Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

2485

.pdf
Скачиваний:
4
Добавлен:
15.11.2022
Размер:
1.7 Mб
Скачать

 

k = Iпр /Iобр.

 

(3.40)

Коэффициент

выпрямления

может

достигать

значений 109, что свидетельствует о том, что p-n-переход обладает практически односторонней (униполярной) проводимостью, проявляя высокие выпрямляющие свойства. Поэтому p-n-переход называют полупроводниковым диодом.

С ростом температуры выпрямляющая способность p-n- перехода уменьшается и при некоторой температуре исчезает совсем. Это объясняется тем, что концентрация основных носителей определяется концентрацией примесей и от температуры практически не зависит, а концентрация неосновных носителей резко увеличивается с повышением температуры. Таким образом, при нагревании можно достичь такой температуры, при которой концентрация неосновных носителей станет равной концентрации основных и потенциальный барьер исчезнет.

3.10. Светодиоды и лазеры на основе полупроводников

В полупроводниках возможен процесс испускания света в результате перехода электрона из зоны проводимости в валентную зону и его рекомбинации с дыркой. Это явление с энергетической точки зрения является обратным явлению внутреннего фотоэффекта в полупроводниках.

Для получения достаточного числа рекомбинирующих пар «электрон-дырка» используется контакт полупроводников с электронной и дырочной проводимостями, т.е. p-n-переход (диод). В месте p-n-перехода существует потенциальный барьерE, который является препятствием для перехода электронов и дырок. При подаче прямого напряжения электроны и дырки начинают интенсивно проходить через область

p-n-перехода. В этом случае создаются благоприятные условия для рекомбинации электронно-дырочных пар в области p-n-перехода и

90

наблюдается испускание света. Энергия фотона, излучаемого полупроводниковым диодом, равна

h 1 = E = eU0.

(3.41)

Излучение светодиодов не тепловое,

поэтому его

спектральное распределение намного уже, чем спектральное излучение черного тела, к которому близок спектр ламп накаливания. Ширина спектра излучения светодиодов зависит от ширины запрещенной зоны, энергии ионизации примесей. Выбирая полупроводник и регулируя его примесный состав, можно получить излучение в нужном диапазоне волн. Взаимодействие электронов и дырок между собой, с примесями и фотонами приводит к уширению спектра, в особенности в его длинноволновой части.

Светодиоды практически безынерционны и без искажений преобразуют электрические импульсы в световые. Это используется для неэлектрических связей между различными блоками автоматики и ЭВМ. Светодиоды используются для считывания различной информации, расшифровки программ станков с ЧПУ, ЭВМ. Светодиоды используются в качестве индикаторов и для передачи информации с движущихся объектов. Сигналы от светодиодов принимают фотосопротивления, фотодиоды, фототранзисторы и т.д.

В последние годы получили широкое применение в бытовых и технических устройствах записи и воспроизведения информации полупроводниковые лазеры (оптическая игла в проигрывателях на компакт-дисках, видеодисках, в голографических системах памяти и т.п.).

91

Вполупроводниковых

лазерах,

в

отличие

от

лазеров

EП1

 

EП 2

других

типов,

используются

EФ

E1

EФ

квантовые

переходы

между

 

разрешенными

энергетическими

EВ1

 

 

 

зонами,

а

 

не

дискретными

 

 

 

 

AO

EВ2

уровнями

энергии.

Лазерный

 

 

Рис. 3.20

 

эффект

в

полупроводниковых

 

 

 

 

 

лазерах

связан

с

излучательной

 

 

 

рекомбинацией избыточных электронов и дырок, приводящей к возникновению когерентного излучения. Для лазера нужно получить область с очень высокой объемной концентрацией электронов и дырок и добиться того, чтобы свет не убегал из этой области.

Активная среда полупроводникового лазера создается в так называемых изопериодических парах, т. е. пары кристаллов, различающихся по ширине запрещенной зоны и другим физическим свойствам, но имеющие одинаковый период кристаллической решетки. Такие материалы пригодны для образования бездефектных двойных гетероструктур ДГС, путем наращивания одного материала на другом эпитаксиальными

методами. Лучшей

такой парой являются

соединения GaAs

(Eg=1,5эВ) и AlAs (Eg=2,1эВ).

