Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Методички / С.М. Минаев Изучение фотопроводимости полупроводников

.pdf
Скачиваний:
35
Добавлен:
19.08.2013
Размер:
227.96 Кб
Скачать

МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ

КУЗБАССКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ

КАФЕДРА ФИЗИКИ

ИЗУЧЕНИЕ ФОТОПРОВОДИМОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВ

Методические указания к лабораторной работе № 606 по курсу общей физики для подготовки студентов всех направлений

Составители С.М. МИНАЕВ Г.Г. МИНАЕВА

А.А. МАЛЬШИН

Утверждены на заседании кафедры Протокол № 6 от 9.02.01 Рекомендованы к печати методической комиссией направления 550600 Протокол № 04 от 27.03.01 Электронная копия находится в библиотеке главного корпуса КузГТУ

Кемерово 2001

1

ИЗУЧЕНИЕ ФОТОПРОВОДИМОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВ

Данная лабораторная работа относится к разделу «Физика твёрдого тела», тема «Фотопроводимость».

Перед занятием студент обязан самостоятельно подготовиться к лабораторной работе. На выполнение и защиту данной работы отводится два часа аудиторных занятий.

1. ЦЕЛЬ РАБОТЫ:

а) изучение основных физических закономерностей, определяющих свойства фоторезисторов; б) исследование вольт-амперных и световых характеристик фоторезисторов.

2. ПРИБОРЫ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ:

монохроматор света, источник постоянного тока, фоторезистор, ползунковый реостат, вольтметр, микроамперметр.

3. ПОДГОТОВКА К РАБОТЕ:

а) изучить теоретические положения, касающиеся основы физики фотопроводимости по литературным источникам [1-3]; б) изучить данные методические указания;

в) ответить на контрольные вопросы.

4. ТЕОРЕТИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ

4.1. ОСНОВНЫЕ СВОЙСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВ

Электронными полупроводниками называют кристаллы и аморфные вещества, которые по величине электропроводности занимают

промежуточное положение между металлами (σ = 104 105 ом-1 см-1) и изоляторами (σ = 10-10 10-20 ом-1 см-1). В отличие от ионных проводни-

ков проводимость металлов и полупроводников осуществляется путём дрейфа электронов и дырок. В соответствии с зонной теорией электроны в кристаллах, как и в свободных атомах, могут находиться лишь в определённых квантовых состояниях, т.е. могут обладать лишь опреде-

2

лённой энергией. Система дискретных энергетических уровней изолированного атома превращается в кристалле в систему полос конечной ширины, которые называются энергетическими зонами. В кубическом сантиметре кристалла содержится 1022-1023 атомов. Такого же порядка и число энергетических уровней в указанных зонах (каждый атом вносит в зону свой уровень). Ширина энергетических полос составляет несколько электрон-вольт, следовательно, разность между энергиями соседних уровней, расположенных в полосе, порядка 10-22 эВ, т.е. уровни внутри полос образуют практически непрерывный спектр.

Зонная теория позволяет сформулировать критерий, который даёт возможность разделить твёрдые тела на два класса – металлы и полупроводники (изоляторы). Металлы характеризуются наличием в валентной зоне свободных уровней, на которые могут переходить электроны, получающие дополнительную энергию, например, вследствие ускорения в электрическом поле. Отличительная особенность металлов заключается в том, что у них в основном, в невозбуждённом состоянии (при 0° К) имеются электроны проводимости, т.е. электроны, которые участвуют в упорядоченном движении под действием внешнего элек-

трического поля.

