Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Агаханян Т.М. Основы транзисторной электроники

.pdf
Скачиваний:
35
Добавлен:
24.10.2023
Размер:
11.39 Mб
Скачать

2. Ток базы в области отсечки отрицателен и практически не зависит от величины входного напряжения. При базовом управле­ нии входной ток в (1 + Вл//Вг) раз больше входного тока транзис­ тора при эмиттерном управлении и приблизительно равен тепло­ вому току коллекторного перехода 1кт- Ток базы начинает умень­

шаться прп переходе в активную область и прп напряжении Ug

от =

=

фт In (1 -f- fWB/) становится

равным

нулю.

 

 

 

 

 

 

Токи эмиттера и базы, конечно, зависят и от напряжения иа

коллекторном переходе UK. Однако с

изменением UK эти токи

 

 

 

 

меняются

заметно лишь вблизи

 

 

 

 

границы

области

отсечки

(при

 

 

 

 

малых значениях UK). При этом

 

 

 

 

ток

эмиттера

 

увеличивается,

 

 

 

 

а ток базы, паоборот, уменьшает­

 

 

 

 

ся. Такой

режим

на

практике

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1Л,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

У

J

'

V

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

_и

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

7

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,8

 

 

 

 

 

 

1

 

 

1

1

 

 

 

 

 

 

 

-6

 

 

 

-2

 

0 "э/?т

 

Рпс. 4-28. Входные

характеристи­

Рпс.

4-29.

Передаточная

ха­

 

ки собственно транзистора в об­

рактеристика транзистора в об­

 

ласти

отсечкп (

для

ласти отсечки

(

 

 

для

 

диффузионного

транзистора;

диффузионного

 

транзистора;

 

 

для

дрейфового

 

 

 

 

 

 

 

для

дрейфо­

 

транзистора).

 

вого

транзистора).

 

 

встречается редко,

и нет особой необходимости

останавливаться

на

нем

подробно.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рассмотрим передаточную характеристику транзистора, опре­

деляемую выражением

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1 +

1 +

Byехр

 

 

 

 

(4-27)

 

 

/ к = / . кТ '

 

 

 

 

Эти характеристики приведены на рис. 4-29 (сплошная кривая — для диффузионного транзистора, штриховая — для дрейфового).

Из анализа передаточной характеристики следует, что выходной ток в области отсечки приблизительно равен тепловому току кол­ лектора.

Рассмотренные характеристики представляют собой характе­ ристики собственно транзистора. Они отличаются от реальных характеристик прежде всего тем, что последние представляют собой

130

зависимости токов от напряжений, приложенных непосредственно между выводами транзистора. Поскольку в области отсечки токи малы, то падения напряжения па объемных сопротивлениях гц, г,; и Гд ничтожны и ими можно пренебречь. Поэтому напряжения, приложенные между соответствующими электродами, и смещения на переходах практически равны друг другу. В данном режиме реальные характеристики отличаются от характеристик собственно транзистора в основном из-за токов утечки, канального тока и тока рекомбинации — генерации.

При работе в области отсечки влияние указанных составляю­ щих обратных токов учитывается сравнительно просто: к току

коллектора,

определяемому выражением (4-27), прибавляют ток

/ и с ; из тока

эмиттера,

определяемого выражением (4-2ба),

вычи­

тают ток /3(з (где /„о и

/Э б — сумма тока утечки, канального

тока

и тока рекомбинации — генерации соответственно для коллектор­ ного и эмиттерного переходов). Соответствующая поправка в вы­ ражении (4-266) для тока базы сводится к уменьшению его значе­ ния на величину суммы токов (/ к С + / э б ) .

Расхождение между реальными характеристиками и харак­ теристиками собственно транзистора, обусловленное наличием балластных токов /К б и / а б , особенно заметно для кремниевых приборов. С повышением температуры это расхождение проявля­ ется в меньшей степени, так как при высокой температуре тепловые токи 1ят и 1кт становятся преобладающими. Поэтому при расчетах схем, работающих в широком диапазоне изменения температуры, учитывается в основном изменение тепловых токов.