 

 

Основой

полупроводникового

лазера

является

р-n-гетеропереход,

образующийся

при

контакте

полупроводников р- и n-типа с разными Eg (рис. 3.20). Узкозонный компонент служит в качестве активного вещества

и представляет собой тонкий слой, заключенный между широкозонными слоями (двойная гетероструктура).

Накачка полупроводникового лазера осуществляется путем инжекции (впрыскивания) избыточных носителей заряда через гетеропереход. Небольшое прямое напряжение Uг, приложенное к гетеропереходу, создает условия для туннелирования электронов через небольшой потенциальный

92

барьер, их инжекции в активную область (АО) и генерацию излучения. После этого зависимость тока от приложенного напряжения к ДГС отличается от ВАХ обычного полупроводникового диода только сдвигом на Uг ее прямой ветви. С учетом напряжения генерации Uг, ВАХ ДГС описывается зависимостью:

 

 

I I

0

(e q(U Uг ) / kT

1)

 

 

(3.42)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Таким

образом,

лазерный

 

 

эффект

связан

с

излучательной

 

p

рекомбинацией

 

избыточных

n

 

 

 

 

 

 

 

 

n

электронов

и дырок,

приводящей к

p

 

возникновению

 

когерентного

n p

 

 

 

излучения.

 

 

 

 

 

АО

 

 

 

 

 

 

 

Оптическим

резонатором

 

 

 

 

Рис. 3.22

 

инжекционного

лазера

является

 

тонкий

или

сверхтонкий

(< 100нм)

 

 

слой, заключенный между широкозонными эмиттерными слоями, образующими двойную гетероструктуру (рис. 3.21).

Двойные гетероструктуры используются для пространственного ограничения носителей в активной зоне. Благодаря потенциальным барьерам на границе полупроводников с различной шириной запрещенной зоны отсутствует сквозное токопрохождение электронов и дырок через p-n-переход. Области рекомбинации, индуцированного светового излучения и инверсии заселенности совпадают и сосредоточены в среднем слое. Локализовать свет удается за счет большего коэффициента преломления узкозонного слоя. Характерная частота лазерного излучения зависит от разности энергий между валентной зоной и зоной проводимости.

Таким образом, важнейшие особенности гетероструктур состоят в суперинжекции и электронном ограничении носителей заряда, а также в оптическом ограничении и формировании когерентного излучения.

93

3.11. Примеры решения задач

Задача 1. Ширина запрещенной зоны чистого (беспримесного) полупроводника равна 1 эВ. Вычислите вероятность заполнения электроном уровня вблизи дна зоны проводимости при температурах 0 К и 290 К. Будет ли увеличиваться эта вероятность при указанных температурах, если на полупроводник действует электромагнитное излучение а) с λ=1 мкм и б) с λ=2 мкм?

Решение

При низкой температуре валентная зона чистого полупроводника полностью занята электронами, а зона проводимости пуста. Для чистого полупроводника уровень Ферми лежит посредине запрещенной зоны. Функция распределения Ферми-Дирака показывает вероятность того, что электрон имеет энергию Е:

 

 

E Eф

1

fФ (E)

 

kT

 

e

 

1 .

 

 

 

 

Так как при Т=0К Е>Ef, то экспонента стремится к нулю и fФ=0. Следовательно, энергия электрона на превышает значения Ef.

Если ширина запрещенной зоны равна 1 эВ, то вероятность того, что при температуре 290 К электрон обладает энергией Е относительно дна зоны проводимости равна

 

 

E Eф

1

 

fФ (E)

 

kT

 

 

e

 

1

,

 

 

 

 

 

где E-EФ=0,5 эВ.

Вычисляя, получаем fФ(Е)=2,06.10-9.

а) Пусть на полупроводник действует излучение с длиной волны λ=1мкм. Энергия налетающих фотонов в этом случае

составит hc 1,24эВ.

