
- •Лабораторная работа 1 температурная зависимость проводимости полупроводниковых материалов
- •1.1 Основные понятия и определения
- •1.2. Описание образцов, использованных в работе
- •1.3. Описание установки
- •1.4. Проведение испытаний
- •1.5. Обработка результатов.
- •1.6. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 2 исследование полупроводниковых выпрямительных диодов
- •2.1. Основные понятия и определения
- •2.2. Описание установки
- •2.3. Проведение исследований
- •2.3.1. Исследование прямой ветви вольт-амперной характеристики
- •2.3.2. Исследование обратной ветви вольт-амперной характеристики
- •2.3.3. Исследование частотных свойств выпрямительного диода
- •2.3.4 Исследование вольт-амперной характеристики диодов при повышенной температуре
- •2.4. Обработка результатов
- •2.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 3 исследование статических характеристик и параметров биполярного транзистора
- •3.1. Основные понятия и определения
- •3.2. Исследование статических характеристик биполярного транзистора методом характериографа
- •3.2.1. Описание установки
- •3.2.2. Исследование статических характеристик транзистора
- •3.2.3. Исследование статических коэффициентов передачи тока транзистора
- •3.2.4. Измерение обратного тока коллектора
- •3.2.5. Исследование пробивного напряжения транзистора
- •3.3. Обработка результатов и расчет параметров
- •3.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 4 исследование статических характеристик и параметров полевых транзисторов
- •4.1. Основные понятия и определения
- •4.2. Описание установки
- •4.3. Проведение измерений
- •4.4. Обработка результатов и расчет параметров
- •4.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 5 исследование биполярного транзистора при работе на малом переменном сигнале
- •5.1. Основные понятия и определения
- •5.2. Описание установки
- •5.3. Проведение испытаний
- •5.3.1. Исследование h-параметров транзистора в схеме с общей базой
- •5.3.2. Исследование h-параметров транзистора в схеме с общим эмиттером
- •5.3.3. Исследование частотных зависимостей коэффициентов передачи токов эмиттера и базы
- •5.4. Обработка результатов
- •5.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 6 исследование импульсных свойств биполярного транзистора
- •6.1. Основные понятия и определения
- •6.2. Схема установки
- •6.3. Проведение испытаний
- •6.3.1. Подготовка к испытаниям
- •6.3.2. Исследование зависимости времени нарастания и времени рассасывания от напряжения источника питания в цепи коллектора
- •6.3.3. Исследование зависимости времени нарастания и времени рассасывания от амплитуды импульса тока эмиттера
- •6.4. Обработка результатов
- •6.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 7 исследование интегральных микросхем
- •7.1. Основные понятия и определения
- •7.2. Описание установки
- •7.3. Проведение испытаний
- •7.3.1. Определение логических операций, выполняемых полупроводниковой микросхемой
- •7.3.2. Исследование входной и прямой передаточной характеристик логической полупроводниковой микросхемы
- •7.3.3. Определение мощности, потребляемой логической полупроводниковой микросхемой
- •7.3.4. Изучение конструкции гибридной имс
- •7.4. Обработка результатов и расчет параметров
- •7.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 8 исследование полупроводниковых источников излучения
- •8.1. Основные понятия и определения
- •8.2. Описание установки
- •8.3 Проведение измерений
- •8.3.1. Исследование спектральных характеристик сид
- •8.3.2. Исследование яркостных и вольт-амперных характеристик сид
- •8.3.3. Исследование яркостной характеристики ил
- •8.3.4. Исследование спектральных характеристики ил
- •8.4. Обработка результатов
- •9.1. Основные понятия и определения
- •9.2. Описание установки
- •9.3. Проведение испытаний
- •9.3.1. Исследование спектральной характеристики фд
- •9.3.2. Исследование световых характеристик фд
- •9.4. Обработка результатов
- •9.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 10 исследование полупроводниковых стабилитронов и стабистора
- •10.1. Основные понятия и определения
- •10.2. Установка для исследований
- •10.3. Порядок проведения исследований
- •10.3.1. Исследование вах стабилитрона
- •10.3.2. Исследование параметров стабилитронов
