Cписок литературы

1. Сушков А.Д. Вакуумная электроника, СПб., Изд-во «Лань», 2004.

2. Силаев С. А., Шануренко А. К. Проектирование мощных электронных приборов с электростатическим управлением: Учеб. пособие / СПбГЭТУ «ЛЭТИ». СПб., 1999.

3. Антонов С.В., Шануренко А.К. Проектирование вакуумных и плазменных приборов и устройств. СПб., СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2004.

4. Рыкалин Н. В., Зуев И. В., Углов А. А. Основы электронно-лучевой обработки материалов. М.: Машиностроение, 1978.

5. Молоковский С. И., Сушков А. Д. Интенсивные электронные и ионные пучки. 2-е изд., перераб. и доп. М.: Энергоатомиздат, 1991.

6. Прилуцкий В. С., Шануренко А. К. Особенности физических процессов в катодах мощных электронных приборов с электростатическим управлением: Учеб. пособие / СПбГЭТУ «ЛЭТИ». СПб., 1998.

7. Прилуцкий В. С. Вольфрамовый торированный карбидированный катод: Монография. М.: Руда и металлы, 2001.

Оглавление

Введение . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 3

1. Системы формирования потоков заряженных частиц

вакуумных и плазменных приборов и устройств . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 3

1.1. Системы формирования электронных потоков

в электронных лампах. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4

1.2. Системы формирования сфокусированных электронных

потоков. . . . . . . . . . . . . . . . . . . .. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 5

1.3. Системы формирования потоков заряженных частиц

в плазменных приборах и устройствах. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 12

2. Обобщенные методы расчета систем формирования потоков

заряженных частиц вакуумных и плазменных приборов и устройств . . . 13

3. Расчет систем формирования электронных потоков

в электронных лампах. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 17

3.1. Расчет катода. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 18

3.1.1. Расчет вольфрамового торированного

карбидированного катода . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 19

3.1.2. Расчет ВТКК решетчатого типа при задании диаметра

нити катода и шага решетки . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .22

3.1.3. Расчет подогревного оксидного катода . . . . . . . . . . . . . . . 23

3.2. Расчет геометрических размеров системы электродов . . . . . . . . . 24

3.2.1. Расчет межэлектродных расстояний. . . . . . . . . . . . . . . . . . 24

3.2.2. Расчет сеточной структуры . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 25

3.2.3. Расчет второй сетки лучевого тетрода . . . . . . . . . . . . . . . . 27

4. Расчет систем формирования слаботочных электронных потоков . . . . . . 30

5. Расчет систем формирования сильноточных (интенсивных)

электронных потоков . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .35

6. Расчет систем формирования потоков заряженных частиц

в плазменных приборах и устройствах. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .41

Список литературы . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 45

Приложение . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 46

Антонов Сергей Владиславович, Синев Александр Евгеньевич,

Шануренко Александр Константинович