 

 

 

 

 

а

б

 

 

в

 

У полупроводников и изоля-

 

 

 

 

 

Ес

 

Ес

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

торов при 0° К валентная зона за-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

селена полностью,

а зона прово-

 

 

 

 

 

 

 

Ed

 

димости отделена от неё запре-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

щённой зоной (рис.1,а) и не со-

Е

 

 

 

Eg

 

 

 

 

 

 

держит носителей. Поэтому не

 

 

 

 

 

 

 

Ea

 

 

 

 

слишком

сильное

электрическое

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

поле не

в

состоянии ускорить

 

 

 

 

 

Еv

 

Еv

 

 

 

электроны,

расположенные в ва-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

лентной зоне, и перевести их в зо- Рис. 1. Схема энергетических зон собственного (а), ну проводимости. Иными словами, электронного (б) и дырочного (в) полупроводников

такие кристаллы при 0° К должны быть идеальными изоляторами. При повышении температуры или облучении кристалла электромагнитной энергией электроны могут поглотить кванты этой энергии, достаточной для перехода в зону проводимости. Такие электроны уже могут участвовать в переносе электричества. Вероятность перехода электрона из валентной зоны в зону проводимости пропорциональна: Еg /kT, где Еg – ширина запрещённой зоны. При большой величине Еg (больше 3 эВ) эта вероятность оказывается очень малой, так как kT при комнатной темпе-

3

ратуре составляет 0,025 эВ.

Для чистых кристаллов при термическом возбуждении носителей из валентной зоны в зону проводимости концентрация электронов равна концентрации дырок. Проводимость кристалла, обусловленная дрейфом этих носителей, называется собственной.

Примесная проводимость возникает, если некоторые атомы данного полупроводника заменить в узлах кристаллической решётки атомами, валентность которых отличается от валентности основных атомов.

Вполупроводнике с примесью, валентность которой на единицу больше валентности основных атомов (германий с примесью фосфора), имеются «лишние» примесные электроны, слабосвязанные с ядром, и его сравнительно легко перевести в зону проводимости полупроводника. Энергетические уровни примесных электронов располагаются вбли-

зи дна зоны проводимости (рис.1,б) Еd. Эти уровни заполнены некоторым числом электронов и называются донорными, а атомы примесей, поставляющие «лишние» электроны в решётку, называются атомамидонорами. Полупроводники такого типа называются электронными

(или полупроводниками n -типа).

Вполупроводнике с примесью, валентность которой на единицу меньше валентности основных атомов (германий с примесью бора), образуется система из эффективного заряда -e и движущейся вокруг него электронной вакансии (положительной дырки). Под влиянием теплового возбуждения дырка, связанная с примесным центром, также может быть делокализована, т.е. вместо дырки, связанной с данным центром, может появиться дырка в другом месте решётки, и эта дырка в результате последовательного заброса в неё других электронов связи будет перемещаться по кристаллу. Этот процесс аналогичен отрыву связанного электрона от донора и может быть назван переводом дырки в свободное состояние. В запрещённой энергетической зоне появляются уровни, располагающиеся несколько выше верхнего края валентной зо-

ны основного кристалла (рис.1,в) Ea. Эти уровни называются акцепторными, а атомы примесей в этом случае называют атомами-акцепторами. Возникновение дырочной примесной проводимости в таком полупроводнике связано с тем, что электроны, расположенные у верхнего края заполненной зоны, легко могут быть переведены на акцепторные уровни. Полупроводники такого типа называются дырочными (или полупроводниками p -типа).

4

Для анализа многих явлений в полупроводниках важно знать закон распределения электронов и дырок по энергетическим уровням. Для описания этого закона вводится функция распределения f (E) , характеризующая вероятность того, что уровень с данной энергией Е занят.

В соответствии с квантовой статистикой функция распределения f (E) зависит только от энергии и равна

f (E) =

 

 

E

F

 

1

exp

 

 

 

+ 1

,

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

где F – средний термодинамический потенциал на один электрон (эту величину чаще называют уровнем химического потенциала, или уров-

нем Ферми).

В металлах при 0° К все состояния ниже уровня Ферми заполнены, а выше него пусты, т.е. уровень Ферми проходит посредине валентной зоны. При повышении температуры часть электронов забрасывается из нижней половины зоны в верхнюю. Переходы происходят в интервале энергий порядка 4kT, что при комнатной температуре составляет всего

0,1 эВ.