Инверсная активная область

В инверсной активной области эмиттерный переход смещен в обратном направлении, а коллекторный — в прямом. Соответст­ вующие неравенства, определяющие пределы изменений напря­

жений и плотностей заряда для этой области,

представляются

следующими выражениями:

 

 

 

 

0 ^ С / Э > С/Э. доп! 0 S S [ / K < C £ 7 K 6 . макс! tfao

Ss q3 >

0;

<7ко === Ук \ </коe i P

~

 

 

 

Фг

 

 

области

Графики распределения q (х) для инверсной активной

приведены на рис. 4-30. Из графиков следует, что неосновные носи­ тели заряда собираются эмиттером, т. е. эмиттер работает как коллектор, а инжектируются эти носители заряда коллектором, т. е. коллектор работает как эмиттер. Часть носителей заряда, инжектированных коллектором, доходит до эмиттерного перехода, образуя инверсно направленный поток I x i , величина которого определяется уравнением I T I = ccj/K .

При работе в инверсной области неосновные носители, до­ шедшие до эмиттерного перехода, покидают базу. При этом ток,

б*

131

протекающий с эмиттерной цепи, складывается пз инверсного тока ITI П теплового тока эмиттерного перехода /8 г-

Инверсное включение применяется в схемах двунаправленных переключателей, которые целесообразно строить на симметричных транзисторах. В симметричных транзисторах две крайние области,

Рпс.

4-30.

Графпкп

распределения

плот­

ности заряда неоснов­

ных

носителей

при

работе

в

ппверсной

активной

области.

а — для

диффузионного

транзистора;

б — для

дрейфового

транзистора.

образующие эмиттер и коллектор, имеют одинаковые свойства и геометрические размеры. Поэтому любой из этих электродов с рав­ ной эффективностью может работать п как эмиттер, и как кол­ лектор.

Для симметричных транзисторов характеристики в инверсной области подобны характеристикам в активной области. Особенности инверсных характеристик несимметричных транзисторов, исполь­

зуемых

в модуляторах, подробно рассмотрены в работе [Л. 45].

4-4.

ИМПУЛЬСНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ТРАНЗИСТОРА

При усилении и преобразовании импульсных сигналов проис­ ходит искажение их формы, обусловленное инерционностью про­ цессов, которые протекают в рабочих областях кристалла. В бипо­ лярных трапзпсторах искажения в основном связаны с процессами, протекающими в области базы и прилегающих к ней переходных слоях.

При изменении амплитуды входного сигнала происходит изме­ нение концентрации носителей заряда и их потоков. В,импульсных устройствах амплитуда сигнала изменяется сравнительно быстро. Однако из-за инерционности транзистора изменение концентра­ ции и потоков носителей заряда происходит с конечной скоростью, что вызывает уменьшение усиления мощности и искажения выход­ ного сигнала. Таким образом, инерционность транзистора коли­ чественно можно характеризовать временем установления кон­ центрации (или плотности заряда) носителей и их потоков.

В базовой области

транзистора

изменение

плотности заряда

и потоков носителей

происходит,

во-первых,

из-за диффузии

и дрейфа и, во-вторых, из-за рекомбинации и генерации. В первом случае инерционность транзистора характеризуется средним вре­ менем пролета носителей заряда через область базы и дисперсией

132

этого времени (см. § 2-6). Во втором случае время установления концентрации носителей заряда, а также их потоков определяется средними значениями времени жизни носителей (см. § 2-7).

Инерционность процессов, которые протекают в переходных слоях, прежде всего характеризуется временем установления объемного заряда в собственно переходе. Так же, как и в одиночном р-п переходе (см. § 3-6), продолжительность этого процесса опре­ деляется временем перезаряда емкости эмиттерного 6'Э] п и коллек­ торного С К - П переходов. В ряде случаев приходится учитывать и время устаиовления рекомбинации и генерации в переходном слое.

Разумеется,., искажения, которые появляются при усилении импульсных сигналов, представляют собой результат одновремен­ ного действия всех указанных процессов. С целью упрощения ана­ лиза будем рассматривать действие каждого из этих процессов в отдельности. Так, например, при анализе процессов в базе будем считать переходы идеальными и пренебрегать изменениями потока неосновных носителей, которые происходят в переходных слоях из-за рекомбинации и изменения заряда обедненных слоев. На основании такого абстрагированного представления составля­ ются эквивалентные схемы (см. § 5-3,5-4), которые позволяют харак­ теризовать инерционность транзистора с достаточной для инже­ нерной практики точностью.

