
- •1 Собственная электропроводность.
- •2. Примесные полупроводники. Полупроводники p,n типа.
- •6. Прямое включение p-n перехода.
- •7. Обратное включение p-n перехода.
- •8. Вольт-амперная характеристика p-n перехода. Идеальная и реальная вах p-n перехода.
- •9. Ёмкости p-n перехода. Диффузионная ёмкость. Барьерная ёмкость.
- •11.Контакт металл-полупроводник, выпрямляющий и невыпрямляющий.
- •12 Выпрямительные диоды
- •13. Соединение вентилей.
- •14. Импульсные диоды
- •15. Стабилитрон.
- •16. Варикап.
- •17. Диоды Шоттки
- •19 18. Туннельные и обращенные диоды. Принцип действия, параметры и характеристики.
- •Обращенные диоды
- •21. Устройство биполярного транзистора.
- •22. Принцип действия транзистора в активном режиме
- •23. Токи в транзисторе
- •25. Схема включения транзистора с общей базой, основные параметры.
- •26.Статические характеристики транзистора с общей базой.Особенности схемы с общей базой. Достоинства и недостатки.
- •29.30.Статистические х-ки транзистора с оэ. Схема включения транзистора с общим эмиттером, основные параметры.
- •31. Схема включения транзистора с общим коллектором, основные параметры.
- •33 32. Основные параметры биполярных транзисторов.
- •35. Модель Эберса- Мола
- •36. Зависимость коэффициента передачи тока от частоты в схеме с общей базой [α(ω)].
- •36. Зависимость коэффициента передачи тока от частоты в схеме с общим эмиттером [β(ω)].
- •37. Дрейфовый транзистор
- •38. Полевой транзистор с р-n переходом.
- •39. Основные характеристики полевых транзисторов
- •40. Основные параметры полевых транзисторов
- •42. Полевой тр-р с изолированным затвором с встроенным каналом.
- •43. Полевой тр-р с изолированным затвором с индуцированным каналом.
- •45, Динистор.
- •48. Однопереходный транзистор.
- •49. Световод инжекционный
- •50. Светодиоды. Устройство и принцип действия.
- •51. Фотоприемники. Фоторезисторы.
- •52. Фототранзистор, фототиристор
- •53. Оптроны. Конструкция и принцип действия. Разновидности и сравнительная характеристика.
- •54. Интегральные микросхемы. Принцип построения. Технологические приемы реализации. Применение.
- •56. Фотолитография. Металлизация.
- •57. Гибридные микросхемы. Принцип построения. Технологические приемы реализации. Применение.
- •59. Способы изоляции м/у компонентами имс и их особенности.
- •60. Интегральные транзистор, диод, резистор, конденсатор
- •61. Совмещенные ис
- •64.Приборы с зарядовой связью.
- •66. Цифровые ис. Основные параметры.
- •63. Транзисторы с инжекционным питанием.
35. Модель Эберса- Мола
Суть состоит в том, что транзистор представляется 2-мя взаимно инжектирующими диодами (эмиттерный ЭД и коллекторный ЭД) или точнее, как совокупность 2-х транзисторов, работающих в нормальном и инверсном активных режимах.
Токи:
Где
и
- обратные токи насыщения соответственно
ЭП и КП при кз второго прехода
-
напряжение на ЭП и КП
-
температурные потенциалы ЭП и КП
Обобщенный
режим – режим насыщения. Х-ся инжекцией
как эмиттерного, так и коллекторного
перехода. Для моделирования инверсного
и обобщенного режимов, в инверсном
направлении включается 2-ой источник
тока с коэффициентом передачи
,
т.е. в целом источник тока -
.
Направление тока совпадает с направлением
.
Полученная эквивалентная схема является
статической в режиме боьшого сигнала.Для
отражения динамических св-в схема
дополняется емкостями переходов Сэ
и Ск,
к-ые являются сумой диффузионных и
барьерных емкостей. На высоких частотах
необходимо учитывать частотные
зависимости коэф-тов передачи по току,
а в первую очередь -
.
Параметрами
моделью явл-ся: IЭО,
IКО,
Описанная модель явл-ся инжекционной моделью Эберса – Мола (построен на принципе взаимной инжекции) и справедлива для всех режимов работы транзистора.
36. Зависимость коэффициента передачи тока от частоты в схеме с общей базой [α(ω)].
При
анализе временных процессов в биполярном
транзисторе необходимо решать уравнение
нестационарное уравнение непрерывности,
описывающее изменение концентрации
носителей заряда со временем. В сделанных
нами допущениях это уравнение сведется
к диффузионному:
(4_104)
При
этом граничные условия так же будут
зависеть от времени для u(t)<<U(t):
(4_105)
Будем
считать, помимо постоянного смещения
к переходу приложено малое синусоидальное
напряжение u = U0eiωt
и соответственно
будем искать решение (4_104) в виде Δp =
Δp0eiωt.
Подставив ∂Δp/∂t и Δp в уравнение (4_104)
получим:
(4_106)
Обозначим
1/(1+ωτp)
как Λ2p,
диффузионную длину зависящую от частоты,
тогда уравнение (4_106) примет такой же
вид как решенное нами ранее для транзистора
стационарное уравнение:
(4_107)
Формальное
соответствие (4_107) и решенного нами ранее
для биполярного транзистора стационарного
уравнения позволяет нам воспользоваться
результатами решения для нахождения
частотной зависимости параметров,
заменив в решении L2p
на L2p/(1+iωτp)1/2.
Для частотной зависимости коэффициента
переноса заряда через базу, который
отражает инерционность дрейфа получим:
(4_108)
Пренебрегая
частотной зависимостью γ и считая, что
(1-α0)
~ (1-κ0)
получим уравнение для частотной
зависимости коэффициента передачи тока
в схеме с общей базой:
(4_109)
где τα = (1-κ0) τp ~(1-α0) τp. Введем характеристическую частоту ωα = 1/ τα. Тогда:
(4_110)
Через
θ обозначен угол, характеризующий
запаздывание выходного сигнала
относительно входного. Как видно из
(4_110) ωα
соответствует частоте, на которой
амплитуда выходного тока по отношению
к входному снижается в √2 раз, эту частоту
часто называют предельной частотой
усиления транзистора по току.
Оценим
как τα
и соответственно ωα
зависят от параметров базы транзистора:
(4_111)
Соответственно:
(4_112)
Таким
образом из полученные формулы еще раз
подтверждают решающее влияние толщины
базы на частотные характеристики
транзистора. Так, например создание
технологии уменьшающей толщину базы в
два раза, должно привести к увеличению
предельной частоты в четыре раза.