
- •Введение.
- •1. Кремний.
- •2. Методы получения монокристаллических материалов.
- •2.1. Получение кристаллов из твёрдой фазы.
- •2.2. Получение кристаллов из жидкой фазы.
- •Выращивание кристаллов из расплавов.
- •Выращивание кристаллов из растворов.
- •2.3. Получение кристаллов из газовой фазы.
- •3. Материалы, использующиеся при производстве монокристаллического кремния методом Чохральского.
- •3.1. Легирующие примеси.
- •3.2. Основные конструкционные и технологические материалы.
- •4. Пооперационное описание технологии выращивания монокристаллического кремния методом Чохральского.
- •Подготовка и компоновка сырья.
- •Чистка камеры печи.
- •Сборка оснастки печи.
- •Вакуумирование камеры и проверка на герметичность.
- •Расплавление загрузки и выдержка расплава.
- •Затравление и разращивание прямого конуса.
- •Выращивание цилиндрической части слитка.
- •Приостановка процесса роста.
- •Выращивание обратного конуса.
- •Охлаждение слитка и выгрузка из камеры печи.
- •Контроль качества выращенного слитка и доводка до готовой продукции.
- •5. Технологические неоднородности состава кристаллов и методы их уменьшения.
- •6. Оборудование, используемое при выращивании монокристаллического кремния методом Чохральского.
- •7. Управление технологическим процессом выращивания монокристаллического кремния методом Чохральского.
- •Выбор управляющих воздействий.
- •8. Статистический анализ процессов.
- •Диаграмма Ишикавы.
- •Диаграмма Парето.
- •8.1. Подбор оптимального режима выращивания монокристаллов кремния.
- •8.2. Корректировка режимов при переходе на новую технологическую оснастку.
- •Основные результаты и выводы.
7. Управление технологическим процессом выращивания монокристаллического кремния методом Чохральского.
Для получения качественных монокристаллов необходимо точно поддерживать технологические режимы с помощью совершенных устройств контроля и управления. В настоящее время наибольшие успехи в области контроля и управления технологическими процессами с целью создания систем автоматического управления достигнуты для методов выращивания кристаллов из расплава. Независимо от метода получения монокристаллов выделяют методы контроля параметров технологического процесса и системы кристалл - расплав.
Центральной частью САУ является программно-аппаратный комплекс, реализованный на персональном компьютере и промышленном исполнении, дополнительно оснащённый модулями ввода – вывода аналоговых сигналов (АЦП, ЦАП) и ввода – вывода дискретных сигналов, картой захвата изображения с видеокамеры, дисплеем и специализированной клавиатурой. Эта часть САУ смонтирована в пульте, где находятся модули нормализации сигналов с датчиков печного агрегата, блок управления регулятором давления и расхода газа, низковольтные источники питания, сервоусилители электроприводов, блоки частного управления асинхронными двигателями, пускорегулирующая аппаратура, автоматические выключатели, элементы индикации и ручного управления.
АСУ обеспечивает расчёт и индикацию следующих параметров:
• Мощность на нагревателе;
• Сопротивление нагревателя;
• Длина кристалла;
• Среднее отклонение диаметра кристалла от заданного;
• Производную отклонения диаметра кристалла;
• Масса кристалла;
• Масса расплава в тигле;
• Программные скорости перемещения и вращения затравки;
• Программную скорость вращения тигля;
• Скорость перемещения тигля, необходимую для поддержания уровня расплава;
• Номер и дату плавки.
АСУ обеспечивает:
• Поддержание уровня расплава расчётом скорости перемещения тигля или регулированием скорости перемещения тигля по датчику диаметра (видеокамере);
• Возможность просмотра графиков технологических параметров процесса в режиме «история» на любой стадии процесса;
• Архивацию информации по процессам и хранение её в течение одного месяца;
• Возможность снятия информации по процессам на внешний носитель;
• Возможность перехода на любую стадию процесса для просмотра информации;
• Возможность проведения имитации процесса с включённым нагревателем;
• Сигнализацию потери диаметра, зависания компьютера, аварии источника питания компьютера;
• Возможность снятия информации через USB-порт.
АСУ осуществляет автоматизированный процесс выращивания кристалла путём выдачи управляющих воздействий в следующие контуры регулирования:
• Температура нагревателя;
• Скорость перемещения затравки;
• Скорость перемещения тигля;
• Скорость вращения тигля;
• Скорость вращения затравки.
Управление по каналу температуры нагревателя производится непосредственно от компьютера с программной реализацией ПИД-регулятора температуры и обратной связью от датчика ТЕРА-50 путём выдачи управляющего сигнала на ПТД (без промежуточного аналогового регулятора), с возможностью поддержания тока нагревателя в ручном режиме.
В АСУ предусмотрено аварийное отключение нагревателя при падении давления воды на входе системы водяного охлаждения, при срабатывании взрывного клапана и при открывании нижней камеры.
Параметрами технологического процесса являются скорости вращения кристалла и тигля, скорость вытягивания кристалла и прохода расплавленной зоны, температуры нагревателей и окружающей среды (внутренний объем кристаллизационной камеры), скорость протока и давление воды, охлаждающей затравку и стенки камеры, и т.д.
К параметрам системы кристалл-расплав относятся температура и ее градиенты в расплаве и кристалле, поле скоростей в расплаве, создаваемое конвективными течениями, форма и высота мениска или форма и высота расплавленной зоны, форма фронта кристаллизации, диаметр растущего кристалла и т.п.
С точки зрения управления качеством растущего кристалла основное значение имеет контроль параметров системы кристалл - расплав, так как именно в ней формируются электрофизические и структурные свойства монокристаллов.
На Подольском химико-металлургическом заводе для измерения диаметра растущего кристалла используется телекамера. Изображение кристалла передается на телеэкран, а отсчет диаметра осуществляется специальным сканирующим устройством по длительности импульса, соответствующего диаметру кристалла на фронте кристаллизации. Расположить телекамеру строго перпендикулярно оси роста не удается (<90°) из-за затенения фронта кристаллизации стенками тигля даже при использовании подпитки расплава. Это дает погрешность при определении диаметра. Точность измерения диаметра телевизионным способом составляет 0,3 %. Она зависит от линейности развертки и точности измерения видеосигнала.
Наиболее перспективными для создания АСУ ТП являются те способы контроля диаметра кристалла, при которых регистрируются параметры мениска, так как их изменения предшествуют изменению диаметра кристалла.