3.5 Заключение

На основании произведённых исследований можно сделать следующие выводы:

- проект исследования получения 0,8-мкм топологической нормы оказался не только рабочим, но и подтолкнул нас к созданию новой технологии-технологии субмикронной фотолитографии. Данная технология, основанная на применении постэкспозиционной термообработки пластин, продвинула микроэлектронную промышленность России на одну ступень выше в мировой квалификации.

- также очень важным является то, что для внедрения данной технологии не требуется закупки нового дорогостоящего оборудования и возможность прямо сейчас перейти к внедрению данной технологии в промышленное производство, используя имеющийся парк литографического оборудования.

- необходимо продолжать исследования по данному вопросу, так как по-моему мнению запас возможностей данного метода ещё не исчерпан.

46