- •Лекція 1
- •Лекція 2
- •Лекція 3
- •Лекція 4
- •Лекція 5
- •Лекція 6
- •Лекція 7
- •Лекція 8
- •Лекція 9
- •Лекція 10
- •Лекція11.
- •Джерело живлення
- •Лекція 12
- •Багатокаскадні підсилювачі
- •Лекція 13
- •Лекція 14
- •Лекція 15
- •Лекція 16
- •Лекція 17
- •Лекція 18
- •Лекція 19
- •Лекція 20
- •Лекція 21
- •Лекція 22 Тема: Імпульсні генератори
- •Лекція 23
- •Лекція 24
- •Лекція 25
Лекція 3
Тема: Фізичні основи утворення електронно - діркового переходу (р-n переходу).
1. Формування контакту “напівпровідник - напівпровідник”. Фізичні процеси утворення р-n переходу.
2. Робота р-n переходу при прямій напрузі, його вольт-амперна характеристика.
1. Принцип дії напівпровідникових приладів в багатьох випадках визначається з’єднанням або контактом між напівпровідником та металом, напівпровідником та діелектриком, напівпровідником та напівпровідником. У останньому випадку виникає електронно - дірковий перехід (р-n перехід).
Р-n перехід – область, яка виникає на межі з’єднання двох домішкових напівпровідників з різними типами провідності (рисунок 3.1).
Рисунок 3.1 – Схема створення р-n переходу.
У напівпровідниках р-типу основні носії заряду – дірки; у напівпровідниках n-типу – електрони. При з’єднанні таких напівпровідників проходить дифузія носіїв заряду з однієї області в іншу.
Внаслідок дифузії в області р на межі з’єднання виникає об’ємний негативний заряд; в області n на межі з’єднання виникає об’ємний позитивний заряд. Різниця потенціалів між об’ємними зарядами називається потенціальним бар’єром. Його виникнення перешкоджає подальшій дифузії основних носіїв заряду з однієї області в іншу.
Таким чином, р-n перехід може буди охарактеризований наступними параметрами:
- величиною потенціального бар’єру;
- шириною (товщиною) області, в межах якої проходить дифузія.
2. Величина потенціального бар’єру може змінюватися у тому випадку, якщо до р-n переходу підключається зовнішнє джерело напруги (рисунок 3.2).
— +
Uпр
Рисунок 3.2 – Робота р-n переходу при прямому включенні.
При включенні джерела напруги відповідно рисунку 3.2 заряди цього джерела частково або повністю компенсують об’ємні заряди у р-n переході. Це призводить до того, що потенціальний бар’єр спочатку знижується, а потім зовсім зникає. В останньому випадку основні носії зарядів можуть вільно переміщуватись з однієї області в іншу, тобто електрони переміщуються з області n в область р, дірки – з області р в область n.
Крізь напівпровідникову структуру та р-n перехід тече струм. У цьому випадку р-n перехід включено у прямому напрямку. Струм, що тече крізь р-n перехід, називається прямим.
Залежність між прямою напругою та прямим струмом р-n переходу відображається на вольт-амперній характеристиці (рисунок 3.3).
Іпр 2
1
0 Uпр
Рисунок 3.3 – Вольт-амперна характеристика р-n переходу при прямому включенні.
На вольт-амперній характеристиці (рисунок 3.3) є дві ділянки:
– це ділянка, на якій відсутня пряма пропорційність між напругою та струмом. Це пояснюється тим, що при невеликих значеннях прямої напруги об’ємний заряд р-n переходу повністю не скомпенсовано.
– на цій ділянці існує пряма пропорційність між напругою та струмом. Це пояснюється тим, що у цьому випадку, тобто на цій ділянці, об’ємний заряд р-n переходу весь скомпенсований.