- •Определить класс симметрии заданных материалов, построить прямую и обратную элементарные ячейки.
- •Построить и определить размеры Зоны Бриллюэна в направлениях X, l, к для металла.
- •1.2. Для полупроводника построить прямую элементарную ячейку с указанием элементов симметрии и класса симметрии заданного полупроводника.
- •Определить концентрацию электронов для заданного металла из условия касания зоны Бриллюэна и сферы Ферми и сделать суждение о применимости теории свободных электронов.
- •3. Исследовать кинетические свойства заданного металла.
- •4.Рассчитать и построить зависимость электропроводности от толщины металлической плёнки при заданной температуре.
- •5.1 Исследовать состояние вырожденного электронного газа в твердом теле от температуры, которое описывается распределением Ферми-Дирака.
- •Исследование температурной зависимости функции распределения Ферми-Дирака
- •2А. Невырожденный электронный газ
- •2Б. Невырожденный электронный газ (классическое приближение)
- •5.2 Исследовать зависимость от температуры (mcad №5).
- •5.2.1 Энергии Ферми;
- •5.2.2 Концентрации носителей заряда.
- •5.2.3 Концентрации основных носителей заряда;
- •5.2.4 Электропроводности.
- •Рассчитать зависимость энергии Ферми и термодинамической работы выхода для собственного и примесного полупроводников от температуры.
- •1. Расчёт для собственного полупроводника InSb
- •2. Расчет для примесного полупроводника InSb n-типа с донорной примесью Si
- •7. Построить энергетическую диаграмму заданной пары металл-полупроводник в выбранном масштабе для случаев: без смещения, при прямом и обратном смещениях.
- •7.1. Рассчитать и построить вольт-амперную характеристику контакта в данном диапазоне температур. (Приложение mcad №6).
- •Рассчитать концентрацию носителей заряда в заданном полупроводнике для создания омического контакта с металлом.
5.2 Исследовать зависимость от температуры (mcad №5).
Для собственного полупроводника:
5.2.1 Энергии Ферми;
Рис. 31 - График зависимости энергии Ферми от температуры в собственном полупроводнике.
С
ростом температуры уровень Ферми в
собственном полупроводнике изменяется
слабо и остаётся близким к середине
запрещённой зоны (что характерно для
собственного полупроводника), однако
некоторое отклонение от этого значения
присутствует. Физически оно объясняется
различием эффективных масс электронов
и дырок. Также из графика видно, что
зависимость близка к линейной, поскольку
все параметры, кроме температуры,
являются постоянными. При низких
температурах энергия Ферми близка к
значению:
то есть располагается примерно в середине запрещённой зоны, а при нагреве постепенно смещается в сторону зоны проводимости.
5.2.2 Концентрации носителей заряда.
Рис. 32 - Зависимость концентрации носителей заряда от температуры в степени -1
Зависимость концентрации носителей заряда от температуры- экспоненциальная (смот. масштаб графика), так как при нагреве всё больше электронов получает энергию, достаточную для перехода через запрещённую зону, вследствие чего увеличивается число свободных электронов и дырок.
Также
видно, что кривые
и
практически
совпадают. Это соответствует собственному
полупроводнику, для которого:
так
как электроны и дырки генерируются
попарно. Для InSb рост концентрации
носителей особенно заметен из-за малой
ширины запрещённой зоны:
поэтому даже при сравнительно небольшом нагреве концентрация носителей существенно увеличивается.
Для примесного полупроводника:
Для
n-типа
InSb
в
качестве донорной примеси возьмём Si,
для которого энергия ионизации равна
0,002 эВ. Концентрация доноров:
.
5.2.3 Концентрации основных носителей заряда;
Рис. 33- Температурная зависимость концентрации носителей заряда в примесном полупроводнике (n0(T)— концентрация собственных электронов, nd(T)- концентрация электронов донорной примеси, n1(T)- концентрация электронов в области частичной ионизации примеси, n2(T)- постоянная концентрация, равная концентрации донорной примеси, n(T)- полная концентрация электронов)
Из
графика видно, что полная концентрация
электронов в примесном InSb существенно
зависит от температуры и определяется
разными механизмами в различных
температурных областях. При низких
температурах концентрация электронов
постоянна:
что соответствует области полной ионизации донорной примеси, когда число свободных электронов определяется концентрацией доноров.
При
увеличении температуры начинает
возрастать вклад собственных носителей:
который
увеличивается по экспоненциальному
закону. Это связано с термическим
переходом электронов через запрещённую
зону:
и
особенно заметно для InSb из-за малой
ширины запрещённой зоны:
На
графике видно, что при высоких температурах
кривая полной концентрации:
практически совпадает с концентрацией собственных носителей, то есть проводимость начинает определяться уже не примесью, а собственными электронно-дырочными парами. Таким образом, с ростом температуры примесный полупроводник постепенно переходит от примесной проводимости к собственной.
