
- •Предисловие
- •Условные обозначения
- •Список сокращений
- •Введение
- •Концептуальная диаграмма
- •Контрольныевопросыизадания
- •Глава 1структура и свойства твердых тел
- •Равновесное расположение частиц в кристалле
- •Идеальные кристаллы. Решетки Бравэ
- •Решетки Бравэ
- •Нормальные колебания решетки. Фононы
- •Структура реальных кристаллов
- •Структурозависимые свойства
- •Жидкие кристаллы
- •1.7. Аморфное состояние
- •Контрольныевопросыизадания
- •Глава 2физические основы квантовой механики
- •2.1. Волновые свойства микрочастиц
- •2.2. Уравнение Шредингера. Волновая функция
- •2.3. Свободный электрон. Фазовая и групповая скорости
- •2.4. Электрон в потенциальной яме
- •2.5. Туннелирование микрочастиц сквозь потенциальный барьер
- •Коэффициент прозрачности барьера
- •2.6. Квантовый гармонический осциллятор
- •2.7. Водородоподобный атом. Постулат Паули
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 3элементы статистической физики
- •3.1. Термодинамическое и статистическое описание коллектива. Функция распределения
- •3.2. Фермионы и бозоны. Вырожденные и невырожденные коллективы
- •Возможные варианты состояний
- •3.3. Функция распределения Максвелла-Больцмана Химический потенциал
- •3.4. Функция распределения Ферми-Дирака. Энергия Ферми
- •3.5. Функция распределения Бозе-Эйнштейна
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 4элементы зонной теории твердых тел
- •4.1. Обобществление электронов в кристалле
- •4.2. Модель Кронига-Пенни
- •4.3. Зоны Бриллюэна
- •4.4. Эффективная масса электрона
- •4.5. Зонная структура изоляторов, полупроводников и проводников. Дырки
- •4.6. Примесные уровни
- •Донорные примеси
- •Акцепторные примеси
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 5электропроводность твердых тел
- •5.1. Проводимость и подвижность носителей
- •5.2. Механизмы рассеяния и подвижность носителей
- •5.3. Концентрация носителей и уровень Ферми в полупроводниках
- •5.4. Электропроводность полупроводников
- •5.5. Электропроводность металлов и сплавов
- •5.6. Сверхпроводимость
- •Температура сверхпроводящего перехода
- •5.7. Основы теории Бардина – Купера – Шриффера
- •5.8. Эффекты Джозефсона
- •Параметры слабосвязанных сверхпроводниковых структур, изготовленных методами интегральной технологии
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 6 равновесные и неравновесные носители заряда
- •6.1. Генерация и рекомбинация неравновесных носителей. Время жизни
- •6.2. Уравнения непрерывности
- •6.3. Фотоэлектрические явления в полупроводниках
- •3 − Экситонное поглощение; 4 − решеточное поглощение;
- •5 − Поглощение свободными носителями
- •2 − Полупроводниковая пленка; 3 − контактные площадки; 4 − защитное покрытие
- •6.4. Полупроводники в сильном электрическом поле
- •6.5. Токовые неустойчивости в сильных электрических полях
- •6.6. Эффект Ганна
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 7 Контактные явления
- •7.1. Работа выхода электрона. Контакт металл – металл
- •7.2. Контакт металл – полупроводник
- •7.3. Электронно-дырочный переход
- •7.4. Выпрямляющее действие p-n-перехода. Пробой
- •7.5. Гетеропереходы
- •7.6. Эффект Зеебека
- •7.7. Эффект Пельтье
- •7.8. Фотоэффект в p-n – переходе. Фотодиоды
- •7.9. Излучательные процессы в p-n – переходе. Светодиоды
- •Инжекционные полупроводниковые лазеры
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 8поверхностные явления в полупроводниках
- •8.1. Поверхностные энергетические состояния
- •8.2. Зонная диаграмма и заряд в приповерхностном слое
- •8.3. Поверхностная проводимость
- •8.4. Эффект поля. Полевые транзисторы
- •8.5. Влияние состояния поверхности на работу полупроводниковых приборов
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 9 Электронные процессы в тонких пленках и тонкопленочных структурах
