Реакции элиминирования
R/
Элиминирование: R C H
X
H H
Элиминирование: R C C R/
X H
Элиминирование: X CH2 CH2 CH2
R/
RC 
+ HX
карбен
RCH=CHR/ + HX
алкен
|
H2C |
Y |
CH2 + XY |
H2C
циклопропан
Элиминирование (дегидрогалогенирование)
|
|
CH3 |
|
спирт |
|
|
|
CH3 |
||
|
|
|
|
|
CH |
|
|
C + KCl + H2O |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
CH3 C |
Cl + KOH |
|
2 |
|||||||
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
CH3 |
|
|
|
CH3 |
|
|
|
|
||||
CH CH CH CH |
Br + |
(CH ) CHO-K+ |
|
CH3CH2CH=CH2 + KBr + (CH3)3CHOH |
|||
|
|||||||
3 |
2 |
2 |
2 |
|
3 3 |
|
|
|
|
|
CH3 |
|
|
|
|
|
|
|
|
CH3 |
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
CH |
2 |
|
C |
CH CH |
|
+ |
C H ONa |
|
CH3 |
|
C CH CH |
|
+ NaCl + C H |
OH |
||||
|
|
|
|
|
||||||||||||||
|
|
|
|
|||||||||||||||
H |
|
|
|
|
|
3 |
|
2 |
5 |
|
|
|
|
3 |
2 |
5 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Cl |
H |
|
|
|
|
|
основной продукт |
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
по правилу Зайцева
Механизм Е1
|
медленно |
+ Hal- |
H C C Hal |
H C C |
B + H C C |
быстро |
BH + |
C C |
|
= k·[RHal]
Для механизма Е1
•разветвленный радикал в субстрате (третичный)
•хорошая уходящая группа
•низкая основность реагента
•полярный протонный растворитель
E1 конкурирует с SN1, при этом SN1 > E1
CH3 |
|
|
|
|
E1 |
CH3 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
H2O - C2H5OH |
CH3 |
CH |
H |
|
|
|
|
|
|
|
C |
CH2 |
+ H O+ |
||||
|
|
2 |
|
|||||
CH3 C Cl |
|
|
C |
|
HOH |
|
|
3 |
- Cl- |
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
CH3 |
|
|
|
CH3 |
|
|
CH |
|
|
|
|
|
|
|
|
3 |
SN1 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
(36%) |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
CH3
CH3 C OH (64%)
CH3
Механизм Е1CB
B + H C C Hal |
быстро |
BH + |
C C |
Hal |
|
|
медленно |
C |
+ Hal- |
C C Hal |
C |
Для механизма Е1CB
•присутствие электроноакцепторных заместителей в положении субстрата
•высокая основность реагента
Cl |
F |
- HOH |
Cl F |
Cl |
|
F |
Cl C C F + OH- |
|
|
||||
|
Cl C C F |
|
C C |
+ F- |
||
H |
F |
|
F |
Cl |
|
F |
|
|
|
|
|||
Механизм Е2
|
|
|
BH + C C |
+ Hal- |
B + H C C Hal |
B H C C |
Hal |
= k·[RHal]·[B]
Для механизма Е2: высокая основность реагента :В
OH - < C2H5O - < (CH3)3CHO - < NH2 -
увеличение основности
Ненуклеофильные основания (стерически затрудненные)
N |
N Li |
|
диизопропилэтиламин |
диизопропиламид лития |
E2 конкурирует с SN2, при этом E2 > SN2
E2
H H3C
C2H5O- + H C C Br H H
SN2
CH3
CH2 CH + C2H5OH + Br-
(80%)
|
|
CH3 |
|
|
|
CH |
|
C |
OC H |
5 |
+ Br- |
|
|||||
3 |
|
H |
2 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
(20%) |
|
|
|
|