Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Курсовые / Курсач 7.doc
Скачиваний:
26
Добавлен:
16.04.2013
Размер:
1.04 Mб
Скачать

Выводы по результатам курсовой работы

В данной курсовой работе произведена разработка логического элемента по упрощению заданной функции. Упрощение было произведено с помощью карты Карно, упрощенная функция приведена к базису И-, ИЛИ-НЕ и имеет вид :

Далее, в соответствии с упрощением, была составлена электрическая схема, включающая заданную квазилинейную нагрузку- общую для группы переключающих транзисторов. Затем произвели аналитический расчет параметров транзисторов схемы и определили геометрические размеры затворов последних.

Геометрические размеры транзисторов Т3, Т4:

L = 3 (мкм).

W = 21 (мкм).

Геометрические размеры транзисторов Т2:

L = 3 (мкм).

W = 11 (мкм).

Геометрические размеры для нагрузочного транзистора Тн:

W = 2 (мкм),

L = 19 (мкм).

Электрическая схема, описанная в PSPICE, обсчитывалась для определения статических и динамических параметров схемы.

U1=8 (B)

U0=0.2 (B)

UП=1.9697 (B)

U=7.77 (B)

U0пз=UП-U0=1.77 (B)

U1пз=U1-UП=6.03 (В)

U1пу= (В)

U0пу= (В)

t01зд=4.12 (нс)

t10зд=0.79 (нс)

tср=1.62 (нс)

tф=110 (нс)

tздср=2.455 (нс)

Логический уровень “0” получился отличным от заданного на 15 %.

По полученным геометрическим размерам построена топология логического элемента и рассказаны основные этапы технологического маршрута изготовления МДП-транзистора с несамосовмещенным алюминиевым затвором, что является главной особенностью данной технологии. Вообще технологический маршрут с Al-затвором включаетчетыре фотолитографии :

  1. Разделительная диффузия.

  2. Формирование областей стока и истока.

  3. Формирование тонкого под затворного окисла.

  4. Формирование защитного окисла и контактных окон.

  5. Металлизация.

Получился логический элемент с длинной 147 мкм, шириной 92.4 мкм и общей площадью 13582.8 мкм2.

- 11-

Соседние файлы в папке Курсовые