
- •Предисловие
- •Условные обозначения
- •Список сокращений
- •Введение
- •Концептуальная диаграмма
- •Контрольныевопросыизадания
- •Глава 1структура и свойства твердых тел
- •Равновесное расположение частиц в кристалле
- •Идеальные кристаллы. Решетки Бравэ
- •Решетки Бравэ
- •Нормальные колебания решетки. Фононы
- •Структура реальных кристаллов
- •Структурозависимые свойства
- •Жидкие кристаллы
- •1.7. Аморфное состояние
- •Контрольныевопросыизадания
- •Глава 2физические основы квантовой механики
- •2.1. Волновые свойства микрочастиц
- •2.2. Уравнение Шредингера. Волновая функция
- •2.3. Свободный электрон. Фазовая и групповая скорости
- •2.4. Электрон в потенциальной яме
- •2.5. Туннелирование микрочастиц сквозь потенциальный барьер
- •Коэффициент прозрачности барьера
- •2.6. Квантовый гармонический осциллятор
- •2.7. Водородоподобный атом. Постулат Паули
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 3элементы статистической физики
- •3.1. Термодинамическое и статистическое описание коллектива. Функция распределения
- •3.2. Фермионы и бозоны. Вырожденные и невырожденные коллективы
- •Возможные варианты состояний
- •3.3. Функция распределения Максвелла-Больцмана Химический потенциал
- •3.4. Функция распределения Ферми-Дирака. Энергия Ферми
- •3.5. Функция распределения Бозе-Эйнштейна
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 4элементы зонной теории твердых тел
- •4.1. Обобществление электронов в кристалле
- •4.2. Модель Кронига-Пенни
- •4.3. Зоны Бриллюэна
- •4.4. Эффективная масса электрона
- •4.5. Зонная структура изоляторов, полупроводников и проводников. Дырки
- •4.6. Примесные уровни
- •Донорные примеси
- •Акцепторные примеси
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 5электропроводность твердых тел
- •5.1. Проводимость и подвижность носителей
- •5.2. Механизмы рассеяния и подвижность носителей
- •5.3. Концентрация носителей и уровень Ферми в полупроводниках
- •5.4. Электропроводность полупроводников
- •5.5. Электропроводность металлов и сплавов
- •5.6. Сверхпроводимость
- •Температура сверхпроводящего перехода
- •5.7. Основы теории Бардина – Купера – Шриффера
- •5.8. Эффекты Джозефсона
- •Параметры слабосвязанных сверхпроводниковых структур, изготовленных методами интегральной технологии
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 6 равновесные и неравновесные носители заряда
- •6.1. Генерация и рекомбинация неравновесных носителей. Время жизни
- •6.2. Уравнения непрерывности
- •6.3. Фотоэлектрические явления в полупроводниках
- •3 − Экситонное поглощение; 4 − решеточное поглощение;
- •5 − Поглощение свободными носителями
- •2 − Полупроводниковая пленка; 3 − контактные площадки; 4 − защитное покрытие
- •6.4. Полупроводники в сильном электрическом поле
- •6.5. Токовые неустойчивости в сильных электрических полях
- •6.6. Эффект Ганна
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 7 Контактные явления
- •7.1. Работа выхода электрона. Контакт металл – металл
- •7.2. Контакт металл – полупроводник
- •7.3. Электронно-дырочный переход
- •7.4. Выпрямляющее действие p-n-перехода. Пробой
- •7.5. Гетеропереходы
- •7.6. Эффект Зеебека
- •7.7. Эффект Пельтье
- •7.8. Фотоэффект в p-n – переходе. Фотодиоды
- •7.9. Излучательные процессы в p-n – переходе. Светодиоды
- •Инжекционные полупроводниковые лазеры
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 8поверхностные явления в полупроводниках
- •8.1. Поверхностные энергетические состояния
- •8.2. Зонная диаграмма и заряд в приповерхностном слое
- •8.3. Поверхностная проводимость
- •8.4. Эффект поля. Полевые транзисторы
- •8.5. Влияние состояния поверхности на работу полупроводниковых приборов
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 9 Электронные процессы в тонких пленках и тонкопленочных структурах
- •9.1. Структура и свойства тонких пленок
- •Механизмы электропроводности в диэлектрических пленках
- •9.2. Контакт металл-диэлектрик. M-д-m – структура
