
книги из ГПНТБ / Проблемы теории и практики исследований в области катализа
..pdfРис.90.Электронный пеРис.91.Зависимость вероятности нахождения |
||
реход при ад- |
' хемосорбированной частицы в различ- |
|
сорбции кисло- |
ных типах связи от положения уров- |
|
рода на полу- |
ня Ферми, |
|
проводнике |
р- |
|
типа. |
|
|
Здесь наряду с диссоциацией происходит адсорбция в заряжен ной и нейтральной формах. В общем случае химическая адсорбция включает слабую (без участия электрона) и прочную (о/участием электрона решетки) формы связи. При образовании прочной связи адсорбент и адсорбат представляют собой единую квантовомеханическую систему, поэтому понятие о переходе электрона теряет смысл: подразумевается переход электрона в катализаторе с одного энер гетического уровня на другой, что становится возможным в процес- "се хемосорбции. Вблизи энергетического локального уровня хемосорби рованной частицы локализуются свободные носители тока; заряд их в этом^состоянии распределен между адсорбентом и адсорбатом. __
Если общее число хемосорбирошнных частиц обозначить |
N , |
|||||
то из них № |
находится в |
состоянии слабой свяэи, N~ - в |
состоя |
|||
нии прочной акцепторной |
связи, |
Н+ |
- в состоянии прочной донорной |
|||
связи. Соответственно, |
вероятность |
нахождения частицы в том или |
||||
ином состоянии |
обозначим |
П |
N0 |
|
|
|
V |
=— |
|
|
|||
|
|
|
' |
N |
|
|
Из рис.91 видно, что в состоянии равновесия относительное содержание, на поверхности различных, форм хемосорбции однозначно определяется положением уровня Ферми.
280
Наличие на поверхности прочной формы хемосорбции приводит к тому, что поверхность полупроводника при хемосорбции заряжается.
Обозначим |
через.лх обусловленную хемосорбцией плотность поверх- |
|
ного заряда. При заданной температуре |
|
|
|
ьжше(н++м-)-е(?++у-)/1-Л/(Р), |
(1У,3) |
где Р - |
давление. |
|
Величина и знак поверхностного заряда зависят |
от природы |
хемосорбированных частиц, от степени заполнения и положения уров ня Ферми.
• Обозначим положение уровня Ферми на поверхности £ s = £ f
(х=0) |
и в |
объеме |
б |
- 6^ (х '«^.Степень |
изгиба энергетичес |
ких зон на поверхности |
характеризуется величиной а £ |
||||
Величины |
£ |
и £ |
связаны между собой и в |
общем случае при воз |
|
действии |
одних и тех же факторов сдвигаются |
в одну сторону. |
Изменение поверхностного заряда под воздействием хемосорб ции вызывает два эффекта, наблюдаемых экспериментально: измене ние работы выхода и изменение электропроводности.
Преимущество электронной теории катализа по сравнению с дру гими в том, что с единой точки зрения можно рассматривать гетеро генный каталитический процесс и физические характеристики катали затора. Однако связь эта не всегда однозначна. Отметим, что хемосорбция и катализ могут быть связаны не с теми носителями тока, которые определяют работу выхода и электропроводность; дефекты поверхности, хемосорбционные процессы, не относящиеся к катализу, могут маскировать истинные закономерности. Все это предъявляет большие требования к постановке эксперимента.
При сопоставлении каталитических и электрофизических свойств чаще всего измеряют работу выхода и электропроводность.
Работа выхода определяется минимальной энергией, которую на до сообщить электрону, чтобы .он мог покинуть твердое тело. Для этого ему необходимо преодолеть потенциальный барьер, высота ко
торого для разных полупроводников лежит в пределах |
1,0 - 6,0 эв. |
|
Такого же порядка (1,5-6,0 эв) работа выхода металлов. Этот |
||
барьер'может |
преодолеть лишь часть электронов лри |
температуре |
Т/187. |
|
|
Поток электронов из полупроводника в вакуум выражается фор |
||
мулой |
. |
|
281
|
4ят^Г)2 |
£ *T |
( I y > 4 ) |
||
Здесь m - масса |
электрона, /с |
и |
Л |
' - |
постоянные. |
Величина •£ |
у- у0 = у |
(рис.92) |
называется термодинами |
ческой работой выхода, а само явление вылета электронов в вакуум под влиянием температуры - термоэлектронной эмиссией. Выражение (IV,4) можно записать в виде ^
j _ 4ят(АТ)2 |
А Г |
3 |
е |
I - количество вылетевших электронов с_1_сы?_8а I сек; оно определяется только работой выхода и температурой.
Если полупроводник изолирован, то явление термоэлектронной эмиссии не будет продолжаться неограниченно долго: по мере умень шения числа электронов полупроводник будет заряжаться положитель но и возникнет электрическое поле, препятствующее эмиссии.
