- •Носители заряда в полупроводниках. Зонная модель полупроводников. Процессы генерации и рекомбинации подвижных носителей зарядов.
- •Проводимость полупроводников, ее зависимость от материала, температуры и концентрации примесей.
- •Уровень Ферми собственного и примесного полупроводников. Зависимость энергии Ферми от температуры и концентрации примесей
- •Электронно-дырочный переход в равновесном состоянии
- •Вольтамперная характеристика p-n перехода и ее зависимость от температуры, степени легирования.
- •Различные типы диодов. Особенности характеристик и параметров.
- •Полевые транзисторы с управляющим p-n переходом. Структура, назначение основных областей. Принцип действия. Статические стоковые и стокзатворные характеристики.
- •Полевые транзисторы с изолированным затвором и индуцированным каналом. Режим обогащения, обеднения и инверсии приповерхностного слоя. Стоковые и стокзатворные характеристики.
- •Полевые транзисторы с изолированным затвором и встроенным каналом. Особенности технологии, статические характеристики.
- •§2.9 Полевые транзисторы мдп-структуры
- •Структура биполярного транзистора (бт) и назначение основных областей. Принцип усиления мощности. Режимы работы: активный, насыщения, отсечки, инверсный
- •Принцип действия транзистора
- •§2.3 Транзистор, как усилитель напряжения и мощности
- •§2.6 Статические характеристики биполярного транзистора
- •§2.5 Схемы включения и режимы работы транзисторов
- •Транзистор как линейный четырехполюсник. Системы параметров транзисторов.
- •Работа транзистора в схеме усилителя. Выходная динамическая характеристика. Выбор рабочего режима.
- •2.7. Температурные и частотные свойства
- •2.8. Биполярные транзисторы в рабочем режиме
- •2.5. Усилительный каскад на биполярном транзисторе с оэ
- •Эквивалентные схемы усилителя в режиме малого сигнала. Коэффициент усиления по напряжению и сквозной коэффициент усиления. Входное и выходное сопротивление
- •23.Схема каскада с оэ по переменному току. Эквивалентная схема каскада.
- •Проведя анализ схемы, найдем, что
- •§4.5 Стабилизация режима работы каскадов на биполярных транзисторах
- •28.Обратная связь в усилительных каскадах. Обратная связь по току последовательного типа
- •29.Схема с ос по току последовательного типа.
Носители заряда в полупроводниках. Зонная модель полупроводников. Процессы генерации и рекомбинации подвижных носителей зарядов.
Проводимость полупроводников, ее зависимость от материала, температуры и концентрации примесей.
Уровень Ферми собственного и примесного полупроводников. Зависимость энергии Ферми от температуры и концентрации примесей
В полупроводниках удельное электрическое сопротивление принято измерять для 1см3 материала.
Характерной особенностью полупроводников является сильная зависимость удельного электрического сопротивления от воздействия полей, изменения температуры, ионизированного излучения. Это связано с тем, что ширина запрещённой зоны от 0.5 до 3 эВ /зона проводимости и запрещённая зона перекрываются/.
Наиболее распространёнными материалами являются: германий, кремний, арсенид галлия /Ge, Si, GaAs/. У германия ширина запрещённой зоны – 0.72 эВ, у кремния – 1.12 эВ, а у арсенида галлия – 1.43 эВ. У германия максимальная рабочая температура 75°C, а у кремния 125°C.
В кристаллическом твёрдом теле существуют квазинепрерывные зоны разрешённых значений энергии электронов. Верхняя разрешённая зона, которая при температуре абсолютного нуля / =0К/ целиком заполнена электронами, называется валентной. Расположенная над ней следующая разрешённая зона, которая при температуре абсолютного нуля пуста или частично заполнена электронами, называется зоной проводимости.
Дырка – подвижный положительный заряд, который возникает на месте атома, имеющего не заполненную ковалентную связь.
Дырки у потолка валентной зоны, электроны у потолка запрещенной зоны.
