- •В.Н. Горбунова
- •Дубна, 2010
- •Введение
- •Содержание и оформление курсового проекта Задание на курсовой проект
- •Варианты заданий
- •Содержание расчетно-пояснительной записки.
- •Теоретические основы выполнения курсового проекта.
- •Диффузионное легирование
- •Законы диффузии
- •Диффузия из постоянного и ограниченного источников.
- •Методы расчетов диффузионных структур
- •Формирование структур методом ионной имплантации
- •Понятие о технологии ионного легирования
- •. Длина пробега ионов
- •Факторы, влияющие на процесс ионного легирования
- •Рабочая камера установки ионной имплантации.
- •Пример выполнения курсового проекта Введение
- •Исходные данные
- •Профиль распределения концентрации примесей в отдельных областях структуры
- •Глубины залегания коллекторного и эмиттерного переходов
- •График зависимости предельной растворимости примесей в кремнии.
- •Максимальная растворимость некоторых примесей в кремнии.
- •Расчет технологических параметров для метода диффузии
- •Часть вторая Метод ионной имплантации
- •Расчет профилей распределения концентрации внедренных примесей в структурах с двойной имплантацией
- •Расчет технологических параметров для метода ионной имплантации
- •Заключение
- •Список используемой литературы
- •Контрольные вопросы и задания
- •Задачи к защите курсового проекта
- •Список литературы
- •В.Н.Горбунова Физико-химические основы технологии рэсрэс
- •117105, Москва, варшавское шоссе, 8
Список литературы
Основная литература:
1. Томилин В.И. Физико–химические основы технологии электронных средств. М.:Академия, 2010.-410с.
2. Барыбин А.А., Сидоров В.Г. Физико-технологические основы электроники. – СПб.: Изд-во «Лань», 2001. – 272с.
3. Гаврилов С.А., Белов А.Н. Электрохимические процессы в технологии микро-и наноэлектроники.- М.: Высшее образование, 2009. – 257с.
Дополнительная литература:
4. Берлин Е.В. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии / Берлин Евгений Владимирович, Сейдман Лев Александрович. - М.: Техносфера, 2010. - 528с.: ил. - (Мир материалов и технологий). - Лит. - ISBN 978-5-94836-222-9.
5. Ефремов А.М. и др. Кинетика и механизмы плазмохимического травления меди в хлоре и хлороводороде //Микроэлектроника – 2007. – том36, №6 – С.409-417.
6. Ролдугин В.И. Физикохимия поверхности : Учебник-монография / Ролдугин Вячеслав Иванович. - Долгопрудный: Интеллект, 2008. - 568с.: ил. - Список лит.-Прил.:с.555. - ISBN 978-5-91559-008-2.
Дополнительные ресурсы:
7. http://www.exponenta.ru/educat/systemat/nikonenko/main.asp
8. http://window.edu.ru/window_catalog/files/r26411/1407.pdf
Учебное методическое пособие
В.Н.Горбунова Физико-химические основы технологии рэсрэс
Издано в авторской редакции
Подписано в печать ___.__.__ Формат 60х90/16.
Усл. печ. л. ____ Тираж 50 экз. заказ №___
Отпечатано в ФГУП ГНЦ РФ – ВНИИгеосистем
117105, Москва, варшавское шоссе, 8
Тел. 952-21-57. E-mail: artur@geosys.ru