- •Глубина обогащенного слоя [20]
- •Глубина области обеднения
- •9.3. Туннелирование сквозь тонкую диэлектрическую пленку
- •9.4. Токи надбарьерной инжекции электронов
- •9.5. Токи, ограниченные пространственным зарядом
- •9.6. Прохождение горячих электронов сквозь тонкие металлические пленки
- •9.7. Активные устройства на основе тонкопленочных структур
- •1. Диоды с резонансным туннелированием
- •2. Диэлектрические диоды
- •3. Тонкопленочный триод на основе топз
- •4. Транзисторы на горячих электронах
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 10 перспективы развития микроэлектроники
- •10.1. Ограничения интегральной электроники
- •10.2. Функциональная электроника
- •10.3. Системы пониженной размерности. Наноэлектроника
- •10.4. Квантовые одно- и двумерные структуры
- •10.5. Квантовые точки. Одноэлектроника
- •3 А) б) игла островок изолятор затвор исток
- •Контрольные вопросы и задания
- •Заключение
- •Приложения п.1. Фундаментальные физические постоянные
- •П.2. Свойства полупроводников
- •П.3. Некоторые единицы системы си Основные единицы
- •Некоторые производные механические единицы
- •Некоторые производные единицы электрических величин
- •Некоторые производные единицы магнитных величин
- •П.4. Внесистемные единицы, допускаемые к применению
- •П.5. Плотность некоторых твердых тел
- •Библиографический список
- •Алфавитно-Предметный указатель
- •Оглавление
- •424000 Йошкар-Ола, пл. Ленина, 3
- •424006 Йошкар-Ола, ул. Панфилова, 17
7.9. Излучательные процессы в p-n – переходе. Светодиоды
Как мы уже говорили, рекомбинация носителей заряда в полупроводниках сопровождается излучением электромагнитных волн оптического диапазона – излучательная рекомбинация (п. 6.3). В p-n-переходах эти электронно-оптические явления приобретают существенные особенности.
Прохождение через p-n-переход тока в прямом направлении, как уже отмечалось в п. 7.4, сопровождается инжекцией неосновных носителей у границ p-n-перехода: электронов вp-область, дырок вn-область. Концентрация неосновных носителей у границp-n-перехода при этом резко возрастает и становится значительно больше равновесной. К инжектированным неосновным носителям притягиваются основные носители, и их концентрация становится также выше равновесной. Этот эффект особенно выражен на расстоянии диффузионной длины от металлургической границы перехода. При удалении от этой границы концентрация неравновесных носителей убывает за счет их рекомбинации.
Поскольку данные носители являются
неравновесными, то вблизи p-n-перехода
их распределение описывается квазиуровнями
Ферми (п. 6.1)
,
.
По мере удаления от области объемного
заряда квазиуровни Ферми будут
приближаться к равновесному уровню
Ферми и сольются с ним. Энергетические
расстояния между квазиуровнями Ферми
вблизи области объемного заряда
определяются напряжением, приложенным
непосредственно к p-n-переходу.
.
(7.100)
Очевидно, что максимальное прямое напряжение, которое может быть приложено к p-n-переходу, ограничено высотой потенциального барьера φ0=eUk. С помощью внешнего поля можно уменьшить потенциальный барьер, но нельзя сделать его отрицательным. Это означает, что в p-n-переходе концентрация инжектированных носителей не может превышать концентрацию тех же носителей в эмиттере, где они являются основными. Иначе говоря, вероятности генерации и рекомбинации носителей, т.е. поглощения и излучения энергии в таком переходе близки. Для того чтобы создать излучающий p-n-переход, необходимо нарушить то равновесие, т.е. создать инверсное состояние, когда вероятность излучательной рекомбинации wизл будет больше вероятности поглощения wпогл
.
(7.101)
С учетом (6.1) и (6.2) можно записать
,
(7.102)
где En , Ep – энергия электронов, дырок.
Поскольку минимальное энергетическое расстояние между En иEpравно ширине запрещенной зоныЕg, то
.
(7.103)
Последнее соотношение является условием инверсии населенностей для переходов зона-зона.
