3.5 Заключение
На
основании произведённых исследований
можно сделать следующие выводы:
-
проект исследования получения 0,8-мкм
топологической нормы оказался не только
рабочим, но и подтолкнул нас к созданию
новой технологии-технологии субмикронной
фотолитографии. Данная технология,
основанная на применении постэкспозиционной
термообработки пластин, продвинула
микроэлектронную промышленность России
на одну ступень выше в мировой
квалификации.
-
также очень важным является то, что для
внедрения данной технологии не требуется
закупки нового дорогостоящего оборудования
и возможность прямо сейчас перейти к
внедрению данной технологии в промышленное
производство, используя имеющийся парк
литографического оборудования.
-
необходимо продолжать исследования по
данному вопросу, так как по-моему мнению
запас возможностей данного метода ещё
не исчерпан.
46