- •Московская государственная академия тонкой химической технологии
- •Общепрофессиональные дисциплины
- •Физика и химия твердого тела
- •Специальные дисциплины кристаллохимия и кристаллография
- •Физика и химия твердофазных систем
- •Специальные элективные дисциплины физико-химические основы специальных технологий Кафедра технологии полупроводниковых материалов
- •Кафедра химии и технологии наноразмерных и композиционных материалов
- •Кафедра химии и технологии редких и рассеянных элементов
- •Физико-химические основы специального материаловедения Кафедра технологии полупроводниковых материалов
- •Кафедра химии и технологии наноразмерных и композиционных материалов Физико-химические основы создания спеченных материалов
- •Физико--химические основы технологии координационных и металлоорганических соединений и Физико--химические основы технологии кластерных соединений металлов
- •Кафедра химии и технологии редких и рассеянных элементов
- •Принципы аппаратурного оформления технологических процессов Кафедра технологии полупроводниковых материалов
- •Кафедра химии и технологии наноразмерных и композиционных материалов
- •Кафедра химии и технологии редких и рассеянных элементов
Физико-химические основы специального материаловедения Кафедра технологии полупроводниковых материалов
1. Какие собственные точечные дефекты будут преобладать в кристаллах соединений А3В5 при отклонении от стехиометрии в сторону избытка элемента III группы ? Как повлияет на тип проводимости материала, если дефекты будут ионизированы? Какова природа образования этих дефектов?
Ответ: Вакансии в подрешетке элемента V группы, n-тип проводимости, так как вакансии в подрешетке анионов ведут себя как доноры. Природа образования - отклонение состава от стехиометрического.
2. Какие собственные точечные дефекты будут преобладать в кристаллах соединений А3В5 при отклонении от стехиометрии в сторону избытка элемента V группы? Как повлияет на тип проводимости материала, если дефекты будут ионизированы? Какова природа образования этих дефектов?
Ответ: Вакансии в подрешетке элемента III группы, p-тип проводимости, так как вакансии в подрешетке катионов ведут себя как акцепторы. Природа образования - отклонение состава от стехиометрического.
3. Какие собственные точечные дефекты преобладают в кристаллах соединений А2В6 при отклонении от стехиометрии в сторону избытка элемента II группы ? Каким типом проводимости обладает в этом случае материал? Каким способом изменить тип проводимости?
Ответ: Вакансии в подрешетке элемента VI группы, n-тип проводимости, так как вакансии в подрешетке анионов ведут себя как доноры. Отжиг в парах элемента VI группы или в растворах-расплавах, обогащенных этим компонентом.
4. Какие собственные точечные дефекты преобладают в кристаллах соединений А2В6 при отклонении от стехиометрии в сторону избытка компонента VI группы? Каким типом проводимости обладает в этом случае материала? Каким способом изменить тип проводимости?
Ответ: Вакансии в подрешетке элемента II группы, p-тип проводимости, так как вакансии в подрешетке анионов ведут себя как акцепторы. Отжиг в парах элемента II группы или в растворах-расплавах, обогащенных этим компонентом.
5. Перечислите виды собственных точечных дефектов в нелегированных кристаллах элементарных полупроводников (кремния, германия). Указать преобладающий тип дефектов и природу образования дефектов.
Ответ: Вакансии, междоузельные атомы, дивакансии, равновесные конфигурации междоузельных атомов, электронные дефекты. В Ge преобладают вакансии, в кремнии вакансии и междоузельные атомы находятся в соизмеримых количествах, дефекты имеют термическую природу образования
6. Перечислите виды собственных точечных дефектов в кристаллах полупроводниковых соединений типа А3В5 (арсенид галлия, фосфид индия). Указать преобладающий тип дефектов и природу образования дефектов.
Ответ: Вакансии в подрешетках элементов III и V групп, междоузельные атомы обоих элементов, антиструктурные дефекты двух типов, электронные дефекты. Преобладают вакансии, природа образования - термические или вызванные отклонением состава от стехиометрии.
7. От каких параметров зависит тип преобладающих точечных дефектов в кристалле и как изменяется концентрация собственных точечных дефектов с температурой?
