Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

m07-1

.pdf
Скачиваний:
8
Добавлен:
21.05.2015
Размер:
1.07 Mб
Скачать

ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ОБРАЗОВАНИЮ ГОСУДАРСТВЕННОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ

ВЫСШЕГО ПРОФЕССИОНАЛЬНОГО ОБРАЗОВАНИЯ «ВОРОНЕЖСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ»

О.Б. Яценко, И.Г. Чудотворцев, М.К. Шаров

ОСНОВЫ ФИЗИКИ И ХИМИИ ПОЛУПРОВОДНИКОВ

Часть II

Учебное пособие для вузов

Издательско-полиграфический центр Воронежского государственного университета

2007

Утверждено научно-методическим советом химического факультета 13 сентября 2007 г., протокол № 1

Учебное пособие подготовлено на кафедре неорганической химии химического факультета Воронежского государственного университета.

Рекомендуется для студентов IV курса дневного и V курса вечернего отделения.

Для специальности 020101 (011000) – Химия

2

Глава 1. Особенности химической связи в полупроводниках

Типы химической связи в кристаллах рассматривались в первой части настоящего учебного пособия. Там же отмечалось, что чистая химическая связь данного типа встречается достаточно редко. Ковалентная связь при различных значениях электроотрицательности подвергается поляризации, т.е. электронное облако смещается в сторону более электроотрицательного атома. В результате на ковалентность накладывается определенная доля ионности, и связь становится уже частично ионной. Кроме того, уже при температуре, немного отличной от абсолютного нуля, существует вероятность разрыва электронной пары, ответственной за ковалентную связь. С увеличением температуры эта вероятность увеличивается. А разрыв электронной пары означает начало металлизации связи, так как эти электроны теперь принадлежат всему кристаллу.

В целом химическая связь между разнородными атомами в твердых телах имеет ковалентно-ионно-металлический характер. Состояние элек-

тронов, участвующих в межатомной связи, может быть описано функцией

ψ = с1ψков + с2ψион + с3ψмет,

(1.1)

где коэффициенты с1, с2 и с3 определяют долю ковалентной, ионной и металлической составляющих химической связи и в сумме равны единице.

В зависимости от того, каким из трех коэффициентов можно пренебречь в реальном соединении, говорят о двойственном характере химической связи. Например, в сульфиде цинка коэффициент с3 пренебрежительно мал, поэтому межатомная связь в нем является ковалентно-ионной. В анитмониде индия InSb, наоборот, практически отсутствует ионная доля связи (с2 → 0), поэтому в этом веществе химическая связь преимущественно ковалентно-металлическая. В соединении NaSb химическая связь имеет ионно-металлический характер, т.е. с1 → 0.

Вклад того или иного компонента преобладает в зависимости от положения элементов, образующих соединения, в Периодической системе, и от разности относительных электроотрицательностей (ОЭО) между элементами.

С увеличением разности ОЭО возрастает вклад ионной связи. Если разность ОЭО мала или равна 0, в случае простых веществ, можно говорить о ковалентно-металлической связи.

3

Вклад ковалентной связи растет, если оба компонента являются неметаллами и имеют высокие значения электроотрицательности. Если оба компонента являются металлами, возрастает вклад металлической связи. В целом в Периодической системе как для простых веществ, так и для бинарных соединений доля металлической связи возрастает в группах сверху вниз.

К критериям, позволяющим оценить, какой вклад в химическую связь преобладает на практике, относятся координационные числа в кристаллах. Для ковалентных кристаллов характерны малые координационные числа 1 – 4, для ионных наиболее характерно число 6. Для металлических кристаллов преобладают координационные числа 8 и 12.

Вполупроводниках вклад ковалентной связи всегда является значительным или преобладающим. Преобладание ковалентного вклада в химическую связь считается одним из критериев того, что вещество может являться полупроводником.

Вбольшинстве случаев полупроводники имеют координационное число 4, реже – 6.

Для предсказания свойств полупроводника важно установление зависимости между характером химической связи в нем и такими ключевыми параметрами, как ширина запрещенной зоны, концентрация носителей, подвижность и т.п.

Зонная теория твердого тела не позволяет прямо установить подобные зависимости. Однако известны некоторые корреляции, которые позволяют

схорошей точностью предсказать ширину запрещенной зоны на основании косвенных критериев, например:

∆Е = (nВ/nА) n [c – m + p] ∆G.

