
- •1.Классический электронный газ. Теория проводимости Друде. Подвижность. Проводимость твёрдых тел.
- •Билет 2. Типы связи в твёрдых телах. Симметрия в кристаллах. Понятие кристаллической сингонии.
- •3. Статистика электронов и дырок. Функции распределения. Плотность квантовых состояний в зоне.
- •Плотность квантовых состояний
- •Функция распределения
- •Вопрос 4 .Уравнение Шредингера для электрона в кристалле. Эффективная масса.
- •5. Обратная решётка. Зоны Бриллюэна
- •6. Образование энергетических зон.
- •7. Квазичастицы в полупроводниках. Закон дисперсии. Понятие дырки. Квазиимпульс. Эффективная масса.
- •8. Квазичастицы в полупроводниках. Понятие дырки
- •9. Концентрация электронов и дырок в собственном полупроводнике
- •Определение положения уровня Ферми
- •10. Механизмы рассеяния электронов и дырок
- •11. Уравнения непр. И Пуассона. Генерация и рекомбинация.
- •Вопрос 12. Диффузионный и дрейфовый токи.
- •13. Эффект поля. Дебаевская длина экранирования.
- •14.Работа выхода в металлах и полупроводниках. Контактная разность потенциалов.
- •15. Полупроводниковые диоды.
- •17.Обеднённая область p-n-перехода. Зависимость её ширины от параметров.
- •18.Барьерная ёмкость p-n-перехода
- •19.Зонная диаграмма неравновесного p-n перехода. Квазиуровни Ферми.
- •20. Вах идеализированного диода.
- •21. Диффузионная емкость p-n перехода.
- •Вопрос 22
- •23. Пробой p-n-перехода
- •24. Биполярные транзисторы
- •25. Зонная диаграмма биполярного транзистора в схеме включения с об. Принцип действия.
- •26. Расчет вах биполярного транзистора. Граничные условия.
- •Вопрос 27
- •28. Процессы в биполярных транзисторах
- •29. Эквивалентная схема биполярного транзистора
- •30. Биполярный свч – транзистор и его характеристики.
- •31. Полевые транзисторы
- •32.Вольт-фарадная характеристика мдп транзистора.
- •33. Вах мдп-транзистора Характеристики мдп в области плавного канала
- •Характеристики мдп в области отсечки
- •34. Эффекты короткого и узкого канала в мдп-транзисторе.
23. Пробой p-n-перехода
С
ростом обратного напряжения, приложенного
к p-n-переходу,
начиная с некоторого значения этого
напряжения происходит резкое увеличение
обратного тока. Область резкого увеличения
обратного тока называют областью пробоя
электронно-дырочного перехода. Различают
3 вида пробоя p-n-перехода:
лавинный, туннельный и тепловой. Для
первых двух обязательно увеличение
напряженности электрического поля, для
третьего увеличение выделяемой мощности
и соответственно его температуры. С
возрастанием напряженности на переходе
напряженность поля в переходе будет
возрастать, несмотря на расширение
области объемного заряда. При этом одно
и то же напряжение на переходе будет
создавать напряженность тем большую,
чем выше концентрация примеси в
полупроводнике. Поскольку ширина
обедненной области обратно пропорциональна
концентрации в менее легированной
области p-n-структуры,
напряженность электрического поля в
p-n-переходе
при обратном смещении можно представить
как:
.
ПриUобр=Uпр
E=Emax.
С учетом
этого, а также подстaвив
выражение для d,
получим
для
ступенчатогоp-n-перехода
и
для
плавного перехода.
Лавинный пробой в кремнии. Вид обратной ВАХ при лавинном пробое. Зависимость пробойного напряжения от концентрации примеси.
В основе лавинного пробоя лежит "размножение" носителей в сильном электрическом поле, действующем в области перехода Emax = 106 В/см). Электроны и дырки; ускоренные полем на длине свободного пробега, могут разорвать одну из ковалентных связей нейтрального атома полупроводника. Этот процесс называется ударной ионизацией. В результате рождается новая пара электрон-дырка, и процесс повторяется уже с участием новых носителей (рис.2.15).
При , достаточно
большой напряженности поля, когда
исходная пара носителей в среднем
порождает более одной новой пары,
ударная ионизация приобретает лавинный
характер.
Ход
вольт-амперной характеристики в области
лавинного размножения свободных
носителей, вплоть до пробоя, описывается
полуэмпирической формулой:
(2.43)
где
J0
- обратный
ток насыщения; М
- коэффициент
ударной ионизации, определяющий
возрастание обратного тока вследствие
лавинного умножения; J
и
U
- модули
обратных тока и напряжения; Uпр
- напряжение
лавинного пробоя, при котором
.
Зкаченияп
для
кремния: 5 и 3 соответственно для n-
и p-типов
проводимости. Пробивное напряжение для
ступенчатого и лавинного перехода можно
определить зная напряженность поля
Emax
например для ступенчатого перехода
Рис.2.16.
Зависимость пробивного напряжения
от концентрации примеси на слаболегированной
стороне р
- п -переходов:
а - ступенчатого; б - линейного; в -
зависимость пробивного напряжения от
градиента концентрации плавного р
- n-перехода.
Кривая
I
-экспериментальная, кривая 2 теоретическая.
и для линейно-плавного
,
при этом
.
Лавинный пробой имеет место в широкихp-n-переходах
при невысоком уровне легирования
(коллекторный переход транзистора)
поскольку свободным носителям необходимо
на каком-то промежутке пути приобрести
достаточную для ионизации атомов решетки
энергию.
Обычно заметный рост обратного тока начинается при U=0.3Uпр.
