Добавил:
Закончил бакалавриат по специальности 11.03.01 Радиотехника в МИЭТе. Могу помочь с выполнением курсовых и БДЗ по проектированию приемо-передающих устройств и проектированию печатных плат. Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Заводян Лабораторный практикум

.pdf
Скачиваний:
8
Добавлен:
10.09.2023
Размер:
7.09 Mб
Скачать

транзисторов)ктонкопленочным микросхемам.Дляэтогосначалаизвлечь пинцетомкристаллыизтары,аккуратнообрезатьножницамизолотыевыводы кристалла.Приобрезаниивыводовнадостремитьсясохранитьмаксимальную длину вывода у кристалла (длина вывода должна обеспечивать микроконтактированиеневнатяг,асострелойпровисаниянеболеетрех диаметровпроволоки).

Далее поместить кристалл в поле зрения микроскопа МБС-9 и сориентироватьегосоответственносборочномучертежу.Иглойнанестикапельку клеянаместоприклейкикристалла,азатем пинцетом аккуратноперенести кристаллнаместопосадкиивсоответствиисосборочнымчертежомприклеить его,слегкаприжавдеревяннойпалочкой.Аналогичноприклеитьвсекристаллы.

8.Собранныйузелпоместитьвтермошкаф"Электродело". Режимсушки:температура;T=80±10ºCвремяt=30мин. Поистечениивременисушкиизделиеизвлечьизтермостатаиперенести

нарабочееместодлямонтажа. 9.Произвестимикроконтактированиемикросхемыспомощьюустановки

импульснойпайки(сварки)сцелью отработкитехнологическогорежима.Для этого:

-ознакомитьсясправилами работы наустановкеимпульсной пайки (сварки);

-отработатьтехнология)пайки(сварки)навспомогательномч(нерабочем) образце,используя облуженную медную проволоку для пайки указанный преподавателемматериалпроволокидлясварки,выбравоптимальныережимы микроконтактирования.

Примечания. Режимы микроконтактирования согласовать с преподавателем.

Для каждого режима выполнить три пайки или микросварки (контактируетепроволочкидолжны бытьдлинойнеменее7мм),послечего оценитькачествомикроконтактированиявследующейпоследовательности:

-взятьпинцетом свободныйконецоднойизпроволочек,оторватьеев направлении,перпендикулярном плоскостиплаты (второйрукойнеобходимо придерживатьплату);

-вторую проволочкуоторватьаналогично,пользуясьпинцетом,нопод углом45°кповерхностиплаты;

-поместитьвспомогательныйобразецнастоликмикроскопаирассмотреть, вкакихместахпроизошелобрывпроволочек;

-оценитьпрочностьпаяного(илисварного)соединения,измеривусилие отрыватретьейпроволочки,пользуясьприспособлениемдляизмеренияусилия отрыва (граммометром либо любым другим прибором для количественной оценкикачествамикроконтактирования)

исравниврезультатыизмеренияскритерием,указаннымвописании,учитывая приэтомвнешнийвидполученногосоединенияихарактеротрыва.

10.Микроконтактированиевыводовнавесныхкомпонентов(кристаллов)с контактнымиплощадкамитонкопленочныхэлементовнаситаллевыполнитьв последовательности:

-поместитьсобранныйузелподприжимстоликамикроскопанарабочем местеустановкиимпульснойпайкиилисварка;

-проверитьэлементысхемывнешнимосмотромприувеличениивдвараза; -наблокепитанияустановкивыставитьрежим микроконтактирования,

соответствующийоптимальному; -провестимикроконтактированиевсехпроволочныхвыводов,включая

выводы кристалловсконтактнымиплощадкамиподложновсоответствиисо

71

сборочнымчертежом,удалитьспомощьюскальпелявыступающие(свободные) концыпроволочектак,чтобыониневыходилизапределыконтактныхплощадок.

I. Микроконтактироваяие тонкопленочных гибридных микросхем с печатной платой выполнитьспомощью облуженной медной проволоки на установкеимпульснойпайкивпоследовательности:

-поместитьузелподприжимстоликамикроскопаустановки; -выставить на блоке питания установки режим, соответствующий

оптимальному; -припаять проволочки к контактным площадкам печатной платы в

соответствиисосборочнымчертежом{см.рис.10); -удалить выступающие (свободные) концы проволочек с помощью

скальпеля. 12.Провестиконтролькачествапаяных(исварных)соединенийготового

изделийподмикроскопом(например,МБС-9)приувеличениив2ив16раз,а результатыконтролязанестивформутабл.2.

Примечания.При выполнении контроляучитывать,что в изделии не допускаются:

-каплиприпоянаплатах; -остатки проводников,загрязнений,а также флюса и продуктов его

разложения; -механическиеповрежденияпроводниковввидевмятин,перекручиванияи

другихвидовдеформаций; -изменениецветаконтактногосоединения; -обрывыпроводников; -натягпроводников;

-деформация проволоки в месте микросварки более 1,5 диаметра проволоки.

13.Визуальнопровестиконтрольправильностиэлектрических соединений,сравни!готовоеизделиесосборочным чертежом,посколькуэто важнаяоперацияпредшествующаяфункциональномуконтролю ирегулировке смонтированногофункциональногоузла.

14.Поместитьфункциональныйузелвтехнологическую таруи сдать преподавателю.

Требованиякотчету

Отчетдолжен;содержать; 1)титульныйлжет; 2)цельработы;

3)принципиальную электрическую схемуфункциональногоузлаиего сборочныйчертеж(см,рже.8-10);

4)заполненнуюформутабл,2;

5)выводы.