Искажения, обусловленные инерционностью транзистора, наи­ более ярко проявляются при усилении или преобразовании им­ пульсных сигналов в виде идеального перепада (скачка) тока (рис. 4-31). По реакции транзистора на такой сигнал можно оценить наибольшие искажения и определить основные импульсные пара­ метры транзистора. Поэтому ниже рассматриваются искажения, которые появляются при скачкообразном изменении входного тока (тока эмиттера или тока базы).

Изменение потока неосновных носителей заряда в базе. Передача тока эмиттера и тока базы

Искажения, которые появляются при изменении потока носи­ телей заряда, можно наблюдать при работе транзистора в активной области.

Представим себе идеальный транзистор, у которого эмиттерный переход обладает предельной эффективностью инжекции э = 1). При скачкообразном увеличении (уменьшении) тока эмиттера на

величину

igm ток коллектора

вначале

практически

не

меняется,

а затем,

постепенно нарастая

(спадая),

изменяется

на

величину

т = aNhm

( Р и с - 4-31). Из эпюры тока

iK

(t) следует, что, во-пер­

вых, изменение тока коллектора задерживается и, во-вторых, фронт тока коллектора расплывается.

Если бы все носители заряда перемещались через область базы за одно и то же время, равное среднему времени пролета %TNI то

133

ток коллектора также изменялся бы скачком, но с задержкой на время trjv (см. пунктирную линию на рис. 4-31). В действи­ тельности же из-за разброса (дисперсии) времени пролета носи­ телей часть из них достигает коллекторного перехода раньше, чем за время тгл7, а часть — позже. Поэтому наряду с задержкой проис­ ходит расплывание фронта тока коллектора.

Прп скачкообразном изменении тока эмиттера ток коллектора меняется во времени по сложному закону [Л. 46, 47]. Однако с достаточной для инженерной практики точностью можно счи­ тать, что это изменение происходит по экспоненте с задержкой на время t3N (см. штриховую линию на рис. 4-31). Расплывание фронта обусловлено дисперсией времени пролета, поэтому коли-

Рис.

4-31. Эпюры изменения то­

Рпс. 4-32. Эпюры изменения тока

ков

эмиттера п коллектора.

базы и тока коллектора.

чественно его можно характеризовать средним квадратичным от­ клонением времени пролета1 а^лт, считая постоянную времени экспоненты xa J \ равной CTT,V- Временную задержку t3N можно опре­ делить как разность среднего времени пролета TTN И величины

OTN, Т . е.

=XTN — OTJV-

Таким образом, искажение фронта и задержка импульса тока iK (t), образуемого нормально направленным потоком неосновных носителей, которые достигают коллекторного перехода, харак­

теризуются приближенным

дифференциальным

уравнением

«к (*) + raN

^

= aNi3 (t - taN).

(4-28)

Это уравнение позволяет определить изменение тока коллек­ тора при любом законе изменения тока эмиттера. При этом иска­ жения характеризуются двумя величинами: постоянной времени коэффициента передачи тока эмиттера Ta /v и временем задержки г3дг.

1 Среднее квадратичное отклонение — это арифметический корень квад­ ратный из величины писперспи.

134

Рассмотрим искажения тока коллектора при скачкообразном

изменении тока базы. И в этом случае ток коллектора вначале

практически не меняется (рис. 4-32). Поэтому можно считать, что

в течение времени t3N изменение тока коллектора равняется

нулю.

Затем

ток коллектора,

постепенно

нарастая (или спадая),

изме­

няется

на величину iKm

= p\vJom-

Причем рост (или спад)

тока

коллектора происходит почти по экспоненциальному закону с той

лишь разницей, что постоянная времени этой

экспоненты TR/V

значительно больше, чем та л'. Следовательно, и

при управлении

по базовой цепи изменение тока коллектора / к

приближенно можно

определить при помощи дифференциального

уравнения первого

порядка

 

 

I'K (0 + *piv

= РЛ'г'6 V -

<4"29)

Чтобы установить связь постоянной времени коэффициента передачи тока базы трд> с физическими параметрами транзистора, воспользуемся дифференциальным уравнением (4-28) и равенством

(t — 'злО = г'о

(t — t 3 N ) -\- iK

(t — t3N).

Разложив в ряд Маклорена

функцию

 

г'к (t — t 3 N ) = j K

(t) — taN

^ + . . . ,

ограничившись двумя первыми членами разложения и подставив

их в предыдущее

равенство,

имеем:

 

 

 

 

is (t -

taN)

я« ie

(t -

t3N)

+ iK (t) -

t3N ^ 1 .