Если в вакууме поместить параллельно друг другу две изолиро ванные пластины - металл (М) и полупроводник (П) (рис.93), то возникнут при нагреве два встречных потока электронов
Ш/////А
Рис.92.Поверхностный потен циальный барьер ( i/n ) и термодинамическая работа выхода ( </ ) в полупроводнике.
Рис.93.Возникновение контакт ной разности потенциа лов между металлом и полупроводником..
282
Г |
/l3 |
2 |
h 3 |
Раосмотрим случай, когда • yf |
. Это значит, |
что I > If . |
Металл начнет заряжаться отрицательно, полупроводник - положи тельно, между ними возникнет разность потенциалов V . Теперь электрону, вылетевшему из полупроводника, надо преодолеть допол
нительный потенциальный |
барьер л у |
- -еУ{ е |
- заряд электрона). |
||
Те электроны, которые |
не |
смогут |
преодолеть его, вернутся в по |
||
лупроводник. Работа выхода из полупроводника увеличится на |
|||||
и станет равной ^ + А с/ |
; |
= |
4ят(кГ) |
^ -<&£*~2 1 |
в. - I f ' останется тем же, так как высота барьера для электронов, вылетающих из металла, не изменилась. Разность потенциалов / будет возрастать до тех пор, пока не установится равновесие, т . е . не сравняются потоки электронов. Этому соответствует
4ят(АГ)2 |
' |
*г |
4ят(АТ)2 |
, |
~ЛГ |
Р ~ |
|
|
Л3 |
6 |
|
т . е . - ( ?2 * л у) « |
- <ff |
, |
откуда 4 ^ = ^ |
- |
^ . |
Это равновесное состояние обозначает, что химический по |
|||||
тенциал одинаков во всех частях системы. Такое |
же равновесие уста |
новится, если металл и полупроводник привести в контакт. Во всех
случаях возникает разность |
потенциалов |
, называемая контакт |
ной разноотью потенциалов |
(КРП). Существование КРП свидетель |
ствует о наличии в пространстве металл-полупроводник электричес кого поля, напряженность которого ^ я gcf * г л е d ~ расстоя ние между металлом и полупроводником. Это поле ооздаетоя поверх ностными зарядами: - на металле и + на полупроводнике.
Естественно ожидать, что при химической адсорбции работа выхода и величина КРП изменятся.
Как измерять работу выхода? Существует несколько методов. Их можно разделить на две группы. Одни из них те, которые свя заны с"потоком электронов к поверхности или от поверхности ката лизатора, причем свободные электроны регистрируются потермоионной, фотоэлектрической или полевой эмиссии. Например, при облу чении светом вещества фотон сообщает электрону энергию fii .
283
Значит, для появления внешнего фотоэффекта должно выполняться условие ni а наименьшая частота света, способная вырвать электрон ив тела, отвечает условию
Частота ^ соответствует так называемой красной границе фотоэффекта. Она определяется из спектрального распределения фо топроводимости; зная ее, можно определить работу выхода. Однако в применении к полупроводникам метод весьма неточен, так как тепловое движение обычно достаточно сильно размывает границу.
Эта группа методов непригодна для исследования катализато ров по следующим причинам:
давление газа должно быть достаточно низким, чтобы можно было пренебречь ионизацией при столкновении электронов с молеку лами газа;
поверхность адсорбента подвержена бомбардировке свободными электронами и _отонами, что нарушает взаимодействие адсорбата с адсорбентом.
В процессах адсорбции и катализа об изменениях работы выхо да судят с помощью методов второй группы, основанных на измене нии КРП. Описываемый ниже метод был предложен Кельвином в сере-' дине XIX в. Если две параллельные пластины из разных материалов поместить параллельно друг другу и соединить их (рис.94), то ем
кость образуемого пластинами конденсатора равна |
С = -у- , где |
- |
||
заряд пластин; |
Vx - контактная разность |
потенциалов. * |
|
|
При раздвижении пластин изменяется |
емкость |
и, следовательно, |
||
Q ; его изменения можно замерять электрометром и ско:.ленсировать |
||||
Если емкость |
С переменная, то на сопротивлении |
R будет пере |
|
менное падение напряжения, которое можно зарегистрировать с по |
|||
мощью осциллографа. Точность |
метода < |
10 мв. В качестве |
одной |
из пластин берут исследуемый |
образец, |
вторая - металл с |
извест |
ной работой выхода |
(Аи, Ад, Pt, Hi) . Тогда по изменению КРП |
|
можно судить об изменениях работы выхода образца. |
||
Блок - схема |
измерения показана на рис.95. КРП равна по ве |
|
личине и обратна по знаку компенсирующему |
напряжению и. |
|
Основной недостаток этого метода состоит в том, что при ад |
||
сорбции может изменяться работа выхода не |
только изучаемого об |
|
разца, но-и отсчетного электрода. Поэтому |
необходимо тщательно |
ЛЛЛ/V—
Ржо.94. Конденсатор, образуеыый веществами о рав ными величинами работ выхода.
