- •Методы препарирования образцов
- •1.2. Шлифовка и полировка образцов
- •Тонкая шлифовка ………………………………….. 100–10 Грубая полировка …………………………………. 10–1 Тонкая полировка …………………………………. Менее 1
- •1.3. Металлографическое травление
- •Составы реактивов и режимы травления для выявления макроструктуры
- •3.1. Изучение методик и экспериментального оборудования
- •3.2. Определение площади ячейки окулярной сетки
- •Составы и реактивы для выявления дислокационной структуры
- •Наиболее распространенные составы реактивов для выявления микроструктуры
- •4. Контрольные вопросы
- •5. Список рекомендуемой литературы
4. Контрольные вопросы
Чем отличается краевая и винтовая дислокации?
Объясните с помощью контура Бюргерса, почему дислокационная линия не может оборваться внутри кристалла?
Напряжение скольжения дислокации в металлическом кристалле порядка 10–4G. Оцените, какое расстояние должно быть между дислокациями, чтобы движение одной из дислокаций вызвало бы движение другой.
Как будет выглядеть под микроскопом граница блока при исследовании поверхности кристалла в методе избирательного травления?
Чем обусловлена избирательность травления в местах выхода дислокаций?
Оцените, каким должно быть увеличение микроскопа, чтобы определить плотность дислокаций в пластически деформированном кристалле методом избирательного травления?
5. Список рекомендуемой литературы
Киттель Ч. Ведение в физику твердого тела. М., 1978.
Лахтин Ю.М., Леонтьева В.П. Материаловедение. М., 1990.
Шаскольская М.Н. .Кристаллография. М., 1976.
Травление полупроводников. М., 1964.