(4-30)

Используя

уравнения

(4-28)

и (4-30),

получаем:

 

• / А | TgW + aJV'aiVRF'H(0

 

 

 

 

к

О

"1

iiN

 

^~ =

 

_

 

 

Сопоставив

уравнения

(4-29) и (4-31),

можно заключить:

 

= Т*"+а"*М

=

( 1 +

^ ( T a N +

^.^^

 

( 4 _ 3 2 )

 

 

I — ад.

 

 

 

 

 

 

 

Далее, учитывая, что

 

 

 

 

 

 

 

 

 

T a N +

«Л^зМ =

ТТЛ — (1 — CC,v) £3iV

 

 

и

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1 + Р « = ^ ,

 

 

 

(4-33)

получаем:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

TfliV =

Tr/v (1 + Рлг) — taN = XrN — taN

T n V ,

(4-34)

где TrN — среднее значение времени жизни носителей заряда, обра­ зующих нормально направленный поток.

135

Следовательно, прп изменении тока базы ток коллектора дости­ гает своего стационарного значения по мере установления про­ цесса рекомбинации для нормально направленного потока.

Интересно выяснить, почему искажения тока коллектора, которые появ­ ляются при резком измепеппп тока базы, определяются временем жизни носителей тг Л ,, тогда как при резком измене­ нии тока эмиттера это искажение характери­ зуется дисперсией времени пролета носителей.

Для этого прежде всего рассмотрим передачу короткого импульса тока базы транзистором.

 

 

 

 

Предположим, что в базу р-п-р

транзи­

 

 

 

стора подается

импульс

тока,

длительность

 

 

 

которого пе превышает среднее время пролета

 

 

 

носителей (рпс. 4-33).

Во время

действия

 

 

 

импульса через базовый контакт поступают

 

 

 

электроны. Для нейтрализации заряда

элект­

 

 

 

ронов через

эмиттер

переходит

в

базу такое

Рис. 4-33. Эпюры

измене­

же

количество

дырок.

Дырки,

перемещаясь

в базе, достигают коллекторного перехода и,

ния

тока базы и тока кол­

поступая в коллектор, образуют ток iK (t).

лектора прп кратковремен­

Пусть к моменту окончания импульса тока

ном

импульсном

воздей­

is (t) базу

покидают

р

дырок.

Следователь­

ствии.

 

 

но,

к этому

моменту

времени в

базе

остает­

 

 

 

 

 

 

ся

такое же количество электронов

(л=р),

заряд которых необходимо нейтрализовать (электроны но могут покинуть базу через эмштериый и коллекторный переходы, а через базовый контакт к этому моменту времени прекращаются приток и сток электронов, поскольку внеш­

ние цепи препятствуют изменению тока

 

 

 

 

базы — jo (t) = 0). Для нейтрализации за­

 

 

 

 

ряда оставшихся электронов через эмит-

 

 

 

терный переход в базу

поступают

дырки,

 

 

 

 

которые,

достигая

коллектора,

замед­

 

 

 

ляют

 

спад

тока

iK

(t)

(рпс.

4-33).

Из-за

 

 

 

 

рекомбинации с дырками число остав­

 

 

 

 

шихся

в

базе

электронов

постепенно

 

 

 

 

уменьшается, поэтому спадает поток ды­

 

 

 

 

рок

через

эмпттерпый

переход, а

следо­

 

 

 

 

вательно, уменьшается и ток коллектора.

 

 

 

 

Как

следует пз уравнения непрерывности

 

 

 

 

(2-5), если расходимость тока

равна

пулю,

 

 

 

 

то концентрация электронов спадает со

 

 

 

 

скоростью,

определяемой временем

жизни

Рис. 4-34. Эпюры изменения

ноептелей

заряда

в данной

точке. В рас­

тока

базы и

тока

коллектора

сматриваемом примере

расходимость тока

в виде пачки

импульсов.

по всей области базы, определяемая

раз­

ностью

ig {t) — iK

(t) •= jQ [l),

равна

нулю.

 

характеризуется средним

Во всей области базы скорость рекомбинации

значением

врсмепп жизни ноептелей заряда пормальпо направленного

потока

xrN.

Следовательно,

после

прекращения

импульса тока

t'e (t) коли­

чество

оставшихся

в базе электронов

спадает по закону

 

 

 

 

 

 

 

 

.

n(t) = ne

X r

N .