Зависимость напряжения пробоя от удельного сопротивления и типа проводимости полупроводника, в котором развивается процесс умножения носителей заряда в результате ударной ионизации, можно представить полуэмпирической формулой
Uпр=apm. m=0.65 для Si n-типа (переход р-n ); m = 0.75 для Si n-типа (переход п-р); a=86 для Si n-типа (p-n);
a=23 для Si n-типа (n-p), р - удельное сопротивление менее легированной области, OМ*см.
Туннельный (зиннеровский) пробой в кремнии. Его особенности и ВАХ.
Если р - п-переход достаточно "тонкий", то уже при сравнительно невысоком обратном напряжении возникает поле с достаточной напряженность» ( Е = 5-Ю6 В/см), чтобы вызвать туннельное просачивание носителей заряда (дырок, электронов) через переход. Таким образом, в основе туннельного пробоя лежит туннельный эффект -явление, обусловленное волновой природой электрона. Суть этого явления заключается в том, что электроны могут преодолевать потенциальный барьер, если они имеют энергию не только превышающую высоту барьера, но и гораздо меньшую энергию, путем "просачивания" сквозь барьер, если он достаточно тонкий (рис.2.17,а)
В
данном случае под высотой барьера
понимают ширину запрещенной зоны
(рис.2.17,а),
а под его толщиной - расстояние между
противоположными зонами. Итак,
условие для туннелирования - узкий
р-п-переход,
а это возможно при высоких уровнях
легирования областей р
-п-перехода
(например, эмиттерный переход транзистора).
Пробивное напряжение можно определить
по формуле:
,
Рис.2.17. Туннельный пробой: а - схема механизма пробоя;
б - обратная вольт-амперная характеристика.
где
- подвижность
свободных (неосновных) носителей в менее
легированной области;
-
удельное сопротивление менее легированной
области;
- критическая напряженность поля приUобр=U’кр.
На практике для кремния пользуются
полуэмпирической формулой
,
где
-
удельные
сопротивления соответственно п-
и
р
-областей.
Таким образом, пробивное напряжение зависит от концентрации примеси в п-р -областях, поэтому для увеличения Uпр необходимо уменьшать концентрацию. Начало возникновения туннельного пробоя оценивают условно, принимая Jобр=10J0.
Если сравнить зависимость пробивного напряжения при лавинном и туннельном пробоях от удельного сопротивления менее легированной области, то ясно видно, что зависимость Uпр(р) при лавинном пробое более слабая, чем U’пр(р) при туннельном пробое, поэтому при высоких значениях p, когда Uпр < Uпр' , пробой носит лавинный характер, а при низких , когда Uпр>U’пр, - туннельный (иногда его называют зиннеровским).
На
практике туннельный и лавинный пробои
отличаются по знаку температурного
коэффициента пробивного напряжения
(ТК Uпр).
Это объясняется тем, что напряжение Uпр
(туннельного
пробоя) находится в прямой зависимости
от ширины запрещенной зоны, поэтому
уменьшение зеличины
с
ростом температуры вызывает уменьшение
пробивного напряжения Uпр
(отрицательный
ТК U’пр).-
Напряжение
лавинного пробоя находится в обратной
зависимости от подвижности носителей,
поэтому уменьшение
.
с
ростом температуры вызывает увеличение
Uпр(положительный
ТК
Uпр].
Изменение
в
широкихр
-п -переходах
существенного влияния на Uпр
не
оказывает. Пробой ограничивает величину
обратного напряжения, которое можно
приложить к
р- п -переходу
в полупроводниковом приборе. Однако в
полупроводниках нарушение электрической
прочности (пробой) не обязательно
сопровождается необратимыми изменениями
(разрушением) материала. Следует отметить,
что лавинный пробой наступает чаще
всего в переходе коллектор-база
биполярного транзистора, а туннельный
- в переходе эмиттер-база.
Тепловой пробой. Его особенности и ВАХ. Тепловой пробой обусловлен выделением тепла в переходе при протекании обратного тока. При обратном напряжении U и токе J0 выделяемая на р- п -переходе мощность
Р=UJ0.
Под
действием этой мощности температура
перехода повысится по сравнению с
температурой окружающей среды T0
на
величину
,
т.е.
Т-Tд
=RtP,
где
Rt
- тепловое
сопротивление, град/Вт;
-изменение температурыр
- п -перехода
. Соответственно возрастут J0
и
Р
.
Такая взаимосвязь может привести к
лавинообразному увеличению тока
т.е.
к пробою перехода.
Подставив
значение
в
формулу для тока термогенерации (или
теплового тока)
и
обозначив J0(Тд)=
Уд1
, получим
уравнение относительно тока Jд
:
.
уравнение описывает обратную вольт-амперную характеристику (рис.2.18) при тепловом пробое.
Решение этого
трансцендентного уравнения представлено
графически на рис. 2. 19.
Напряжению
теплового пробоя соответствует точка
А
на
рис. 2. 19, которой производные обеих
частей уравнения по току равны между
собой:
При
этом показатель степени в правой части
уравнения равен I,
значит J0=eJ01
, что
можно назвать условием возникновения
термогенерация. Коэффициент а
зависит
от температуры:
(2.53)
Рис.2.18. Обратная ветвь Рис.2.19. Графическое решение
вольт-амперной характе трансцендентного уравнения от-
ристики при тепловом носительно обратного тока для
пробое» вольт-амперной характеристики
Это значение а может быть использовано для кремния до температур 393 - 423 К.
Значение
пробивного напряжения можно определить
из (2.53):
На практике тепловой пробой может начаться лишь тогда, когда обратный ток уже приобрел достаточно большую величину в результате лавинного или туннельного пробоя.