Ч ем меньше ширина запрещённой зоны, тем ниже рабочая температура. Кристаллическая решётка Si – тетраэдр.
При T=0K все электроны связаны и проводимость полупроводника равна 0. Незаполненная связь – это дырка.
Процесс возникновения пары носителей называется генерацией пары носителей.
Процесс исчезновения пары носителей называется рекомбинацией пары носителей.
В беспримесном полупроводнике /собственном/ концентрация электронов и дырок совпадает.
Э нергия может высвобождаться в виде тепла, либо в виде электромагнитного излучения. Чем выше энергия, тем больше частота.
-ширина запрещённой зоны
Уровень Ферми – уровень, вероятность заполнения которого равна ½.
Wfi=(Wп-Wв)/2
з= Wп-Wв
Различают электронную и дырочную составляющую тока и проводимости: n-типа и p-типа.
К полупроводникам отн-ся все элементы, ширина запрещенной зоны которых составляет 0,1-3эВ. >3 – диэлектрики
Электропроводность обусловлена только генерацией пар электрон дырка. Называется собственная проводимость.
ni=pi=AT^3/2*exp(- з/2kT) – концентрация носителей
ni*pi=ni^2
n-электроны, p- дырки
Удельная проводимость:
q-заряд
ni -концентрация носителей
-подвижность носителей
Подвижность носителей зависит от окружающей температуры
= AT^-3/2
Подвижность - средняя скорость движения заряда в электрическом поле единичной напряжённости. Как правило, .
Примесные полупроводники – часть атомов основного материала замещена атомами другого материала.
Легирование – процесс введения примесей в полупроводник. Для легирования используется 3-х валентные бор, алюминий, индий, галлий и 5-и валентные сурьма, мышьяк, фосфор.
Рассмотрим кристаллическую решётку кремния, легированного фосфором.
= 0.044эВ – энергия, чтобы ионизировать атом примеси /энергия активации/.
В таком полупроводнике концентрация электронов будет выше, чем концентрация дырок. Примесь, сообщающую полупроводнику электронный характер проводимости, называют донорной.
Там плюсик должен быть)
Носители заряда с большой концентрацией называют основными носителями заряда.
Чем выше степень легирования, тем выше будет располагаться уровень Ферми.
Полупроводники, у которых уровень Ферми располагается в зоне проводимости, называются вырожденными полупроводниками.
С ростом температуры уровень Ферми будет стремиться к середине запрещённой зоны.
Энергия, достаточная для перевода электрона с донорного уровня в зону проводимости называется энергией ионизации уровня.
ион= Wп-Wз
Р ассмотрим примесный полупроводник, в котором часть атомов основного материала /в данном случае кремния/ заменена атомами 3-х валентного индия.
Будет дырка.
Какова концентрация примесей, такова и концентрация дырок. Дырок будет больше на количество атомов, введённых в материал.
Такой полупроводник называют дырочным /или p-типа/.
Примесь, сообщающую полупроводнику дырочный характер проводимости называют акцепторной.
Для данного примера /Si, In/ =0.16эВ. Уровень Ферми располагается ниже середины запрещённой зоны.
Чем выше степень легирования, тем ниже уровень Ферми. Тогда в вырожденных полупроводниках p-типа WF – в валентной зоне.
Дрейфовое движение носителей, дрейфовый ток. Подвижность, ее зависимость от температуры и напряженности электрического поля.
Диффузионное движение носителей, диффузионный ток, диффузионная длина.
Дрейфовый ток – называется перемещение подвижных носителей под действием электрического поля.
iе= σE
σ=q n
iеn= q* *n*E
iеp= q* *p*E
Диффузионный ток – протекает в том случае, если есть неравномерность концентрации носителей заряда.
Закон Фика – опр-ся плотность
idp=-q*Dp*dp/dx
idn=-q*Dn*dn/dx
dn/dx- градиент концентрации
Dn – коэффициент диффузии
D равен числу носителей, диффундирующих за одну секунду через единичную площадку при единичном градиенте концентрации.