 

 

 

Поэтому спад п потока дырок и тока коллектора iK (t), формируемого этим потоком, происходят по экспоненте с постоянной времени xrN.

Если представить ток базы в виде пачкп коротких импульсов (рис. 4-34), то все импульсы тока в коллекторпой цепи, приходящие вслед за первым,

136

будут накладываться друг на друга. При этом суммарный ток коллектора будет изменяться но тому же закону, по которому происходит спад коротких импуль­ сов, поскольку по мере этого спада будет происходить установление тока коллектора.

Итак, при ограничении стока или притока основных носителей заряда продолжительность переходных процессов в базе опреде­ ляется временем установления процесса рекомбинации. Поэтому при ограничении изменения тока базы ток коллектора изменяется по экспоненте с постоянной времени X,-N, определяемой средним значением времени жизни носителей заряда.

Изменение заряда неосновных носителей. Накопление и рассасывание носителей заряда в базе. Диффузионные емкости

При работе транзистора в области насыщения не все носители заряда, которые достигают коллекторного перехода, покидают область базы. Часть их них остается в базе, и происходит накоп­ ление избыточных носителей заряда. При отключении входного напряжения требуется определенное время для нх рассасывания из области базы. Поэтому инерцион­

ность

транзистора

определяется

пе

 

 

 

 

только

скоростью

изменения

потока

 

 

 

 

носителей

заряда. Рассасывание

или

 

 

 

 

накопление вызывает изменение плот­

 

 

 

 

ности заряда

неосновных

носителей

 

 

 

 

по

всей области

и,

в

частности,

на

 

 

 

 

границе электронно-дырочных пере­

 

 

 

 

ходов. С

изменением

плотности

за­

 

 

 

 

ряда носителей у переходов изме­

 

 

 

 

няются и напряжения на коллектор­

 

 

 

 

ном и эмиттерном переходах, что

 

 

 

 

приводит к изменениям токов и на­

 

 

 

 

пряжений

в

цепях,

подключенных

Рис. 4-35.

Эпюры

тока

эшгг-

к

транзистору.

Поэтому

инерцион­

ность

транзистора

характеризуется

тера п тока коллектора при

запирании

насыщенного

тран­

также

скоростью

изменения

плот­

зистора идеальным

перепадом

ности

заряда

 

неосновных

 

носите­

напряжения.

 

 

лей, которые накапливаются в базе непосредственно у коллекторного и эмиттерного переходов.

Изменение заряда носителей в базе наиболее существенно влияет на величину токов, протекающих через переходы. При импульсном воздействии во время накопления или рассасывания носителей токи заметно превышают свои стационарные значения. Для при­

мера иа рис. 4-35

приведены эпюры токов эмиттера / э

{t) и коллек­

тора / к (t)

при

запирании

транзистора

скачком

напряжения.

В исходном

состоянии транзистор открыт и насыщен. Не все не­

основные носители заряда,

инжектируемые

в базу эмиттером, до-

137

ходя до коллекторного перехода, могут покинуть область базы, так как ток коллектора /к _„ ограничен внешним сопротивлением /?„ (см. рис. 4-24). Часть носителей остается в базе и, накапливаясь у коллекторного перехода, приводит к увеличению напряжения на нем. Коллекторный переход смещается в прямом направлении,

итранзистор насыщается.

Вмомент времени t0 (рис. 4-35) к эмиттериому входу приклады­ вается скачок напряжения, амплитуда которого выбрана так, чтобы полностью запереть транзистор и перевести его в область отсечки токов. Еслп бы транзистор был безынерционным прибором,

то

с

подачей

запирающего импульса

токи эмиттера

и

коллек­

 

 

 

 

 

 

 

тора должны были бы скачком

 

 

 

 

 

 

 

уменьшиться

до

величин

I B 3

 

и 7И 0 ,

 

 

 

 

 

 

 

определяемых

статическими

 

харак­

 

 

 

 

 

 

 

теристиками

в области отсечки (см.

 

 

 

 

 

 

 

§ 4-3),

и

далее

оставаться

неизмен­

 

 

 

 

 

 

 

ными

(как

это показано на рис.

4-35

 

 

 

 

 

 

 

штриховыми прямыми). В действи­

 

 

 

 

 

 

 

тельности

наблюдаем

другую

 

карти­

 

 

 

 

 

 

 

ну: в момент времени t0 ток

коллек­

 

 

 

 

 

 

 

тора почти не меняется, а ток эмит­

 

 

 

 

 

 

 

тера скачком уменьшается до вели­

 

 

 

 

 

 

 

чины / Э 2 , значительно

превосходящей

Рпс.