Ответ: От энергии образования дефекта и температуры; концентрация дефектов возрастает с температурой по экспоненциальной зависимости ,
8. Каким способом можно зафиксировать высокотемпературный спектр собственных точечных дефектов в кристалле и каким способом привести концентрацию точечных дефектов к равновесной?
Ответ: Быстрым охлаждением от высокой температуры, длительным отжигом при соответствующей температуре.
9. Назовите легирующие примеси, которые не будут приводить к изменению электрических свойств кристаллов арсенида галлия. Будут ли эти примеси влиять на тонкую структуру кристалла?
Ответ: Примеси Ш группы ( Al, In) в подрешетке галлия, примеси V гр. (P, Sb) в подрешетке мышьяка. Оказывают упрочняющее воздействие на кристаллическую структуру.
10. Какими особенностями характеризуется поведение нейтральных и заряженных собственных точечных дефектов в кристалле?
Ответ: Концентрация нейтральных собственных точечных дефектов – величина постоянная при данной температуре, произведение концентраций заряженных точечных дефектов – величина постоянная при данной температуре.
11. Перечислите виды структурных (неточечных) дефектов в кристаллах полупроводников.
Ответ: Линейные (дислокации), поверхностные (дислокационные, двойниковые, межзеренные границы, дефекты упаковки), объемные (разрывы сплошности кристалла, включения второй фазы, упругие зональные напряжения).
12. Указать, какой тип зонной структуры имеют перечисленные материалы: GaAs, Si, InAs, GaP, Ge, Cd, Fe, GaSb, Cu. На каких свойствах кристаллы это отражается?
Ответ: GaAs, InAs, GaSb - прямозонные материалы, Si, Ge, GaP - непрямозонные, Cd, Cu, Fe - металлы, имеют непрерывный энергетический спектр. В первую очередь на электрофизических и электрооптических свойствах.
13. Как влияет состав твердого раствора GaAs - AlAs на параметры его зонной структуры?
Ответ: С увеличением содержания AlAs увеличивается ширина запрещенной зоны и при определенном составе ( 30 % AlAs) происходит переход от прямозонной структуры к непрямозонной.
14. Примеси каких химических элементов в полупроводниках являются мелкими и глубокими?
Ответ: Мелкими являются примеси, валентность которых отличается от валентности атома матрицы на +1 или -1, глубокими - на величину >1.
15. Как можно прогнозировать донорные или акцепторные свойства примесей с незаполненной d - оболочкой в кремнии?
Ответ: Примеси таких элементов имеют электронную конфигурацию sndm. Если величина n+m – 4 > 5, то примесь – акцептор, если <5 – то донор, если = 5 – амфотерная примесь. Однако из этого правила есть исключения.
16. Почему собственная проводимость кремния много меньше собственной проводимости антимонида индия?
Ответ: Это объясняется тем, что кремний – широкозонный полупроводник, а InSb – узкозонный. Кроме того, эффективная масса электронов в кремнии значительно больше и, следовательно, их подвижность значительно меньше.
17. Каков характер растворимости примесей металлов в кристаллах кремния ( германия) ?
Ответ: Для металлов характерен ретроградный характер растворимости : максимальная растворимость существует при температурах выше эвтектической.
18. Назовите методы, позволяющие исследовать механизмы рассеяния носителей заряда.
Ответ: Измерение а) температурной зависимости подвижности носителей заряда, б) спектров поглощения на свободных носителях заряда, в) термомагнитных эффектов, г) зависимости термо-э.д.с. от температуры.
19.Объясните, в чем состоит различие в спектрах собственного поглощения света полупроводников с обычным уровнем легирования и сильно легированных.
Ответ: Спектры отличаются сдвигом края поглощения в сторону малых длин волн в сильно легированном полупроводнике, что объясняется эффектом Бурштейна-Мосса.
20. Как изменяются свойства твердого раствора GaAs - InAs при изменении состава?
Ответ: параметр решетки и плотность увеличиваются с увеличением содержания InAs по закону аддитивности, ширина запрещенной зоны уменьшается , зависимость нелинейная, но отклонение от линейности невелико.