Из сказанного следует, что для создания инверсных состояний при инжекции неосновных носителей заряда через p-n-переход, т.е. удовлетворении условия (7.103) необходимо, чтобы одна или обе области перехода были вырожденными, т.е. имели сильную степень легирования. Как известно, в таких полупроводниках уровень Ферми находится в разрешенной зоне (рис. 7.15, а).
а)
б)
Рис. 7.15. Электрические диаграммы для вырожденного p-n-перехода: а– в отсутствие смещения;б– смещение в прямом направлений,d– ширина перехода,
l– ширина активной области (E*фп-Е*фп>Eg)
При прямом включении p-n-перехода
происходит смещение энергетических
уровней, уменьшение высоты и широты dпотенциального барьера, исходящий
уровень Ферми расщепляется на квазиуровнии
(см. рис. 7.15). На рисунке видно, что в
окрестности перехода возникает активный
слой, в котором соблюдается условие
инверсии населенности (7.103). Толщина
активного слояlможет быть значительно
большеd. Именно из
этого слоя происходит излучение
электромагнитных волн. Частота излучения
определяется шириной запрещенной зоны
.
(7.104)
Последнее выражение показывает центр спектральной характеристики излучения, интенсивность которого описывается выражением
.
(7.105)
Из данного выражения следует, что с
ростом температуры спектральная
характеристика излучения деформируется.
Величина (Δν)0,5характеризует
степень этой деформации, она показывает
частотный интервал при.
Можно записать
. (7.106)
На базе электрооптических явлений основана работа светоизлучающих приборов – светодиодов. Светодиоды содержат p-n-переход выполненный, как правило, из материала спрямозонной энергетической структурой (п. 6.3) GaAs, GaN и др.P-nпереход заключают в прозрачный корпус в виде сферы, полусферы, параллелепипеда и т.д. В микрооптоэлектронных устройствах излучающие светодиоды интегрированы в световод.
Применение гетеропереходов (п. 7.5) дает существенное преимущества по сравнению с p-n-переходами на основе гомогенных структур. Они определяются в основном эффектами широкозонного окна, односторонней инжекции и суперинжекции. Зонные диаграммы приведены в п. 7.5.
1. Эффект широкозонного окнапозволяет
с минимальными потерями вывести
излучение, генерируемое в активной
области, через область шикозонного
полупроводника. В гомопереходе излучение
с частотойактивно поглощается в p- и n-областях,
поскольку они имеют одну ширину
запрещенной зоны. В широкозонной областиEg1>Eg2и поглощение там гораздо меньше.
2. Эффект односторонней инжекции. В гетеропереходах за счет разности потенциальных барьеров для электронов (дырок) всегда осуществляется преимущественная инжекция из широкозонной области в узкозонную. Так, для p-n гетероперехода больший барьер в зоне проводимости препятствует инжекции электронов в широкозонную p-область, а для n-p-гетероперехода больший барьер в валентной зоне препятствует инжекции дырок в n-область. Этот эффект позволяет осуществлять преимущественную инжекцию носителей заряда в ту область перехода, где максимален квантовый выход электролюминесценции.
3. Эффект суперинжекции. В гомопереходах, как уже говорилось, концентрация инжектированных носителей не может превышать концентрации носителей в области эмиттера. В гетеропереходах за счет наличия потенциальных ям это возможно (п. 7.5). Эта особенность инжекции в гетеропереходе делает его очень эффективным, что весьма важно для электронно-оптических источников излучения.
Для приборной реализации всей световой гаммы используется широкий спектр полупроводниковых материалов в гомо- и гетеропереходах. Выпускаются светодиоды красного (GaP-ZnO, GaAs0,6P0,4), оранжевого (GaAs0,35P0,65), желтого (GaAs0,14P0,86), зеленого (GaP, ZnTe), голубого (GaAs-ErYb, SiC,CdS), фиолетового (GaN) цветов свечения. Также светодиоды используют в устройствах отображения информации, устройствах приборной индикации. Выпускаются светодиоды, работающие в инфракрасной области спектра (GaAs,λ~0,9мкм;Ga0,3In0,7As, λ~1,2мкм;Ga0,28In0,72,As0,6P0,4,λ~1,3 мкм).
Эти светодиоды используются в системах оптоэлектронной коммутации, оптических линиях связи, системах дистанционного управления, оптоэлектронных процессорах, ЗУ, оптоэлектронных вычислительных машинах.