94

Так как энергия падающего фотона больше ширины запрещенной зоны, то вероятность нахождения электронов в зоне проводимости увеличивается как при температуре 0 К, так и при 290 К.

б) При длине волны падающего излучения λ=2мкм, энергия фотона составит ε=0,62 эВ, что меньше ширины запрещенной зоны. Таким образом, никакого изменения вероятности не произойдет ни при температуре 0К, ни при

290К.

Задача 2. Удельная проводимость кремниевого образца при нагревании от температуры t1 = 0°С до температуры t2 = 18 °С увеличилась в 4,24 раза. Определить ширину запрещенной зоны кремния.

Решение

Удельная проводимость собственных полупроводников0e E / 2kT , где σ0 — постоянная, характерная для данного полупроводника; Е — ширина запрещенной зоны. Тогда

 

1

 

e E / 2kT1

 

 

E

1

 

1

 

 

 

 

 

exp

 

 

 

 

 

 

 

 

e E / 2kT2

 

 

 

2

 

 

 

2k T

 

T

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

2

 

 

 

 

1

 

E

1

 

1

 

или, прологарифмировав,

ln

 

 

 

 

 

 

,

 

 

 

 

 

 

2

 

2k T

 

T

 

 

 

 

 

 

1

 

2

 

откуда искомая ширина запрещенной зоны

E 2kT1T2 ln 1 2 .

T2 T1

Вычисляя, получаем

Е = 1,1 эВ.

Задача 3. Образец легированного кремния p-типа длиной 5 мм, шириной 2 мм и толщиной 1 мм имеет электрическое сопротивление 100 Ом. Вычислить концентрацию примеси в

95

образце, если подвижность электронов и дырок равна 0,12 м2/В·с и 0,025 м2/В·с, а концентрация собственных носителей 2,5∙1016м-3. Определить отношение электронной проводимости к дырочной.

Решение

Удельная электропроводность образца определяется по

формуле

 

1

 

 

,

 

R S

 

 

 

где S=a·b – площадь поперечного сечения образца. Подставляя исходные данные, получим σ = 25 Ом-1∙м-1.

С другой стороны, удельная электропроводность полупроводника p-типа определяется выражением

e(npun ppup ) ,

где np и pp – концентрация электронов и дырок в материале p- типа, un и up – их подвижность.

 

 

 

 

 

n

2

 

 

 

 

n2

Используя соотношение

p

 

n

 

 

,

находим n

 

i

,

p

p

 

p

 

 

 

 

i

 

 

 

pp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где ni – концентрация собственных носителей (число пар электрон-дырка).

Подстановка этого соотношения в выражение для электропроводности и решение полученного уравнения дает

следующий результат

pp= 6,24∙1021 м-3.

Данный результат совпадает с концентрацией акцепторной примеси в образце, т.е. Na= pp .

Электронная и дырочная проводимость определяются выражениями

n npeun , p ppeup .

Следовательно

 

 

 

npun

 

n2

 

u

n

7,7 10 11 .

 

n

 

 

 

i

 

 

 

p

p

u

p

p2

u

p

 

 

 

 

 

 

p

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

96

 

 

 

 

Задача 4. Образец из чистого полупроводника нагревают на Т=125 К от температуры Т1=250 К. При этом его удельная электрическая проводимость увеличивается в 800 раз. Как она изменится при последующем нагревании еще на Т=125 К?

Решение

Используя формулу температурной зависимости удельной электрической проводимости чистого полупроводника

Eg

c 0e 2kT ,

Запишем отношение ее значения σ2 при температуре Т21+ΔТ к значению σ1 при температуре Т1:

 

 

 

 

Eg 1

 

1

 

 

 

 

 

 

 

Eg 1

 

 

 

1

 

 

Eg T

 

 

 

 

 

2k

T T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

e

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

2

или ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2k T1T2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2k T1

 

 

T2

 

 

 

 

Аналогичное

отношение

значений

 

σ3

при температуре

Т31+2ΔТ к σ2

имеет вид:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Eg

1

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

Eg 1

 

 

 

 

1

 

 

 

Eg T

 

 

 

 

 

2k

T T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3

e

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

3

или ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

21

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2k T2T3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2k T2

 

 

 

 

T3

 

 

 

 

 

Решая полученную систему уравнений (исключая ширину запрещенной зоны Eg, находим

ln

3

 

T1

ln

2 .