(1.2)

Здесь nВ и nА – число валентных электронов атомов А и В;

с, m , р – доли ковалентной, металлической и ионной составляющих связи;

∆G– энергия атомизации.

В этом уравнении первый сомножитель (nB/nA)n отражает тенденцию к росту ширины запрещенной зоны при переходе от элементарных полупроводников к соединениям AIIIBV и далее – к соединениям AIIBVI. Это происходит благодаря росту эффективных зарядов компонентов соединений.

С увеличением доли ковалентной и ионной связи ширина запрещенной зоны растет, поэтому соответствующие вклады «c» и «p» приводятся в

4

формуле со знаком «+». С увеличением доли металличности связи ширина запрещенной зоны уменьшается, поэтому вклад «m» имеет знак минус. Наконец, энергия атомизации связана с шириной запрещенной зоны прямо пропорционально, так как эта энергия характеризует прочность ковалентных связей в кристалле.

Чтобы упростить выражение (1.2), можно принять, что доля металличности является функцией суммы атомных номеров z взаимодействующих атомов, а доля ионности зависит от разности электроотрицательностей. Тогда получим:

∆Е = (nв/nА)n [с – f1 (Σz) + f2 (∆Х) ] ∆G.

(1.3)

Численные значения величин с, f1 и f2 можно определить следующим образом. Для элементарных полупроводников (алмаз, кремний, германий, α-олово) вклад ионной составляющей равен нулю, и уравнение соответственно упрощается:

∆Е = [с – f1 (Σz)] ∆G.

(1.4)

Подставляя в это уравнение экспериментально определенные параметры элементарных полупроводников (∆Е, ∆G) и решая четыре уравнения с двумя неизвестными, определяют величину ковалентного вклада < с > и функциональную зависимость f1(Σz). Затем, распространяя уравнение (1.3) на полупроводниковые соединения, учитывают и величину ионного вклада f2 (∆Х). Это осуществляется путем сравнения экспериментальной и расчетной (по уравнению (1.3)) величины ∆Е для полупроводникового соединения SiC, оба компонента которого принадлежат к одной группе Периодической системы, а значит для них (nв/nа)n = 1.

В окончательном виде, пригодном для расчетов, уравнение приобретает вид:

∆Е = (nв/nА)1,2 [0,86 – 0,0076 (Σz) + 0,2 (∆ Х)] – 10–2 ∆G(1.5)

В табл. 1 приведены результаты расчетов для ряда полупроводников в сопоставлении с экспериментальными величинами.

5

 

 

 

 

 

Таблица 1

 

 

 

 

∆Е (эксп),

 

 

Вещество

Σz

∆ Х

∆G,

∆Е (расч),

ккал/ моль

эВ

эВ

 

 

 

 

 

4,6

 

 

BN

12

1,0

314,6

5,6

 

SiC

20

0,7

300

2,8

2,5

 

AlAs

46

0,5

170

2,2

1,92

 

 

 

 

 

2,25

 

 

GaP

46

0,6

170

1,99

 

AlSb

64

0,3

160

1,6

1,33

 

GaAs

64

0,4

146

1,4

1,22

 

 

 

 

 

1,3

 

 

InP

64

0,6

155

1,4

 

GaSb

82

0,4

135

0,7

0,78

 

Данные табл. 1 свидетельствуют об удовлетворительном согласии расчетных данных с экспериментом.

Влияние характера химической связи на свойства полупроводников хорошо прослеживается в ряду изоэлектронных аналогов, к которым относятся элементарные полупроводники – германий, кремний, с электронной

концентрацией, равной четырём электронам на атом, а также соединения AIIIBV, AIIBVI и AIBVII, где в среднем на один атом также приходится четыре

электрона. При переходе от германия к арсениду галлия и далее – к селениду цинка ширина запрещенной зоны, согласно приведенным выше рассуждениям, должна расти. Действительно, в приведенном горизонтальном ряду электронных аналогов увеличивается разность электроотрицательностей компонентов, соответственно растет и ионная составляющая связи. С ростом доли ионной связи увеличивается степень асимметрии электронного облака, смещение его в сторону анионообразователя, что приводит к большой разнице между максимумом и минимумом периодического потенциала в поле кристалла. Поскольку ширина запрещенной зоны прямо пропорциональна этой разнице, то с увеличением доли ионной связи она растет. Так, у чистого германия ширина запрещенной зоны составляет 0,785 эВ, а у его изоэлектронных аналогов GaAs и ZnSe она соответственно равна

1,4 эВ и 2,7 эВ.

