_Разное / TKЭT(ШПОРЫ) / 1 / 5(3)

5(3). Процессы, протекающие в позитивном и негативном фоторизисте

По характеру происходящих в актиночувствительном слое измене­ний различают (рис.6.2):

- процессы негативные (актиночувствительный слой или резнетназывают негативным);

- процессы позитивные (актиночувствительный слой или резист называют позитивным).

Рис.6.2. Негативный (а) и позитивный (б) процессы литографии:

1-фоторезист; 2 - подложка;

3 – фотошаблон

Под действием излучения в негативных фото­резистах(см рис) усиливаются защитные свойства освещенных участков, Это происходит в результате сшивания молекул полимера под действием излучения, или фотополимеризации. В негативном фоторезисте на основе циклокаучука и ароматических азидов при этом происходят следующие изменения:

Для позитивных фоторезистов на основе сложных эфиров коричной кислоты и поливинилового спирта характерно образование соединения типа R₁-O- R₂,

где R₁ - макромолекулы поливинилового спирта, a R₂ - циннамоильные группы. Таким образом, структура ПВЦ представляет собой длинные спирали, состоящие из десятков тысяч молекул.

Реакция полимеризации осуществляется за счет разрыва двойных связей -C=C- в цинамоилыюй группе и сшивания молекул полимера в стойкую трехмерную структуру за счет возникающих связей. В результате при последующем проявлении неосвещенные участки удаляются, а освешенные остаются нетронутыми, и формируется негативное изображение.

Для позитивных резистов характерно обратное: под действием из лучения

увеличивается растворимость резиста, т.е. происходит фотолиз, или фоторазложение молекул.

О

Схема реакции фотолиза производных о-нафтохинондиазида имеет вид:

_-COOH,

где R - производные фенолформальдегндных смол, оксибензофенолов и т.п. Конечный продукт данной реакции - инденкарбоновая кислота - является веществом гидрофильным и растворимым в слабощелочных растворах, в отличие от гидрофобного исходного вещества. В результате освещенные участки при последующем проявлении удаляются, и формируется позитивное изображение.