Химико-термическая обработка металлов и сплавов. Сборник вопросов и задач к контрольным мероприятиям
.pdf
Вариант 6
1.Опишите и объясните химизм процесса цементации стали в твердом карбюризаторе.
2.Металл А насыщается элементом В до концентрации В на поверхности Сп. Для случаев насыщения при температурах Т1 и Т2 изобразите графически распределение концентрации элемента
Впо глубине слоя х: % В = f(x). Схематично нарисуйте строение слоя при температуре насыщения и после охлаждения до комнатной температуры.
T |
|
|
|
|
|
α |
|
|
L |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
γ |
|
η |
|
Cп |
|
+ |
|
||
α+β |
β+α |
L |
|
|
|
T2 |
γ+η |
|
η |
||
T1 |
|
|
|
|
Cп |
|
|
|
|
|
|
A |
%B |
|
|
|
B |
11
Вариант 7
1. Опишите химизм процесса жидкостного борирования
стали.
2. Металл А насыщается элементом В до концентрации В на поверхности Сп. Для случаев насыщения при температурах Т1 и Т2 изобразите графически распределение концентрации элемента В по глубине слоя х: % В = f(x). Схематично покажите строение слоя при температуре насыщения и после охлаждения до комнатной температуры.
|
Т |
|
|
α |
|
T2 |
Cп |
β |
α+β |
T1 |
|
|
Cп |
A |
|
|
|
|
|
||
|
%B |
||
12
Вариант 8
1.Опишите и объясните химизм процесса газовой цементации в средах на базе эндогаза.
2.Металл А насыщается элементом В до концентрации В на поверхности Сп. Для случаев насыщения при температурах Т1 и Т2 изобразите графически распределение концентрации элемента
Впо глубине слоя х: % В = f(x). Схематично нарисуйте строение слоя при температуре насыщения и после охлаждения до комнатной температуры.
T1 |
Cп |
|
β |
|
ξ+β |
|
|
β |
α |
|
|
β |
||
|
|
+ |
+ |
|
ξ |
|
α |
|
α |
|
|
|
||
|
ξ+α |
|
|
|
|
|
|
|
|
T2 |
|
|
|
Cп |
|
|
|
|
|
А |
→ % B |
|
|
|
|
β |
+ |
|
γ |
|
α+γ
γ
B
13
Вариант 9
1.Опишите и объясните процессы, протекающие в реакторе при азотировании в "тлеющем разряде".
2.Металл А насыщается элементом В до концентрации В на поверхности Сп. Для случаев насыщения при температурах Т1 и Т2 изобразите графически распределение концентрации элемента В по глубине слоя х: %В = f(x). Схематично нарисуйте строение слоя при температуре насыщения и после охлаждения до комнатной температуры.
Т |
Cп |
ε |
|
T2 |
|
||
|
|
|
|
|
|
|
α |
|
γ |
β |
β+α |
|
|
||
|
γ+β |
|
|
|
|
Cп |
|
T1 |
|
|
|
|
|
|
|
А |
→ % B |
|
B |
14
Вариант 10
1.Выбрать и обосновать выбор активатора для процесса цементации способом порошков.
2.Металл А насыщается элементом В до концентрации В на поверхности Сп. Для случаев насыщения при температурах Т1 и Т2 изобразите графически распределение концентрации элемента В по глубине слоя х: % В = f(x). Схематично нарисуйте строение слоя при температуре насыщения и после охлаждения до комнатной температуры.
Т
|
α C |
α+β |
β |
||
T1 |
|
||||
|
|
|
|
||
п |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
T2 |
|
|
|
|
Cп |
|
|
|
|
|
|
A → % B
15
Вариант 11
1.Приведите примеры химических реакций в жидкой фазе
при ХТО.
2.Металл А насыщается элементом В до концентрации В на поверхности Сп. Для случаев насыщения при температурах Т1 и Т2 изобразите графически распределение концентрации элемента
Впо глубине слоя х: % В = f(x). Схематично нарисуйте строение слоя при температуре насыщения и после охлаждения до комнатной температуры.
|
|
L |
|
|
L |
|
|
|
|
|
L |
|
α+ |
L |
|
|
+ |
α |
L |
|
γ |
||
|
|
||||
|
− |
β |
|
||
Cп |
|
|
β |
γ |
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
T1 |
|
γ+β |
|
|
β+γ |
|
|
|
|
|
|
T2 |
|
|
|
Cп |
|
|
|
|
|
|
|
А |
|
→ %B |
|
|
B |
16
Вариант 12
1. Приведите примеры химических реакций в газовой среде при ХТО.
2*. Металл А насыщается элементом В до концентрации В на поверхности Сп. Для случаев насыщения при температурах Т1 и Т2 изобразите графически распределение концентрации элемента В по глубине слоя х: % В = f(x). Схематично нарисуйте строение слоя при температуре насыщения ипосле охлаждения до комнатной температуры.
Т
α
T1 α+βCп β
T2 |
|
|
Cп |
A |
|
|
|
|
|
||
|
% B |
||
17
Вариант 13
1.Опишите механизм действия водородосодержащих активаторов; приведите примеры.
2.Металл А насыщается элементом В до концентрации В на поверхности Сп. Для случаев насыщения при температурах Т1 и Т2 изобразите графически распределение концентрации элемента
Впо глубине слоя х: % В = f(x). Схематично нарисуйте строение слоя при температуре насыщения и после охлаждения до комнатной температуры.
Т
Cп T1 
α β α+β
Cп
T2
A
% B
18
Вариант 14
1. Опишите механизм действия кислородосодержащих активаторов; приведите примеры.
2.* Металл А насыщается элементом В до концентрации В на поверхности Сп. Для случаев насыщения при температурах Т1 и Т2 изобразите графически распределение концентрации элемента В по глубине слоя х: % В = f(x). Схематично нарисуйте строение слоя при температуре насыщения и после охлаждения до комнатной температуры.
|
L+α |
L |
L+β |
|
|
||
|
α |
|
β |
T2 |
Cп |
α+β |
|
Cп |
|
|
|
T1 |
|
|
|
|
|
|
|
|
А |
→ % B |
B |
19
Вариант 15
1.Опишите механизм действия галогеносодержащих активаторов; приведите примеры.
2.Металл А насыщается элементом В до концентрации В на поверхности Сп. Для случаев насыщения при температурах Т1 и Т2 изобразите графически распределение концентрации элемента В по глубине слоя х: % В = f(x). Схематично нарисуйте строение слоя при температуре насыщения и после охлаждения до комнатной температуры.
|
T |
|
|
|
γ |
α+γ |
|
T2 |
Cп |
|
|
|
|
|
|
|
2 |
|
|
|
|
α |
Cп |
T1 |
|
|
|
1 |
|
|
|
|
|
|
|
|
β |
α+β |
|
|
А |
|
→ % B |
20
