марки­ ровки.

В частности, к механическим воздейст­ виям чувствителен материал интегральных схем, в качестве которого используются тон­ кие пластины монокристалла кремния.

Спектр поглощения кремния таков, что только излучение с длиной волны Aienee 1,1 мкм может достаточно эффективно ис­ пользоваться для маркировки этого материала при плотности мощности порядка 10^ Вт/см^; температурные градиенты достигают значений 10^ °С/см. Ширина зоны возникновения на­ пряжений в полупроводнике, вызванных тер­ мическим действием лазерного пучка, состав­ ляет около 180 мкм.

Проекционный метод обработки позво­ ляет наносить сложные знаки с помощью всего лишь одного лазерного импульса с вы­ сокой мощностью излучения.

Второй метод маркировки заключается в сканировании сфокусированного лазерного

 

ЛАЗЕРНОЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ РАЗМЕРНОЙ ОБРАБОТКИ

319

пучка на поверхности изделия, модуляции его

Степень

использования

существующих

интенсивности для испарения части материа­

лазеров неодинакова и зависит не только от

ла в заранее намеченных местах и осуществ­

их параметров, но и от уровня освоения в

лении таким образом требуемой маркировки.

производстве, простоты эксплуатации, надеж­

Знаки, метки формируются в виде совокупно­

ности и т.п.

 

 

 

 

 

 

 

сти точек или линий. Для указанных целей

С учетом этих факторов для операций

часто используется лазер на ИАГ с неодимом;

разделения

неметаллических

материалов пре­

его излучение обычно хорошо поглощается

жде всего используются СОг-лазеры. Кроме

материалом маркируемого изделия и, кроме

того, достаточно широко применяются лазеры

того, его можно получить в виде коротких

на ИАГ, реже на рубине и N2.

 

 

 

импульсов с высокой пиковой мощностью,

Оптические системы в лазерных уста­

достаточной для испарения метки на поверх­

новках для обработки материалов выполняют

ности.

 

 

 

 

 

 

 

 

разнообразные

функции: передачу

лазерного

лов

Для маркировки

органических

материа­

излучения в зону обработки и формирование

достаточно

эффективно

применяются

светового

пучка

необходимых плотностей

СО2-лазеры типа ТЕЛ.

 

 

 

 

 

мощности и конфигурации; наводку излуче­

 

Маркировка

осуществляется, кроме

по­

ния на заданный участок материала и совме­

лупроводниковых материалов, на бумаге, кар­

щение с ним; контроль за ходом процесса,

тоне, стекле, дереве, керамике, пластике и т.д.

оценку результатов и в некоторых случаях

Размеры знаков составляют от 0,2 до 30 мм;

оптические измерения.

 

 

предъяв­

поле записи 50x50 мм. Скорость маркировки

К

координатным устройствам

составляет от 2 с на знак до девяти знаков в

ляются требования, заключающиеся в обеспе­

1 с в зависимости от величины и формы знака.

чении необходимой точности операции изго­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

товления детали, фиксации детали на рабочем

2.6.5. ЛАЗЕРНОЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ

столе и относительного перемещения лазер­

 

для РАЗМЕРНОЙ ОБРАБОТКИ

 

 

ного луча и детали с необходимой скоростью.

 

Процессы лазерной обработки и, в част­

В настоящее время отсутствует четкая

 

специализация установок по роду обрабаты­

ности, разделения, реализуются с помощью

ваемых материалов. Многие установки, пер­

технологических

лазерных

установок. При

воначально

предназначавщиеся

для

раскроя

этом независимо от назначения и типов при­

металлов, могут быть с успехом применены

меняемых лазеров, установки в основном

для резки неметаллических материалов, и

имеют общую структурную схему и содержат

наоборот. Однако, учитывая, что значитель­

следующие узлы: источник мощного оптиче­

ная часть установок для резки в качестве из­

ского излучения - лазер; оптическую систему

лучателя включает в себя СОг-лазер, более

для формирования лазерного излучения -

эффективно такие установки будут использо­

энергетический или рабочий канал; устройст­

ваться для резки неметаллов.

 

 

 

 

во для закрепления и перемещения обрабаты­

Существуют три группы установок для

ваемого объекта - координатный стол с при­

размерной резки, различающиеся схемой пе­

водом; систему управления работой лазера и

ремещения материала относительно лазерного

координатного стола. В установках для лазер­

луча. В установках, выполненных по первой

ной резки предусматривается также тракт для

схеме, в плоскости обработки с помощью

подачи газа в зону резки, конечная часть ко­

координатного

устройства перемещается раз­

торого обычно совмещается с фокусирующей

резаемый материал. Преимуществами

данной

системой и образует газооптический резак.

и

схемы являются: небольшая и постоянная

 

Лазер

обеспечивает

энергетические

длина оптического

энергетического

канала;

временные

параметры

воздействия;

оптиче­

высокая точность, обеспечиваемая за счет

ская

система

формирует

пространственные

координатного стола. Недостатком рассматри­

характеристики пучка как инструмента обра­

ваемой группы установок являются ограни­

ботки. Точность, производительность и удоб­

ченные

габариты

обрабатываемых

листовых

ство обработки в значительной степени опре­

заготовок.

Рекомендуемые

габариты

листов

деляются характеристиками

системы управле­

для этой схемы - не более 1,0x1,0 м и соот­

ния перемещением детали или лазерного луча.

ветственно

небольшие перемещаемые массы.

 

Источник излучения - лазер - должен

Установки, относящиеся к этой схеме и обла­

обеспечить генерацию излучения достаточной

дающие

лучшими

характеристиками,

пред­

мощности на приемлемой для операций раз­

ставлены фирмами 'Trumph" и "Behrens"

деления длине волны с необходимой произ­

(Германия). Данные установки, выполненные

водительностью

при условии

минимального

на базе дыропробивных прессов, позволяют

влияния на свойства окружающих участков

сочетать в себе операции штамповки и прес­

обработки.

 

 

 

 

 

 

 

 

сования с лазерной резкой.