4-36.

Распределение плот­

стационарное значение 1д

в . При этом

ности заряда в базе диффузион­

амплитуда

тока

1а2

практически

не

ного

 

транзистора на

стадии

зависит от характеристик

транзисто­

рассасывания избыточных

но­

ра,

а

определяется

величинами

сителей.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

запирающего

смещения

 

и

 

внеш­

 

 

 

 

 

 

 

него

сопротивления

в цепи

 

эмит­

тера.

Чтобы

попять

физический

смысл

наблюдаемого

явления,

рассмотрим процесс

изменения

заряда

неосновных

 

носителей

в базе.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

На рис. 4-36 показано распределение плотности заряда не­

основных

носителей

в

базе

для

различных

моментов

времени:

10, <х, t2 и для одного промежуточного случая (штриховая ь

цвая).

Так

 

же как и при одиночном р-п переходе (см. § 3-7),

для

расса­

сывания избыточных носителей заряда из базы требуется некоторое время, в течение которого заканчиваются переходные процессы. Рассасывание носителей начинается в момент включения запираю­ щего импульса. По мере уменьшения заряда неосновных носите­ лей уменьшается и напряжение на эмиттерной Ua и коллекторном UK переходах. Но пока переходы смещены в прямом направлении, токи эмиттера 1а2 и коллектора /„_„ практически определяются параметрами внешней цепи, так как изменения напряжений U9 и Uк пренебрежимо малы по сравнению с напряжением источников смещения. Поэтому, пока в базе имеется достаточное количество избыточных носителей, поддерживающих потоки через переходы, токи эмиттера и коллектора остаются неизменными.

138

Процесс рассасывания и накопления носителей заряда в базе инерционен, так как он связан с их диффузией и рекомбинацией. При движении неосновных носителей заряда через область базы даже в дрейфовых транзисторах диффузия носителей заряда играет заметную роль. Характерной особенностью диффузии явля­ ется дисперсия (разброс) времени пролета носителей, что замед­ ляет рассасывание или накопление носителей в данной области. Так, например, при прекращении инжекции носителей через эмиттерный переход нормально направленный поток носителей, образующий ток ITN У коллекторного перехода, не сразу прекра­ щается, как это следует из уравнения для установившегося ре­ жима: ITN — CINIQ ( С М . § 4-3). Спад или нарастание тока ITN замед­ ляется из-за дисперсии времени пролета носителей. Закон изме­

нения тока ITN

определяется

дифференциальным

уравнением

[Л. 36]

 

 

 

 

dJfjipj

(t)

 

ITN

(t) + raN -т. = «л-Д (t — t3N).

(4-35)

Физический смысл этого уравнения был выяснен при составле­ нии уравнения (4-28). Эти уравнения отличаются друг от друга только тем, что предыдущее составлено для приращения тока кол­ лектора i„ (t), вызываемого изменением тока эмиттера i3 (t) при работе транзистора в активной области. Независимо от режима работы транзистора ток ITN (t), который формируется нормально направленным потоком носителей, дошедших до коллекторного перехода, определяется уравнением (4-35). От условий же работы зависит, какая часть неосновных носителей заряда уходит из области базы через коллекторный переход. Так, при работе в актив­ ной области все неосновные носители заряда, которые достигают коллекторного перехода, покидают область базы, образуя в кол­ лекторной цепи ток

IK(t) = lTN(t)-T-Im.

(4-36)

При этом приращение тока коллектора iK (t) равняется прира­ щению тока AITN [именно на этом равенстве и основано уравнение (4-28)]. Если по какой-либо причине сток носителей в коллектор­ ную цепь ограничен, то из базы в коллектор поступит лишь столько неосновных носителей, сколько необходимо для поддержания тока коллектора, и равенство (4-36) нарушается.

Продолжительность процесса накопления или рассасывания носителей заряда определяется также временем установления про­

цесса рекомбинации,

поскольку

рекомбинация

тоже приводит

к изменениям заряда

носителей.

Из уравнения

непрерывности

(2-2) следует, что если расходимость потоков равна нулю, то изменение плотности заряда неосновных носителей, обусловленное

рекомбинацией, определяется простым

уравнением

dgJJ)_

д — go

dt

%

139

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