- •Определить класс симметрии заданных материалов, построить прямую и обратную элементарные ячейки.
- •Построить и определить размеры Зоны Бриллюэна в направлениях X, l, к для металла.
- •1.2. Для полупроводника построить прямую элементарную ячейку с указанием элементов симметрии и класса симметрии заданного полупроводника.
- •Определить концентрацию электронов для заданного металла из условия касания зоны Бриллюэна и сферы Ферми и сделать суждение о применимости теории свободных электронов.
- •3. Исследовать кинетические свойства заданного металла.
- •4.Рассчитать и построить зависимость электропроводности от толщины металлической плёнки при заданной температуре.
- •5.1 Исследовать состояние вырожденного электронного газа в твердом теле от температуры, которое описывается распределением Ферми-Дирака.
- •Исследование температурной зависимости функции распределения Ферми-Дирака
- •2А. Невырожденный электронный газ
- •2Б. Невырожденный электронный газ (классическое приближение)
- •5.2 Исследовать зависимость от температуры (mcad №5).
- •5.2.1 Энергии Ферми;
- •5.2.2 Концентрации носителей заряда.
- •5.2.3 Концентрации основных носителей заряда;
- •5.2.4 Электропроводности.
- •Рассчитать зависимость энергии Ферми и термодинамической работы выхода для собственного и примесного полупроводников от температуры.
- •1. Расчёт для собственного полупроводника InSb
- •2. Расчет для примесного полупроводника InSb n-типа с донорной примесью Si
- •7. Построить энергетическую диаграмму заданной пары металл-полупроводник в выбранном масштабе для случаев: без смещения, при прямом и обратном смещениях.
- •7.1. Рассчитать и построить вольт-амперную характеристику контакта в данном диапазоне температур. (Приложение mcad №6).
- •Рассчитать концентрацию носителей заряда в заданном полупроводнике для создания омического контакта с металлом.
МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Санкт-Петербургский государственный
электротехнический университет
«ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина)
Кафедра МИТ
ИНДИВИДУАЛЬНЫЕ ДОМАШНИЕ ЗАДАНИЯ
по дисциплине ОЭиРМ
Вариант 3
Выполнил отчет студент гр. 0000 |
|
|
Преподаватель доцент кафедры МИТ |
|
|
Санкт-Петербург
2026
Задания
Определить класс симметрии заданных материалов, построить прямую и обратную элементарные ячейки заданных материалов. Определить размеры Зоны Бриллюэна в направлениях X, L, К.
Определить концентрацию электронов для заданного металла из условия касания зоны Бриллюэна и сферы Ферми и сделать суждение о применимости теории свободных электронов.
Рассчитать и построить зависимости средней длины свободного пробега, времени релаксации и электропроводности от температуры для металла в диапазоне температур (0,1-10) ТD. Оценить степень дефектности металла по заданной величине удельного сопротивления.
Рассчитать и построить зависимость электропроводности от толщины металлической пленки при заданной температуре. Определить минимально возможную толщину металлизации.
Определить эффективную массу носителей заряда, их концентрацию и степень вырождения электронно-дырочного газа в заданном примесном полупроводнике в данном диапазоне температур. Рассчитать и построить зависимости концентрации, подвижности и электропроводности от температуры для заданного примесного полупроводника.
Рассчитать зависимость энергии Ферми и термодинамической работы выхода для собственного и примесного полупроводников от температуры.
Построить энергетическую диаграмму заданной пары металл-полупроводник в выбранном масштабе для случаев: без смещения, при прямом и обратном смещениях.
Рассчитать концентрацию носителей заряда в заданном полупроводнике для создания омического контакта к металлу.
Взять полупроводник, задайте для p-n перехода концентрации донорных Nd и акцепторных Nа примесей, равными 1026, 1020, 1016 атомов/м3. Сравните полученные ВАХ. Сделайте выводы из полученных результатов. Получив ВАХ и оценив полученные p-n переходы, постарайтесь подумать, что к этим областям необходимо присоединить контакты, чтобы в конкретном изделии использовать переход. В каких областях следует вспомнить о легировании полупроводника, чтобы не образовался встречно включенный диод Шоттки.