• C J 3
1Щ
Рис.95.Блок-схема измерения цботы выхода методом
Об - образец; Э - электрод; Л - сопротив ление , У - усилитель, первый каскад которого собран на электрометри ческой лампе (6Ж1Ж или . 2Э2П); 0_ -_ осциллограф i _ J L -вольтме тр JL высоким внутренним сопротивле нием.
подбирать материал электрода (например, при работе с водородом нельзя использовать отсчетный электрод из плагины) и по возмож ности контролировать наличие или отсутствие на нем хотя бы не
обратимой формы адсорбции. |
. |
В некоторых экспериментальных |
измерительных ячейках отсчет |
ный электрод покрывают стеклом. Однако здесь имеется возможность накопления на стекле отатичеокого электрического заряда.
Измерение КРП в процессах адсорбции позволяет судить, за ряжается ли при адоорбции поверхность и как именно, а измерение КРП в процесса протекания каталитической реакции позволяет сде лать некоторые выводы о взаимодействии заряженных хемосорбированных форм на поверхности.
Изменение электропроводности также является эффектом, обус ловленным искривлением энергетичаоких вон в процессах адоорбции
и катализа. По величине электропроводность обратна |
удельному |
|||
сопротивлению |
вещества |
|
• . |
|
|
& * 1-* |
Гом~'см'*] ~e/if, |
, |
(1У,5) |
|
Р. |
|
|
|
где е - заряд |
электрона; |
п - концентрация; |
<а - |
подвижность. |
285
Зависимость электропроводности полупроводников от температу ры носит экспоненциальный характер
- |
^ |
|
<?=%е |
,. |
(1У, 6) |
где U - энергия активации проводимости.
В общем случав электропроводность полупроводников определя ется концентрацией и электронов, и дырок, если проводимость сме шанная. Концентрации свободных электронов в эоне проводимости и дырок в валентной зоне связаны с уровнем Ферми, расположение ко торого по глубине полупроводника может быть неодинаковым вслед ствие искривления зон. Поэтому и электропроводность по глубине полупроводника может быть различной.
Хемосорбция, приводя к искривлению зон, может изменять & приповерхностного слоя, а это может сказаться на величине общей проводимости полупроводника в случае мелких кристаллов.
По знаку изменения электропроводности (в случае примесного полупроводника надо знать и тип проводимости) можно судить о знаке поверхностного заряда, вносимого хемосорбированными части цами. Так как характер связи хемосорбированных частиц о поверх ностью зависит не только от самих частиц, но и от природы и биографии адсорбента, то можно ожидать, что один и тот же адсорбат будет по-разному заряжать поверхность.
Связь каталитичеокой активности и электропроводности выте кает из следующего. Электропроводность определяется величинами
& v |
и £ , а каталитическая активность - только |
£ s . Но уро |
|
вень Ферми на поверхности и в объеме связаны: £ |
= /(£t/).dto |
зна |
чит, что факторы, изменяющие электропроводность, будут тем самым сдвигать уровень Ферми на поверхности, изменяя каталитическую активность. Физический смысл этого параллелизма заключается в том, что свободные носители тока в полулрсзоднике принимают участив в ходе реакции и от их концентрации зависит как скорость реакции, так и электропроводность катализатора.
Один ив факторов, изменяющих электропроводность - примеси. Два образца одного и того же катализатора, промотированные рав
ными примесями, должны |
отличаться и каталитической |
активностью |
|||
и электропроводностью. |
Если реакция |
относится к я-классу |
(т . е . |
||
ускоряется |
электронами) |
и протекает |
на полупроводнике л-типа, |
||
иди реакция |
р-класса |
протекает на полупроводнике |
р,-типа, |
то |
286
связь между каталитической активностью и электропроводностью симбатна. В противном случае эта связь антибатна.
В случае "квазиизолированнрй" поверхности связь между этими величинами нарушается, так как £$ Ф/(^1Г)-
В основе всех методов измерения электропроводности лежит за дача - правильно измерить сопротивление образца. Если сопротивле- ние-подчиняется закону Ома, нужно уметь правильно измерить ток, текущий черев образец, и падение напряжения на образце.
Очень важно для этого обеспечить надежный контакт полупроводвика в электрической цепи. Вследствие того, что между металлом и полупроводником существует КТО, на границе между ними могут воз никать валорные слои, которые особенно существенны для полупровод ников с большим удельным сопротивлением. Для полупроводников с . малым удельным сопротивлением более существенно то, что трудно . обеспечить хороший механический контакт. В обоих случаях ток, про ходящий черев образец может уменьшаться в десятки и сотни рав. Поэтому прежде воего надо устранить переходные сопротивления на контактах.