6

Глава 2. Химическая классификация полупроводников

2.1. Элементарные полупроводники

Химическая классификация полупроводников основана на Периодической системе элементов Д.И. Менделеева. Прежде всего различают элементарные полупроводники, т. е. полупроводниковые простые вещества.

К элементарным полупроводникам относятся 11 простых веществ. Как отмечалось в предыдущей части пособия, они располагаются вблизи большой диагонали Периодический таблицы.

В первых двух группах Периодической системы Д.И. Менделеева элементарные полупроводники отсутствуют. Из элементов третьей группы полупроводником является бор. В этом проявляется диагональная аналогия между химией бора и кремния – типичного элементарного полупроводника.

Из элементов IV группы, помимо кремния, к типичным полупроводникам относится германий. Углерод, его аллотропические видоизменения – алмаз и графит – также проявляют полупроводниковые свойства, хотя первый стоит ближе к изоляторам, а второй – к металлам. Электрофизические свойства третьей полиморфной модификации углерода – карбина – еще не изучены из-за очень малых размеров кристаллов. Из двух модификаций олова белое олово – металл, а серое олово – полупроводник. Свинец – только металл. Среди элементов V – VII групп полупроводниковые свойства проявляют некоторые модификации фосфора, мышьяка и сурьмы, а также сера, селен, теллур.

При переходе от элемента к элементу в группах наблюдаются закономерное изменение ключевых свойств полупроводников. Так, например, в группах сверху вниз закономерно уменьшается ширина запрещенной зоны. В этом же направлении происходит уменьшение температуры плавления проводников. Уменьшается твердость полупроводниковых кристаллов. Увеличивается подвижность носителей зарядов. Все эти изменения связаны с возрастанием металлического вклада в химическую связь и уменьшением ковалентного.

Подобные закономерности наблюдается не только для элементарных полупроводников, но и для полупроводниковых соединений.

Рассмотрение элементарных полупроводников начнем с полупроводящих веществ IV группы Периодической системы, так как представителями этой группы являются практически самые важные полупроводники – кремний и германий.

7

Кремний. В настоящее время кремний – главный полупроводниковый материал в области твердотельной микроэлектроники. Преимущество кремния перед германием заключается в большей ширине запрещенной зоны. Поэтому кремниевые приборы могут работать при более высоких температурах. Если рабочая температура германиевых приборов не превышает 60 – 80 ºС, то кремниевые диоды могут работать вплоть до 200 ºС.

Чистый кремний имеет металлический блеск, обладает хрупкостью. Основные физические свойства кремния и германия приведены в табл. 2.

 

 

 

 

 

 

Таблица 2

 

 

 

 

 

Подвижность носителей

 

 

 

 

 

тока, см2/ В с

 

Плотность,

Температура

Ширина

 

 

 

элек-

дырок

 

г/см

3

плавления,

запрещенной

тронов

 

 

 

Si

2,328

ºС

зоны

1500

480

1421

1,21

Ge

5,323

937

(при 300 К), эв

3900

1900

0,78

Кремний кристаллизуется в кубической решетке (структурный тип алмаза) с восемью атомами в элементарной ячейке.

Ширина запрещенной зоны у кремния при абсолютном нуле равна 1,21 эВ и с повышением температуры уменьшается:

∆Е = 1,21 – 3,6 10–4 Т [эВ].

Ввиду высокого значения ширины запрещенной зоны собственное сопротивление кремния составляет около 105 ом см, и кремний такой чистоты не должен содержать примесей более 108 см–3. Эмпирическая зависимость холловской подвижности электронов Un и дырок Up от температуры выражается формулами:

Un = 4,0 109 Т – 2,6 [см2/ В с] и Up = 1,5 108 Т – 2,3 [см2/ В с].

При 300 К Un = 1500 и Uр = 480 см2/в с. Как видно из приведенных формул, температурная зависимость подвижности носителей тока в кремнии не подчиняется закону Т–3/2. Это связано со сложной структурой энергетических зон в кремнии. Поскольку подвижность электронов больше подвижности дырок, знак эффекта Холла и термо-э.д.с. в кремнии соответствует проводимости n-типа.

Элементы III группы (В, Al, Ga) создают в кремнии акцепторные уровни на расстоянии около 0,05 эВ от потолка валентной зоны. Энергия ионизации одних и тех же примесей в кремнии больше, чем в германии.

