- •Саратовский государственный технический университет материалы и элементы электронной техники
- •Саратов 2008 введение
- •Содержание дисциплины
- •Раздел 1. Основные процессы в проводниковых материалах
- •Металлы и сплавы различного технического назначения
- •Сверхпроводимость и сверхпроводящие материалы
- •Раздел 2. Физические процессы в полупроводниках
- •Кремний и германий
- •Полупроводниковые химические соединения и твердые растворы на их основе
- •Раздел 3. Физические процессы в диэлектриках
- •Электроизоляционные и конденсаторные материалы
- •Активные диэлектрики
- •Раздел 4 . Основные сведения из теории магнетизма
- •Магнитные материалы
- •Методические указания
- •Раздел 1. Основные физические процессы в проводниковых материалах
- •Раздел 2. Физические процессы в полупроводниках
- •Раздел 3. Физические процессы в диэлектриках
- •Раздел 4. Магнитные материалы
- •Лабораторная работа 2. Исследование методов получения полупроводниковых материалов высокой чистоты
- •Лабораторная работа 3. Изучение свойств материалов при сварке в твердом состоянии
- •Лабораторная работа 4. Исследование напряжений и методов их экспериментального определения в металлических и металлокерамических соединениях
- •Литература
- •Материалы и элементы электронной техники
Лабораторная работа 2. Исследование методов получения полупроводниковых материалов высокой чистоты
Контрольные вопросы
Что такое коэффициент распределения? Понятие равновесного и эффективного коэффициентов распределения.
Сущность метода направленной кристаллизации. Применение метода направленной кристаллизации.
Сущность метода зонной плавки. Применение метода зонной плавки.
Сравнительная характеристика методов очистки.
Особенности очистки германия и кремния.
Литература
Иглицина М.И. Технология полупроводниковых материалов: учеб. пособие / М.И. Иглицина. М.: Оборонгиз 1961. 313 с.
Коновалов О.М. Полупроводниковые материалы / О.М. Коновалов. Харьков: Харьк. ун-та, 1963. 212 с.
Лабораторная работа 3. Изучение свойств материалов при сварке в твердом состоянии
Контрольные вопросы
Что такое диффузионная сварка (ДС) и каковы ее особенности?
Какие достоинства и недостатки имеет ДС по сравнению с другими видами сварки и пайкой?
Какие физические основы лежат в основе ДС?
Как производится выбор режимов ДС?
Литература
Конюшков Г.В. Диффузионная сварка в электронике / Г.В. Конюшков, Ю.Н. Копылов. М.: Энергия, 1975. 168 с.
Лабораторная работа 4. Исследование напряжений и методов их экспериментального определения в металлических и металлокерамических соединениях
Контрольные вопросы
Что такое внутренние напряжения? Опишите виды напряженного состояния. Каковы причины возникновения остаточных напряжений в деталях различного типа (многослойных, монолитных)?
В чем заключается явление релаксации внутренних напряжений (ВН)?
Дайте характеристику методов измерения ВН.
Литература
Сопротивление материалов: учебник для вузов / Г.С. Писаренко, В.А. Агарев, А.Л. Квитка и др. Киев: Вища школа, 1986. 775 с.
Конюшков Г.В. Диффузионная сварка в электронике / Г.В. Конюшков, Ю.Н. Копылов. М.: Энергия, 1975. 168 с.
Литература
Пасынков В.В. Материалы электронной техники / В.В. Пасынков, B.C. Сорокин. М.: Высшая школа, 1986. 368 с.
Богородитский Н.П. Электротехнические материалы / Н.П. Богородитский, В.В.Пасынков, Б.М. Тареев. Л.: Энергия, 1985. 304 с.
Корицкий Ю.В. Справочник по электротехническим материалам / Ю.В. Корицкий. М.: Энергия. Т.1. 1986. 368 с.
Керамика и ее спаи с металлами в технике / В.А. Преснова, М.Л. Любимов, В.В. Строгонова и др. М.: Атомиздат, 1969. 232 с.
Курносов А.И. Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем / А.И. Курносов, В.В. Юдин. М.: Высшая школа, 1986. 368 с.
Закиров Ф.Г. Откачник вакуумщик / Ф.Г. Закиров, Е.Н. Николаев. М.: Высшая школа, 1977. 253 с., ил.
Курносов А.И. Материалы для полупроводниковых приборов и интегральных микросхем / А.И. Курносов. М.: Высшая школа, 1980. 327 с.
ПРИЛОЖЕНИЕ А
|
Рис. 1. Пример сборки металлокерамического узла для торцевой пайки
Рис. 2. Пример сборки металлокерамического узла на конической посадке для пайки
а |
в |
б |
г |
д |
Рис. 3. Металлокерамические изоляторы в корпусах ПП:
а, б – патронных; в, г – таблеточных; д – с винтом
а
|
б |
Рис. 4. Конструкции корпусов транзисторов:
1 – кристаллодержатель; 2 – проходной изолятор; 3 – крышка; 4 – выводы
а |
б |
Рис. 5. Конструкции корпусов туннельных диодов: 1 – кристаллодержатель;
2 – верхний фланец; 3 – керамическая втулка; 4 – крышка
а
б |
Рис. 6. Схемы фланцевых соединений с металлическими уплотнениями
а |
б |
Рис. 7. Схемы бесфланцевых грибковых соединений
с резиновыми уплотнителями: а – неразборное; б – разборное