- •10.3.3. Исследование параметрического стабилизатора напряжения
- •10.4. Обработка экспериментальных результатов и расчет параметров
- •10.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 11 исследование тиристора
- •11.1. Основные понятия и определения
- •11.2. Описание установки
- •11.3. Проведение исследований
- •11.3.1. Исследование вольт-амперной характеристики тиристора
- •11.3.2. Измерение параметров тиристора
- •11.3.3. Исследование зависимости напряжения включения тиристора от тока управляющего электрода
- •11.3.4. Исследование параметров тиристора при повышенной температуре
- •11.3.5. Исследование регулятора мощности
- •11.4. Обработка результатов
- •11.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 12 исследование туннельных диодов
- •12.1. Основные понятия и определения
- •12.2. Описание установок для проведения исследований
- •12.2.1. Схема для исследования вольт-амперной характеристики тд
- •12.2.2. Схема для изучения эффекта дискретно-аналоговой памяти
- •12.2.3. Схема для исследования эффектов усиления и генерации электрических сигналов
- •12.3. Порядок проведения исследований
- •12.3.1. Исследование вольт-амперной характеристики
- •12.3.2. Исследование функции дискретно-аналоговой памяти
- •12.3.3. Изучение эффекта усиления
- •12.3.4. Изучение эффекта генерации
- •12.4. Обработка результатов
- •12.5. Контрольные вопросы
- •Список рекомендованной литературы
- •Содержание
8.2. Описание установки
Схема установки для исследования характеристик СИД и ИЛ представлена на рис. 8.1. Ток через эти приборы, поочередно подключаемые к схеме переключателем S1, регулируют резистором R1 и измеряют миллиамперметром РА. Резистор R2 большого сопротивления обеспечивает режим источника тока. Падение напряжения на СИД можно измерить вольтметром, который необходимо подключить к клеммам PU на передней панели стенда.
|
Рис. 8.1. Схема для исследования характеристик СИД и ИЛ |
Световое излучение от исследуемого прибора через спектрофотометр СФ попадает на фоторезистор R3. При изменении сопротивления фоторезистора изменяется ток в его цепи, измеряемый микроамперметром, показания которого (в условных единицах) пропорциональны силе монохроматического света с длиной волны, соответствующей положению барабана СФ.
8.3 Проведение измерений
8.3.1. Исследование спектральных характеристик сид
Включить тумблеры "Сеть" спектрофотометра и вольтметра PU. Подключить к схеме первый СИД. Для этого переключатель S1, а также каретку, находящуюся с правой стороны СФ, следует перевести в положение 1. Должен загореться индикатор 1. Резистором R1 увеличить ток, протекающий через СИД, до максимального значения. Установить ширину щели 2 мм (регулятор "Щель" на лицевой панели спектрофотометра). Вращая ручку в левой нижней части установки, изменить длину волны проходящего через спектрофотометр излучения таким образом, чтобы показания микроамперметра PJф были максимальны. Если микроамперметр PJф зашкалит, следует уменьшить ширину щели. Отметить полученные длину волны и ширину щели. Исследовать зависимость Jф от , регулируя длину волны от 450 до 950 нм через 50 нм, а в области излучения СИД – через 5 нм. Результаты занести в табл. 8.1.
Таблица 8.1
Номер светоизлучающего диода |
||||||||
1 |
2 |
3 |
||||||
, нм |
Jф, у. е. |
|
, нм |
Jф, у. е. |
|
, нм |
Jф, у. е. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
По такому же алгоритму исследовать спектральные характеристики светодиодов 2 и 3, не забыв переключить и каретку, и тумблер S1.
8.3.2. Исследование яркостных и вольт-амперных характеристик сид
Включить первый СИД. Установить длину волны, соответствующую максимуму спектральной характеристики, и ширину щели, полученные в 8.3.1. Резистором R1 изменять ток, протекающий через СИД, от 0 до максимального значения через 1 мА. При каждом значении тока регистрировать показания микроамперметра PJф, пропорциональные интенсивности излучения Jф, а также с помощью вольтметра, подключенного к гнездам РU стенда, определять напряжение на светоизлучающем диоде. Результаты измерений записать в табл. 8.2.
Таблица 8.2
I, мА |
Номер полупроводникового излучателя |
||||||
1 |
2 |
3 |
4 |
||||
Jф, у. е. |
U, В |
Jф, у. е. |
U, В |
Jф, у. е. |
U, В |
Jф, у. е. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Аналогично исследовать характеристики светодиодов 2 и 3.