
- •3.1. Процессы диффузионного легирования
- •3.2. Уравнение диффузии
- •3.2.1. Диффузия из одной полуограниченной области в другую
- •3.3. Факторы, влияющие на величину коэффициента дмффузии
- •3.3. Моделирование процессов диффузии в твердом теле
- •3.3.1. Диффузия из одной полуограниченной области в другую
- •Количество примеси, введенной из источника неограниченной мощности
- •3.3.2. Диффузия из слоя конечной толщины
- •3.3.3. Диффузия из бесконечно тонкого слоя (точечный источник)
- •3.4. Отражающая и поглощающая границы
- •3.5 Двух- и трехмерные точечные источники
- •3.6 Формула Пуассона
Количество примеси, введенной из источника неограниченной мощности
Как уже отмечалось
ранее, источник неограниченной мощности
чаще всего используется на стадии
“загонки” примеси. Для вычисления
количества примеси в этом случае
достаточно проинтегрировать (3.24) по
всему пространству
.
Формальное
вычисление этого интеграла оказывается
достаточно длительным. Проще сначала
вычислить зависящую от времени величину
потока примеси через поверхность
,
и затем проинтегрировать по всему
времени “загонки”.
Исходя из (3.4) и (3.5):
;
(3.25)
Соответственно,
(3.26)
После интегрирования абсолютной величины потока примеси по t получим:
(3.27)
3.3.2. Диффузия из слоя конечной толщины
Много важных для практики решений уравнения диффузии могут быть получены с использованием принципа суперпозиции решений линейного уравнения диффузии с линейными же начальными условиями.
Допустим, в толще бесконечно толстой пластины расположен однородно легированный слой толщиной 2h с концентрацией примеси No (рис.3.4).
Примем,
что x=0
находится в середине этого слоя. Такой
профиль распределения примеси может
быть представлен в виде суперпозиции
двух профилей, для одного из которых
для всех
,
и не содержащем примеси во всей остальной
области. Для второго профиля условие
выполняется в области
,
а остальная область также не легирована.
Обе области, таким образом, относятся
к уже рассмотренному случаю диффузии
примеси из одной полуограниченной
области в другую.
Решения для них записываются в виде:
и
(3.28)
Рис. 3.4
Исходный профиль по принципу суперпозиции получается как разность N1–N2, т.е.
(3.28)
Заметим,
что
3.3.3. Диффузия из бесконечно тонкого слоя (точечный источник)
От (3.28) легко перейти к случаю диффузии из бесконечно тонкого слоя (из точечного источника). Запишем erfc-функции в виде определяющих их интегралов:
(3.29)
При
интеграл стремится к
и если
принять, что
,
а
выражение для N(x,t)
примет вид:
.(3.29)
совпадающий с (3.10б) – Гауссово распределение примеси (рис. 3.5).
Рис. 3.5
Понятие тонкого и толстого слоя.
Если h>4L – слой толстый, если h<L/4 – слой тонкий, вычисления по (3.27) будут численно совпадать с получаемыми по формуле (3.29). Это будет случай тонкого слоя.
3.4. Отражающая и поглощающая границы
Отражающая граница – это граница, поток примеси через которую равен нулю (SiO2). В этом случае примесь диффундирует только в одну сторону и поэтому количество примеси в каждой точке должно быть в 2 раза большим, т.е. решение должно записывать в форме:
. (3.30)
Это решение описывает случай, когда примесь диффундирует в полупространство из находящегося на его поверхности однородно легированного слоя толщиной h.
Связывающая граница. Концентрация примеси на такой границе поддерживается равной нулю (например, за счет бесконечно быстрого испарения примеси с поверхности). Если первоначально примесь была однородно распределена по полупространству, то непосредственно на поверхности она станет мгновенно равной нулю и далее вблизи от связывающей границы со временем начнет уменьшаться (рис.3.6).
|
Рис. 3.6. Распределение примеси при диффузии вблизи от связывающей границы |
Решение имеет вид:
(3.31)
Следует отметить, что реально не существует идеально связывающих границ, так как, например, испарение примеси с поверхности идет приблизительно со скоростью, пропорциональной концентрации примеси в бесконечно тонком приповерхностном слое.