Выводы
Исходные данные:
Таблица 1
№ Вариант |
Элемент |
Структура |
Атомная масса |
Параметр решетки, Å |
Плотность, г/см3 |
Удельное сопротивление, мкОм·см |
Температура, К |
Работа выхода Авы, эВ |
||
Дебая (TD) |
Ферми (TF·10-4) |
Плавления (Tпл) |
||||||||
5 |
Cr |
ОЦК |
51.96 |
2.88 |
7.19 |
12.9 |
360 |
|
2130 |
4.60 |
Таблица 2
№ ВАР. |
Тип примеси |
Полупроводник |
Ширина запрещенной зоны |
Эффективная масса |
Подвижность при 300К |
Работа выхода, эВ |
|||
EG (0 К), эВ |
EG (300 К), эВ |
m"n / me |
m"p / me |
μn, см2·В‑1·с‑1 |
μp, см2·В‑1·с‑1 |
||||
6 |
n
|
InSb |
0.235 |
0.17 |
0.0133 |
0.6 |
76000 |
5000 (78 K) |
4.75 |
№ вар. |
6 |
концентрация примесей, м-3 |
1024 |
Определить класс симметрии заданных материалов, построить прямую и обратную элементарные ячейки.
Металл: Cr
Структура: ОЦК (объемноцентрированный куб)
Параметр решетки: a= 2.88*10-10 м
Категория: Высшая
Сингония: Кубическая
Класс симметрии: m3m
Формула симметрии: 3L44L36L29PC
Прямая
элементарная ячейка (рис. 1,А):
Объем
прямой элементарной ячейки:
Рис. 1,А Прямая элементарная ячейка
Обратная
элементарная ячейка (рис. 2, Б):
Рис. 2, Б Обратная элементарная ячейка
Подставив параметр решётки:
Построить и определить размеры Зоны Бриллюэна в направлениях X, l, к для металла.
Для кубической объёмноцентрированной (ОЦК) решётки первая зона Бриллюэна представляет собой усечённый октаэдр (см. рис. 3).
Рис. 3: Первая зона Бриллюэна для ОЦК
Под размером зоны Бриллюэна в направлении X, L, K понимают расстояние от центра Γ до границы зоны Бриллюэна в этом направлении. Граница появляется там, где плоскость Вигнера–Зейтца проходит через середину ближайшего вектора обратной решётки.
Условия Брэгга для волн де Бройля: k=nπ/a. Эти значения соответствуют границам зон Бриллюэна, которые располагаются в середине между узлами обратной решётки. Следовательно, расстояние до ближайших узлов обратной решётки равно: G=2k=2π/a.
Направление X [001]:
Векторы
вида
являются
ближайшими к началу координат. Их длина
,
на таком расстоянии находится ближайший
узел в направлении [001]. Плоскость
Вигнера–Зейтца проходит через середину
этого расстояния. Поэтому ГХ=
.
м-1
Направление K [110]:
Точка
К лежит в направлении (1,1,0). Ближайший
узел обратной решетки G=
.
Длина
Но точка K
находится не на середине, а на пересечении
двух плоскостей Вигнера–Зейтца.
Геометрия усечённого октаэдра даёт
координаты: K=
.
Г
м-1
Направление L [111]:
Точка L лежит на направлении [111]. Ближайший узел обратной решётки в этом направлении: G=b1+b2+b3. При подстановке:
Длина
этого вектора:
Плоскость
Вигнера-Зейца проходит через середину:
м-1
1.2. Для полупроводника построить прямую элементарную ячейку с указанием элементов симметрии и класса симметрии заданного полупроводника.
Полупроводник InSb - Антимонид индия
Структура:
ГЦК
Параметр решётки: а = 6.48 * 10-10 м
Сингония: Кубическая
Класс симметрии: m3m
Формула симметрии: 3L44L36L29PC
Рис. 4 Прямая элементарная ячейка InSb
Базисные вектора для прямого пространства:
Элементы симметрии прямой элементарной ячейки InSb:
Рис. 5 Плоскости симметрии
Рис. 6 Оси симметрии
1.3. Для заданного собственного полупроводника, используя литературные источники [11] и Приложение 5, представить зонную диаграмму и выбрать используемое кристаллографическое направление полупроводника согласно заданной ширине запрещенной зоны и температурного диапазона.
Рис.7 Зонная диаграмма InSb (из приложения 5)
Минимум зоны проводимости и максимум валентной зоны расположены в точке Γ зоны Бриллюэна. Полупроводник является прямозонным. Поэтому используемое кристаллографическое направление соответствует направлению Γ–X, т.е. [100].