- •9.1. Структура и свойства тонких пленок
- •Механизмы электропроводности в диэлектрических пленках
- •9.2. Контакт металл-диэлектрик. M-д-m – структура
- •Глубина обогащенного слоя [20]
- •Глубина области обеднения
- •9.3. Туннелирование сквозь тонкую диэлектрическую пленку
- •9.4. Токи надбарьерной инжекции электронов
- •9.5. Токи, ограниченные пространственным зарядом
- •9.6. Прохождение горячих электронов сквозь тонкие металлические пленки
- •9.7. Активные устройства на основе тонкопленочных структур
- •1. Диоды с резонансным туннелированием
- •2. Диэлектрические диоды
- •3. Тонкопленочный триод на основе топз
- •4. Транзисторы на горячих электронах
- •Контрольные вопросы и задания
- •Глава 10 перспективы развития микроэлектроники
- •10.1. Ограничения интегральной электроники
- •10.2. Функциональная электроника
- •10.3. Системы пониженной размерности. Наноэлектроника
- •10.4. Квантовые одно- и двумерные структуры
- •10.5. Квантовые точки. Одноэлектроника
- •3 А) б) игла островок изолятор затвор исток
- •Контрольные вопросы и задания
- •Заключение
- •Приложения п.1. Фундаментальные физические постоянные
- •П.2. Свойства полупроводников
- •П.3. Некоторые единицы системы си Основные единицы
- •Некоторые производные механические единицы
- •Некоторые производные единицы электрических величин
- •Некоторые производные единицы магнитных величин
- •П.4. Внесистемные единицы, допускаемые к применению
- •П.5. Плотность некоторых твердых тел
- •Библиографический список
- •Алфавитно-Предметный указатель
- •Оглавление
- •424000 Йошкар-Ола, пл. Ленина, 3
- •424006 Йошкар-Ола, ул. Панфилова, 17
6.5. Токовые неустойчивости в сильных электрических полях
Как следует из сказанного выше, под влиянием сильного электрического поля появляется зависимость электропроводности полупроводников от напряженности этого поля, т.е. закон Ома становится нелинейным (рис. 6.7, а).
Если в полупроводниках преобладают процессы, связанные с ростом концентрации неравновесных носителей, то ток растет быстрее, и кривую 1 называют суперлинейной. Когда преобладают процессы, связанные с уменьшением подвижности, ВАХ становиться сублинейной (кривая 2).
В первом и во втором случае во всех точках кривых 1 и 2 ток растет, т.е. дифференциальная электропроводность всюду положительна
.
(6.64)
а)
б)
в)
Рис. 6.7. Типы вольт-амперных характеристик в сильном поле: а– суперлинейная (1),
сублинейная (2); б– характеристикаN-типа;в– характеристикаS-типа
Два других типа вольт-амперных характеристик, встречающихся на практике, приведены на рис. 6.7, би 6.7,в. Эти ВАХ содержат участок, гдеσdотрицательна
(6.65)
Пусть полупроводник имеет характеристику S-типа (рис. 6.8,а). Электрическому полю Е соответствуют три значения плотности токаj1,j2иj3.
Состояние с j3неустойчиво, так как для негоσd<0 , а состоянияj1иj2устойчивы, поскольку для нихσd>0.
а)
б)
Рис. 6.8. Схема возникновения шнуров тока в сильном поле: а–S-характеристика;
б– токи в образце
Если в образце возникает по каким-либо
причинам флуктуация заряда (локальное
отклонение от электронейтральности),
то она обычно рассасывается по закону
,
гдеτн– максвелловское
время.
.
(6.66)
Очевидно, что в случае σd< 0 экспонента возрастает со временем, и флуктуация будет не рассасываться, а возрастать.
Система, выведенная из состояния равновесия, в него не вернется, образец разобьется на домены с различной плотностью тока j1иj3т.е. различной концентрацией носителей заряда. Произойдет так называемое шнурование тока (рис. 6.8,б).
В кристалле с характеристикой N-типа заданному значению плотности токаj1соответствуют три значения поляЕ1,Е2,E3(рис. 6.9,а).
Состояние с полем Е2неустойчиво, так как в этом случаеσd < 0, а состояние с полемЕ1иE3– устойчивы.