В случае полупроводников ситуация оказывается существенно иной. Число свободных электронов в полупроводниках колеблется в пределах от 1013 до 1018 см-3, общее же число электронных уровней равно 2Ng, где N – число атомов и g – число электронов на атомном уровне, из которого образовалась зона. В 1 см3 кристалла содержится

порядка 1022 атомов, т.е. доля электронных уровней, занятых электро-

нами, здесь ничтожно мала. Поэтому

f (E) < 1 и уровень Ферми должен

проходить ниже дна зоны проводимости. В этом случае

 

E

F

f (E) = exp

 

 

.

kT

 

 

 

 

4.2. ФОТОПРОВОДИМОСТЬ ПОЛУПРОВОДНИКОВ

Если полупроводник находится в тепловом равновесии, то в нём могут быть свободные электроны и (или) дырки, которые называются равновесными. Полная концентрация равновесных электронов (nо) и дырок (po) равна их сумме. Если полупроводник получает дополнительную (избыточную) энергию в виде теплового нагрева или в виде электромагнитного (светового), или ионизирующего излучения (α -, β -,

5

γ - излучений и др.), то в полупроводнике возникают неравновесные или избыточные носители заряда n, p. Простейший способ создания неравновесных носителей – освещение полупроводника светом с подходящей длиной волны. В этом случае полная концентрация носителей заряда определится суммой концентраций равновесных и неравновесных носителей заряда:

n =

n0 +

Än;

(1)

p =

p0 +

Äp.

(2)

Возникновение неравновесных носителей заряда приводит к уве-

личению проводимости полупроводника:

 

ó = óT + Äó = e(n0 ìn +

p0 ìp )+ e(Änìn + Äpìp ) ,

(3)

где σ T – темновая проводимость, т.е. когда внешняя энергия не подво-

дится к полупроводнику, и он находится в тепловом равновесии; ∆σ

-

неравновесная проводимость (фотопроводимость):

 

Äó = e(Änìn + Äpìp ).

(4)

Изменение электрического сопротивления полупроводника, вызванное действием электромагнитного излучения из оптического, ИК и других диапазонов и не связанное с его нагревом, называется фотопроводимостью (внутренним фотоэффектом или фоторезистивным фотоэффектом).

Так как при возникновении неравновесных носителей заряда изменяется полная концентрация носителей, то изменяется и положение уровня Ферми. Поэтому можно записать

 

 

 

 

 

 

 

 

 

F

 

E

с

 

 

 

 

n =

n

0

+

Än

N

d

exp

 

n

 

 

 

 

,

(5)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

k T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E

 

F

p

 

 

 

p =

p0 +

Äp

N a

 

 

V

 

 

 

 

 

(6)

 

 

 

 

 

 

 

exp

 

 

k T

 

 

 

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Энергетические уровни Fn , Fp - квазиуровни Ферми для электронов и дырок соответственно, то есть Fn , Fp – химические потенциалы электронного газа в валентной зоне при отсутствии термодинамического равновесия. На рис.2,а показано положение уровня Ферми при тепловом (термодинамическом) равновесии.

При отсутствии возбуждения (в темноте) при термодинамическом равновесии степень заполнения состояний как электронами, так и дырками определяет один уровень Ферми F (рис.2,а). Степень заполнения

 

 

 

 

 

 

 

 

6

 

 

 

 

электронами определяет-

 

а

 

б

 

в

ся

энергетическим

рас-

 

 

 

E c

 

 

стоянием от уровня Фер-

 

 

 

Fn

 

 

 

 

E d

 

ми до дна зоны проводи-

 

 

 

 

 

 

 

E d

 

мости Ес, то есть (Ес – F),

 

 

 

 

 

 

 

 

F

 

 

а

степень

заполнения

 

 

 

 

 

дырками

энергетиче-

 

 

 

Fp

E a

 

ским

расстоянием

 

от

 

 

 

E v

Fn

 

уровня Ферми до верх-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

него края валентной зоны

Рис. 2. Положение квазиуровня Ферми при тепловом рав-

(F – ЕV).