Этого можно достичь при бевэлектродных методах измерения, когда токи ооздаются внутри образца переменным или вращающимся магнитным полем, или применяя компенсационные методы измерения с использованием зондов /Т87.
"Схема двухзонДового метода приведена на рис.96. На участке
- Рис.96.Схема измерения електро- |
|
|
проводнооти компенсаци |
|
|
онным методом: |
|
|
J; и З г - |
зонды, У- - \ |
|
вольтметр, |
Б, и й - ИС |
|
ТОЧНИКИ постоянного на-> |
|
|
пряжения, & - гальва- |
|
|
* нометр, А |
- амперметр. |
Ц VWVA |
|
|
28?
образца длиной L между двумя зондами компенсационным методом измеряется падение напряжения V . Ток измеряется с помощью гальванометра $ . Величина электропроводности
где S - поперечное сечение образца.
Здеоь устраняется влияние контактов с металлом, но если образец неоднороден, то ток через образец определяется средней электропроводностью по всему сечению, а падение напряжения на зондах зависит только от поверхностного слоя. Зондовый метод из мерения проводимости хорошо применим к монокристаллам.
При измерении сопротивления поликристаллических образцов большого удельного сопротивления могут возникать электродвижущие силы поляризации и возникнет ток, направленный в сторону, проти воположную основному току, проходящему черев образец. Признаком поляризации может служить падение тока во времени при постоянном подаваемом напряжении Д б / . Для измерения по схеме, приведенной на рис.94, применяют MOOT Р-307 ИЛИ потенциометр ППТВ-1 с гальва нометром.
При таком способе измерения мы не устраняем переходных сопро тивлений между отдельными зернышками в поликристаллическом образ це. Ыа границах между отдельными зернами должен существовать пе реходной слой атомов порядка нескольких междуатомных расстояний, обусловленный различием правильного расположения атомов внутри зерна и искаженного расположения атомов на границах зерен. В прин ципе это могло бы влиять на подвижность носителей тока - было *бы дополнительное рассеяние на границах зерен. Но обычно длина сво бодного пробега, в металлах и полупроводниках меньше размеров са мих зерен, и наличие переходных слоев не должно изменять величи ну (I * Однако на границах зерен может скапливаться основная
часть примесей.
В металлах эти загрязнения увеличивают сопротивление, в по лупроводниках могут действовать двояко в зависимости от соотно шения сопротивления загрязненного слоя и сопротивления основного вещества. Даже если на границах верен и не происходит скопления примесей, то атомы на границе зерна находятся в ином энергети ческом состоянии, чем в объеме; это приводит к образованию в энер гетическом спектре электронов особых "поверхностных уровней" (уровней Тамма), которые могут располагаться и в вапретной зоне.
288
Если эти уровни достаточно заселены электронами, то может появить ся поверхностная проводимость.
Влияние переходных слоев в поликристаллическом образце устра няется при проведении измерений на переменном токе. При этом экви валентная электрическая схема образца изображается цепочкой
(рис.97),где |
г - сопротивление самого |
вещества, a R и С - с о |
противление |
и емкость переходного слоя |
между зернами. |
Измерить эти величины раздельно можно либо при помощи моста переменного тока, описанного в /187, либо снимая зависимость пол ного сопротивления образца от частоты, например, при помощи метода вольтметра - амперметра для случая переменного тока, описанного в / 1 9 / . Зависимость полного сопротивления от частоты имеет вид спа дающей кривой, достигающей насыщения. Значение полного сопротив
ления, |
измеренного на постоянном |
токе (нулевая частота), |
соответ |
|
ствует |
r + R , а |
в области насыщения (высокие частоты) - |
г. |
|
Исследование |
проводимости в |
широком интервале частот |
дает |
интересные результаты, в частности, в процессе формирования ак тивного катализатора.
Измерение на одном и том же образце катализатора в одних и тех же условиях изменения работы выхода и проводимости может
дать полезные сведения о механизме действия катализатора и проте кании каталитической реакции /14, 15, 17, 21, 2 2 7 .
с
Рис.97.Эквивалентная электричеокая охема поликристалли ческого образца.
Марс-опактрометрические методы в изучении катализа
Масо-спектрометрические методы начали развиваться сравни тельно недавно, но уже нашли применение в различных областях тех ники и научных исследованиях /23-26/.
Первый масс-спектрометр в СССР был сконструирован около 40 лет назад, а масс-спектрометрическое приборостроение начало раз виваться с 1947 г. Сейчас выпускается около 50 тиле маос-спек-- рометров различного назначения.
В научных исследованиях масс-спектрометрия применяется для
289