 

 

T 2T

 

2

 

 

 

1

 

 

 

1

 

 

Учитывая, что Т1+2ΔТ=2Т1, упростим это выражение:

 

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ln

 

T1

 

ln

2

 

1

ln

2

ln

2 .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

T 2T

1

 

2

 

1

 

 

1

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Тогда

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

28,3.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

97

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Задача 5. Найти положение уровня Ферми в собственном германии при температуре 300 К, если ширина его запрещенной зоны ΔEg=0,665 эВ, а эффективные массы для дырок в валентной зоне и для электронов в зоне проводимости соответственно

равны: m*p =0,388me; mn* =0,55me, где me – масса свободного

электрона.

Решение

Положение уровня Ферми в собственном полупроводнике определяется выражением (3.10):

 

Eg

 

3

mp

 

E

 

 

 

kT ln

 

.

 

 

 

Ф

2

 

4

 

 

 

mn

 

 

 

Подставляя числовые значения, получаем

ЕФ=0,326 эВ.

Задача 6. Вычислить собственную концентрацию носителей заряда в кремнии при температуре 300 К, если ширина

запрещенной зоны Eg=1,12 эВ, а m*p =0,56me; mn* =1,05me, где me

– масса свободного электрона.

Решение

В собственных полупроводниках концентрация электронов в зоне проводимости n равна концентрации дырок в валентной зоне p, поэтому концентрацию носителей заряда можно вычислить по формуле (3.12):

 

 

 

 

kT 3 / 2

 

 

 

2

m m

 

Eg

 

 

 

 

 

n p

 

 

 

 

ni

n p 2

 

 

 

 

 

e 2kT

 

h

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где С — постоянная, слабо зависящая от Τ и можно пренебречь.

Подставляя числовые значения, получаем ni=7.1015 м-3.

Eg

Ce 2kT ,

m, поэтому ею

98

4.ЗАДАЧИ ДЛЯ КОНТРОЛЬНЫХ ЗАДАНИЙ

1.Определите энергию Ферми для натрия. Плотность натрия 975кг/м3, атомная масса 2310-3кг/моль.

2.Найти число свободных электронов, приходящихся на один aтом натрия при Т = 0К, если уровень Ферми Еф=3,2эВ.

Плотность натрия 970кг/м3, атомная масса 2310-3кг/моль.

3. Во сколько раз число свободных электронов, приходящихся на один атом металла при температуре Т = 0К, больше в алюминии, чем в меди, если энергия Ферми соответственно равны 11,7 эВ и 7 эВ. Плотность алюминия равна

2700кг/м3, его атомная масса 0,027кг/моль, плотность меди 8930кг/м3, его атомная масса 0,064кг/моль.

4.Определите температуру, при которой средняя кинетическая энергия молекул идеального газа равна средней энергии свободных электронов в меди при температуре Т = 0К.

5.Оценить температуру вырождения для калия, если принять, что на каждый атом приходится по одному свободному

электрону. Плотность калия 860кг/м3, атомная масса

0,039 кг/моль.

6.Определите максимальное значение импульса

свободных электронов в золоте при температуре Т = 0К. Плотность золота 1931кг/м3 , молярная масса 197∙10-3кг/моль.

7.Определите максимальную скорость свободных электронов в серебряном слитке при температуре Т=0К. ( =10500кг м3, M=107,9∙10-3кг/моль)

8.Определите максимальное значение импульса свободных электронов в меди при температуре Т= 0К. Плотность

меди 8930кг м3, молярная масса 0,064 кг/моль.

9. Оценить температуру вырождения для золота, если принять, что на каждый атом приходится по одному свободному электрону. Плотность золота 1931кг м3, молярная масса

197∙10-3 кг/моль.

99

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]