 

 

 

 

новесии (а); - положение квазиуровня Ферми при стацио-

 

 

 

 

 

 

 

нарном оптическом возбуждении электронного и дыроч-

 

 

 

 

 

 

 

ного полупроводников (б, в)

 

 

 

 

При нетермическом возбуждении полупроводника закон дейст-

вующих масс не выполняется ( pn

n2 ), а для определения степени за-

полнения уровней электронами и дырками необходимо знать положе-

ния квазиуровней Ферми (рис.2,б).

 

 

 

 

 

 

Степень заполнения уровней электронами определяется электрон-

ным уровнем Ферми Fn , расположенным ниже дна зоны проводимости,

а степень заполнения уровней дырками – дырочным уровнем Ферми Fp,

расположенным выше верхнего края валентной зоны.

 

 

 

 

При поглощении квантов света возможны три типа переходов,

приводящих к появлению фотопро-

 

 

 

EC

водимости (рис.3):

 

 

 

 

 

2

2

 

 

 

1) переход 1 соответствует

 

Ed

 

 

 

 

 

собственному

поглощению

света

 

1

 

 

(атомами или ионами самой кри-

 

 

F

hv ≥ Eg

 

сталлической решётки), что приво-

 

 

 

Ea

дит

 

к

образованию

свободного

 

3

3

электрона и свободной дырки на

 

 

 

 

 

 

каждый поглощённый фотон (соб-

 

 

 

EV

ственная проводимость, Än =

Äp);

 

Рис. 3. Переходы электронов и дырок при

 

 

2) переход 2 соответствует погло-

 

 

фотопроводимости

 

 

щению света локальными несовершенствами (дефектами, примесями) –

донорами в кристалле, при этом на каждый поглощённый фотон созда-

ются свободный электрон в зоне проводимости и дырка, связанная с

соответствующим центром;

 

 

 

 

 

 

 

 

3) переход 3 соответствует случаю, когда каждый поглощённый

 

 

 

7

 

 

 

 

фотон переводит на незанятый локальный уровень (акцептор) электрон

из валентной зоны, в результате чего образуются свободная дырка в ва-

лентной зоне и связанный электрон на примеси.

 

 

При фотоионизации локальных состояний типа примесных атомов

(переходы 2 и 3) возрастает концентрация носителей заряда только од-

ного типа (примесная фотопроводимость). Для возбуждения собствен-

ных атомов полупроводника (переход 1) фотон должен обладать энер-

гией hv1 ÄE , а для возбуждения примесных атомов (переходы 2 и 3) -

hv2 ÄEd ,

hv3 ÄEa , где

E,

Ed ,

Ea - энергия активации собст-

венных, донорных, акцепторных атомов соответственно; v1, v2 , v3 - со-

ответствующие частоты поглощаемого света.

 

 

 

Максимальная длина волны (красная граница фотопроводимости),

при которой свет является ещё фотоэлектрически активным, т.е. создаёт

свободные носители заряда, определяется соотношением:

 

для собственной фотопроводимости ëc

 

= h c ;

(7)

 

 

 

 

max

ÄE

 

для примесной фотопроводимости

ëп

=

h c .

(8)

 

 

 

 

max

 

ÄEп

 

 

 

 

 

 

 

 

Спектральная зависимость фотопроводимости определяется спек-

тральной зависимостью ско-

 

К, см-1

 

 

 

рости генерации примесных

 

1

 

 

 

 

 

 

 

или собственных носителей

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

заряда и связана со спектром

 

а

 

 

 

 

поглощения

полупроводни-

 

 

 

 

 

λ , нм

ка.

