- •1 Собственная электропроводность.
- •2. Примесные полупроводники. Полупроводники p,n типа.
- •6. Прямое включение p-n перехода.
- •7. Обратное включение p-n перехода.
- •8. Вольт-амперная характеристика p-n перехода. Идеальная и реальная вах p-n перехода.
- •9. Ёмкости p-n перехода. Диффузионная ёмкость. Барьерная ёмкость.
- •11.Контакт металл-полупроводник, выпрямляющий и невыпрямляющий.
- •12 Выпрямительные диоды
- •13. Соединение вентилей.
- •14. Импульсные диоды
- •15. Стабилитрон.
- •16. Варикап.
- •17. Диоды Шоттки
- •19 18. Туннельные и обращенные диоды. Принцип действия, параметры и характеристики.
- •Обращенные диоды
- •21. Устройство биполярного транзистора.
- •22. Принцип действия транзистора в активном режиме
- •23. Токи в транзисторе
- •25. Схема включения транзистора с общей базой, основные параметры.
- •26.Статические характеристики транзистора с общей базой.Особенности схемы с общей базой. Достоинства и недостатки.
- •29.30.Статистические х-ки транзистора с оэ. Схема включения транзистора с общим эмиттером, основные параметры.
- •31. Схема включения транзистора с общим коллектором, основные параметры.
- •33 32. Основные параметры биполярных транзисторов.
- •35. Модель Эберса- Мола
- •36. Зависимость коэффициента передачи тока от частоты в схеме с общей базой [α(ω)].
- •36. Зависимость коэффициента передачи тока от частоты в схеме с общим эмиттером [β(ω)].
- •37. Дрейфовый транзистор
- •38. Полевой транзистор с р-n переходом.
- •39. Основные характеристики полевых транзисторов
- •40. Основные параметры полевых транзисторов
- •42. Полевой тр-р с изолированным затвором с встроенным каналом.
- •43. Полевой тр-р с изолированным затвором с индуцированным каналом.
- •45, Динистор.
- •48. Однопереходный транзистор.
- •49. Световод инжекционный
- •50. Светодиоды. Устройство и принцип действия.
- •51. Фотоприемники. Фоторезисторы.
- •52. Фототранзистор, фототиристор
- •53. Оптроны. Конструкция и принцип действия. Разновидности и сравнительная характеристика.
- •54. Интегральные микросхемы. Принцип построения. Технологические приемы реализации. Применение.
- •56. Фотолитография. Металлизация.
- •57. Гибридные микросхемы. Принцип построения. Технологические приемы реализации. Применение.
- •59. Способы изоляции м/у компонентами имс и их особенности.
- •60. Интегральные транзистор, диод, резистор, конденсатор
- •61. Совмещенные ис
- •64.Приборы с зарядовой связью.
- •66. Цифровые ис. Основные параметры.
- •63. Транзисторы с инжекционным питанием.
35. Модель Эберса- Мола
Суть состоит в том, что транзистор представляется 2-мя взаимно инжектирующими диодами (эмиттерный ЭД и коллекторный ЭД) или точнее, как совокупность 2-х транзисторов, работающих в нормальном и инверсном активных режимах.
Токи:
Где и- обратные токи насыщения соответственно ЭП и КП при кз второго прехода- напряжение на ЭП и КП
- температурные потенциалы ЭП и КП
Обобщенный режим – режим насыщения. Х-ся инжекцией как эмиттерного, так и коллекторного перехода. Для моделирования инверсного и обобщенного режимов, в инверсном направлении включается 2-ой источник тока с коэффициентом передачи , т.е. в целом источник тока -. Направление тока совпадает с направлением. Полученная эквивалентная схема является статической в режиме боьшого сигнала.Для отражения динамических св-в схема дополняется емкостями переходов Сэ и Ск, к-ые являются сумой диффузионных и барьерных емкостей. На высоких частотах необходимо учитывать частотные зависимости коэф-тов передачи по току, а в первую очередь - .
Параметрами моделью явл-ся: IЭО, IКО,
Описанная модель явл-ся инжекционной моделью Эберса – Мола (построен на принципе взаимной инжекции) и справедлива для всех режимов работы транзистора.
36. Зависимость коэффициента передачи тока от частоты в схеме с общей базой [α(ω)].
При анализе временных процессов в биполярном транзисторе необходимо решать уравнение нестационарное уравнение непрерывности, описывающее изменение концентрации носителей заряда со временем. В сделанных нами допущениях это уравнение сведется к диффузионному:
(4_104)
При этом граничные условия так же будут зависеть от времени для u(t)<<U(t):
(4_105)
Будем считать, помимо постоянного смещения к переходу приложено малое синусоидальное напряжение u = U0eiωt и соответственно будем искать решение (4_104) в виде Δp = Δp0eiωt. Подставив ∂Δp/∂t и Δp в уравнение (4_104) получим:
(4_106)
Обозначим 1/(1+ωτp) как Λ2p, диффузионную длину зависящую от частоты, тогда уравнение (4_106) примет такой же вид как решенное нами ранее для транзистора стационарное уравнение:
(4_107)
Формальное соответствие (4_107) и решенного нами ранее для биполярного транзистора стационарного уравнения позволяет нам воспользоваться результатами решения для нахождения частотной зависимости параметров, заменив в решении L2p на L2p/(1+iωτp)1/2. Для частотной зависимости коэффициента переноса заряда через базу, который отражает инерционность дрейфа получим:
(4_108)
Пренебрегая частотной зависимостью γ и считая, что (1-α0) ~ (1-κ0) получим уравнение для частотной зависимости коэффициента передачи тока в схеме с общей базой:
(4_109)
где τα = (1-κ0) τp ~(1-α0) τp. Введем характеристическую частоту ωα = 1/ τα. Тогда:
(4_110)
Через θ обозначен угол, характеризующий запаздывание выходного сигнала относительно входного. Как видно из (4_110) ωα соответствует частоте, на которой амплитуда выходного тока по отношению к входному снижается в √2 раз, эту частоту часто называют предельной частотой усиления транзистора по току.
Оценим как τα и соответственно ωα зависят от параметров базы транзистора:
(4_111)
Соответственно:
(4_112)
Таким образом из полученные формулы еще раз подтверждают решающее влияние толщины базы на частотные характеристики транзистора. Так, например создание технологии уменьшающей толщину базы в два раза, должно привести к увеличению предельной частоты в четыре раза.