В результате роста возможной флуктуации объем кристалла разобьется на области, но уже не продольные, а поперечные. Внутри домена подвижность носителей будет меньшей, а напряженность поля большей E3, чем вне негоE1(рис. 6.9,б).
а)
б)
Рис. 6.9. Схема возникновения домена сильного поля: а–N-характеристика;
б– домен сильного поля
6.6. Эффект Ганна
Впервые образование домена сильного поля было обнаружено Ганном, и поэтому явление носит название эффект Ганна.
Этот эффект
проявляется в полупроводниках, имеющих
по крайней мере два энергетических
минимума (долины) в зоне проводимости
с небольшой разницей энергии. К таким
полупроводникам относятся арсенид
галлия (рис. 6.10, а).
В исходном состоянии все свободные
электроны находятся в нижнем L-минимуме.
Поскольку энергетический зазор между
L-
и M-минимумами
(δЕ =
0,35 эВ) значительно больше средней
тепловой энергии электронов
,
М
– минимум практически пуст.
μ1
μ2
а)б)
Рис. 6.10. Эффект Ганна: а– структура зоны проводимости арсенида галлия;
б – распределение поля Еи обратного зарядаQв образце
Эффективная масса электронов в нижнем
минимуме весьма мала
,
а подвижность велика
.
Под действием сильного электрического
поля происходит повышение энергии
электронов и переход их в М– минимум.
В результате происходит перераспределение
электронов между минимумами согласно
некоторой неравновесной функции
распределения, зависящей от поля. ВМ-домене окажетсяn2электронов, обладающих эффективной
массойи подвижностьюμ2. Для арсенида
галлия
и
.
Результирующая электропроводность
кристалла, очевидно, будет иметь вид
(6.67)
Поскольку исходная электропроводность составила en1μ1 , легко видеть, что с ростом электрического поля и увеличениемn2электропроводность будет уменьшаться и на ВАХ появится участок с отрицательным дифференциальным сопротивлением (см. рис. 6.9,а).
Так как для переброса электронов из L-вМ-минимум необходима существенная энергияδЕ, эффект Ганна наблюдается в сильных электрических полях с напряженностью больше критической (Екр).
В зависимости от величины удельного сопротивления и длины образца наблюдаются различные проявления эффекта. В длинных низкоомных образцах подают разность потенциалов, так чтобы напряженность поля была равна критической. По достижении критического поля у катода начинается междоменный переход электронов и образование домена. В этой области растет напряженность поля. Вне этой области напряженность падает ниже критической (рис. 6.10, б).
Образовавшийся домен перемещается к аноду с дрейфовой скоростью μ2Е. Вне домена электроны движутся с большей скоростьюμ1Е. Поэтому перед доменом образуется обедненная область положительного заряда, а за доменом – обогащенная область отрицательного заряда. Так возникает движущийся двойной заряженный слой. По достижении доменом анода, домен выходит из образца, и образец снова становится однородным, а напряженность тока в нем – равнойЕкр. Через некоторое время процесс повторяется и во внешней цепи протекает импульсный ток с частотой, равной частоте зарождения доменовf.
,
(6.68)
где L– длина образца;
τd– время движения домена по образцу;
– дрейфовая скорость домена.
В опытах Ганна L=200 мкм,μ2=5·103см2/В·с,E=3·103В/см. В результате наблюдались колебания с частотойf =0,5∙109Гц в полном соответствии с (6.68).
На основе эффекта Ганна создаются СВЧ-приборы, позволяющие генерировать СВЧ-колебания – диоды Ганна. На частотах порядка единиц ГГц могут быть получены генерируемые мощности до 1 кВт, а на частотах около 90 ГГц – до 0,5 Вт.
Эффект Ганна является одним из наиболее перспективных для создания на его основе быстродействующих функциональных устройств. Это связано с тем, что в устройствах на эффекте Ганна используется однородный материал и не требуется создание p-nпереходов. Кроме того, время переключения приборов – порядка 10-10с. Это амплитудные дискриминаторы, преобразователи частоты, импульсные усилители, логические схемы, устройства памяти и другие приборы.