 

 

iф, А

 

 

 

 

В области собственного

 

3

 

 

 

 

 

 

поглощения (рис.4,а, кривая

 

 

 

 

 

 

1) коэффициент поглощения

 

б

 

 

 

 

К достигает очень больших

 

 

 

 

 

 

значений (104 – 106 см-1). Это

 

 

 

 

 

 

означает, что свет практически

Рис. 4. Схема спектра поглощения полупроводника

полностью поглощается на глу-

(а) и спектральное распределение фоточувствитель-

бине 10-4 – 10-6 см. В этой облас-

ности (б):

 

 

 

 

ти красная граница фоточувст-

1 - полоса собственного поглощения (межзонные пе-

реходы);

 

 

 

 

вительности совпадает с грани-

2А – поглощение, обусловленное ионизацией при-

цей собственного поглощения

 

месных уровней;

 

 

 

 

2В – фотопроводимость, обусловленная возбужде-

(кривая 3). В области примес-

 

нием примесных уровней

 

8

ного поглощения спектральное распределение фоточувствительности обычно совпадает с полосой поглощения, соответствующей переходу электронов с примесных уровней в зону проводимости или из валентной зоны на примесные уровни. Граница примесного поглощения и фоточувствительности сдвинута в длинноволновую сторону спектра поглощения по отношению к собственному поглощению, так как энергия ионизации примеси меньше, чем ширина запрещённой зоны. Кроме того, примесная фотопроводимость значительно меньше собственной, так как концентрация примеси на много порядков меньше концентрации атомов основной решётки.

5. ОПИСАНИЕ УСТАНОВКИ

Блок-схема установки для исследования спектральной характеристики фоторезистора приведена на рис.5,а.

1. Монохроматический свет из монохроматора 1 падает на фоторезистор 2.

2.На фоторезистор 2 подаётся напряжение от источника питания 3.

3.Ток, протекающий через фоторезистор, регистрируется микроамперметром 4.

а

1

2

 

б

 

 

4

1

2

4

 

 

5

 

3

 

 

3

Рис. 5. Блок - схема установки: а – установка для исследования спектральной характеристики фоторезистора; б – установка для исследования вольт-амперной характеристики фоторезистора

Вольт-амперная характеристика фоторезистора исследуется на установке, блок-схема которой показана на рис.5,б.

Свет от лампы накаливания 1 попадает на фоторезистор 2, кото-

9

рый может перемещаться вдоль шкалы 5. На фоторезистор 2 подаётся напряжение от источника питания 3. Фототок регистрируется микроамперметром 4.

6. ПРОВЕДЕНИЕ ЭКСПЕРИМЕНТА

6.1 ИССЛЕДОВАНИЕ СПЕКТРАЛЬНОЙ ХАРАКТЕРИСТИКИ ФОТОРЕЗИ-

СТОРА

1. Включить источник света – эталонную лампу с известной температурой накаливания вольфрамовой нити (2850° К).

2.Подать напряжение на фоторезистор (ФР) от источника постоянного тока, величину которого указывает преподаватель.

3.Снять спектральную характеристику фоторезистора (табл.1).

Построить зависимость фототока от длины волны Iф(λ ).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Таблица 1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Излуча-

 

 

Спек-

Спектраль-

 

Длина

 

 

Энергия

емая по-

Число

тральное

 

Фототок

ная чувст-

 

верхно-

квантов

распреде-

волны

 

 

фотона

стная

света

ление

вительность

 

 

 

 

 

энергия

 

 

фототока

ФР

 

 

I,

Iф,

 

 

 

 

 

λ , нм

ε , эВ

Rэ, 2

N

N/Nmax

Iф/N/Nmax

Sотн=f(hc/λ )

 

 

мкА

А

 

Вт/см

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

19

 

 

 

 

 

 

 

 

 

20

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Соседние файлы в папке Методички