8

Германий. Чистый германий обладает металлическим блеском, довольно тверд. Отличается большой хрупкостью – при легком ударе молотком рассыпается на куски.

Кристаллизуется германий, как и кремний, в структуре алмаза. Постоянная решетки и расстояние между соседними атомами в германии больше, чем в кремнии. Ковалентная связь в германии менее прочна, вследствие чего он имеет более низкую температуру плавления и меньшую ширину запрещенной зоны, чем кремний.

Ширина запрещенной зоны у германия при абсолютном нуле 0,785 эВ. Она уменьшается с ростом температуры:

∆Е = 0,785 – 3,5 10 – 4 [эв].

Концентрация носителей 2,6 1013 отвечает чистоте германия 99,99999999 %, и такие образцы уже при комнатной температуре обладают собственной проводимостью, т. е. остающиеся в них примеси не влияют на их электрофизические свойства.

Температурная зависимость подвижности носителей в совершенных монокристаллах германия выражается формулой:

Un = 4,90 107 Т –1,66 [см2/в с]

Вгермании изменение подвижности электронов в отличие от дырок почти точно следует закону Т–3/2. Степень отклонения от этой зависимости определяется чистотой образцов.

Вгерманий можно ввести большое число различного рода примесей, энергетические уровни которых расположены в запретной зоне. Эти примесные уровни могут быть донорными или акцепторными в зависимости от их химической природы. Энергия активации примесей атомов III и V групп Периодической системы в германии составляет примерно 0,01 эВ.

Для германия характерно увеличение энергии ионизации акцепторов сверху вниз по Периодической системе от бора к индию. Это объясняется тем, что в ряду В—Al – Ga—In—Т1 нарастают металлические свойства,

аспособность к захвату электрона закономерно падает.

Серое олово. Олово существует в трех полиморфных модификациях. Полупроводниковыми свойствами обладает серое олово (α-Sn). Серое олово, кристаллизующееся в решетке алмаза, устойчиво до 13,2 °С. При этой температуре α-Sn превращается в обыкновенное металлическое белое олово, или β-Sn. Белое олово кристаллизуется в тетрагональной решетке. При нагревании выше 161 °С оно переходит в ромбическую модификацию γ-Sn

9

плотностью 6,60, которая отличается высокой хрупкостью. Взаимное превращение различных модификаций олова можно изобразить схемой

 

 

13,2 °С

 

 

161 °С

 

 

 

 

 

 

 

α-Sn

 

β-Sn

 

γ-Sn

 

231,9 °

жидкое олово

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Как видно из схемы, ромбическая модификация олова непосредственно не может быть превращена в серое олово. А переход белого олова в серое сопровождается резким изменением плотности (от 7,298 до 5,846 г/см3). Скорость перехода β-Sn в серую модификацию растет с переохлаждением и достигает максимума при – 34 °С. Это превращение легче протекает при соприкосновении белого олова с серым1.

Термическая ширина запрещенной зоны серого олова лежит в пределах от 0,064 до 0,094 эВ при абсолютном нуле. С ростом температуры ширина запрещенной зоны падает со скоростью

∆Е = 0,08 – 5 10–5 Т [эВ].

Примесные атомы Al, Ga, In, Cd, Au, Zn действуют на тип проводимости серого олова как акцепторы; As, Sb, Bi – как доноры; Cu, Si, Ge, Se, Те, Ti, V, Mn, Fe, Co, Ni могут функционировать как акцепторы и как доноры в зависимости от условий.

Из элементов V группы Периодической системы при определенных условиях полупроводниковые свойства проявляют фосфор, мышьяк и сурьма. Однако полупроводниковые модификации данных элементов малодоступны и не представляют интереса с точки зрения их применения. Поэтому рассмотрим полупроводники VI группы Периодической системы селен и теллур.

Селен и теллур. Первое в мире фотосопротивление было изготовлено из селена более 100 лет тому назад, а история селеновых выпрямителей начинается с 1933 г. В настоящее время элементарный селен – один из важнейших полупроводниковых материалов. Кроме того, на основе селена получают многочисленные селениды металлов, которые также проявляют полупроводниковые свойства.

Теллур как полупроводник самостоятельного применения в технике не находит. Но многочисленные соединения теллура – теллуриды – широко применяются в качестве полупроводниковых материалов.

1 Оловянные предметы или изделия из сплавов олова при соответствующих температурных условиях «заражаются» друг от друга, и таким путем распространяется «оловянная чума».

10

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]