Контрольныевопросы

1.Какиевидыработвыполняетсяприсборкеимонтажекомпонентовна печатныхплатах?

2.Какосуществляетсяфиксациякомпонентовнапечатныхплатах?

3. Назовите конструктивно-технологические средства повышения

72

прочностиклеевыхсоединений. 4.Пояснитефизическуюкартинуобразованияэлектрическихсоединений,

изобразитеэлектрическуюсхемузамещениясварныхипаяныхсоединений. 5.Назовитеспособымикроконтактирования,используемыевтехнологии

изготовленияэлектронныхустройств.

6.Назовите основные способы получения электрических соединений сваркой,объяснитепроцессы,протекающиеприсварке.

7.Назовите основные способы получения электрических соединений пайкой,составыприпоевифлюсов.Объяснитемеханизмыобразованияпаяных соединений.

8.Как вы понимаете механизм флюсования при получении паяных соединений?

9.Чтотакоеконтактолы,ихсостав,свойстваиособенности применения?

10.Какие методы контроля качества сварныхи паяныхсоединений существуетвмикроэлектронике?

11.Оценитекачествосборкиимонтажаполученноговнастоящейработе образца.

12. Назовите критерии выбора оптимального режима микроконтактирования.

Рекомендуемаялитература

1.Технология ЭВА, оборудования и автоматизация/В.Г.АЛЕКСЕЕВ, В.Н.ГРИДНЕВ,Ю.И.НЕСТЕРОВидр.М.:Высшаяшкола,1984392с.

2.Технология и автоматизация производства радиоэлектронной аппаратуры./И.П.БУШАНСКИЙ,О.Ш.ДАУТОВ,А.П.ДОСТАНКОидр.М.: Радиоисвязь,1989,624с.

3.ВОЛКОВВ.А.Сборкаигерметизациямикроэлектронныхустройств.М.: Радиоисвязь1982.144с.

4.МЭНГИНМ.Г.,МАККЛЕЛЛАНДС.Технологияповерхностногомонтажа. Будущиетехнологиисборкивэлектронике./Пер.сангл.Под.Ред. Л.А.КОЛЕДОВА.М.:Мир,1990.276с.

5.ВОЛКОВВ.А.,ЗАВОДЯНА.В.,ЯШИНА.А.технологияиконструкторско-

73

технологические решения для реализации объемных интегральных модулей:Уч.Пособие.М.:МИЭТ,1992.83с.

74

Лабораторнаяработа№4

Аналитическаяоценкапреимуществэлектронныхустройств,выполненныхс применениемтехникиповерхностногомонтажа

Цель работы: 1) изучение и анализ конструкторско-технологичсских особенностейразработкифункциональныхустройств-ячеекЭВСсразличной степенью смешанности компонентов и их сравнительная оценка по конструкторско-технологическим критериям; 2) изучение особенностей технологии изготовления высокоплотно скомпонованных ячеек ЭВС с применениемтехникиповерхностногомонтажа.

Продолжительностьработы-4ч.

Теоретическиесведения

Техникаповерхностногомонтажа-путьиулучшениюфункциональных характеристикэлектронныхустройств

Габаритыкорпусовисоединительныхвыводовэлектронныхкомпонентовстали одной из причин замедления микроминиатюризации в электронной промышленности.Широко распространенные и дешевые DIP-корпуса для монтажавотверстияхплат(илитрадиционно-монтируемыекомпоненты(ТМК)) уже не могли удовлетворить потребности потребителей по своим массогабаритнымпоказателям,аглавное-былдостигнутпределпоколичеству выводовDIP-корпуса,порядка80.Всеувеличивающеесяколичествоэлементовв кристаллеБИС нарядусповышающейсямногофункциональностью изделия, требовалоувеличенияколичествавыводов.Наступилмоменткачественного изменениятехнологиимонтажавмикроэлектроннойпромышленности.Таким образомбылисформулированыобъективныепредпосылкидляразвитиянового ипрогрессивногонаправленияразработкиипроизводствамикроэлектронных изделий,котороевпоследствииполучилоназваниетехникиповерхностного монтажа(ТПМ).ПосвоейзначимостипереходкТПМ сравнимспереходомот электровакуумнойэлектроникикполупроводниковой,тольковпервомслучае былизмененфизический(фундаментальный)принцип,авовтором-главным образом технологический (прикладной). Если провести анализ развития конструкцийизделийвэлектроннойпромышленности,тонельзянезаметитьвсе возрастающеезначениетехнологииприсозданииэлектронныхустройствлюбого уровнясложности,товТПМ технологиявыходитнапервоеместо,Еслив производствеСБИС (УБИС)вомногихслучаяхужедостигаетсяфизический предел,то в ТПМ (как области прикладной) существует огромное поле деятельности дляразвитияновыхнаправлений разработки и производства микроэлектронных устройств и улучшения существующих функциональных характеристикЭУ.

ТПМ-средствоснижениямассогабаритныхпоказателейустройств

Какбылосказано,DIP-корпусанеобеспечиваюттребуемыхмикроэлектроникой функциональныхвозможностей,втомчислепомассогабаритнымпоказателям. С одной стороны увеличение количества выводов требовало повышения жесткости(какследствиеимассы)конструкции,сдругойстороны дажедля

75

самыхраспространенных(инебольшихпоразмерам)16-выводиыхкорпусов масса не могла быть больше снижена. Выводы должны обеспечивать необходимую жесткостьдлямонтажавотверстиях(тоестькорпусдолжен обеспечитьнеобходимуюфиксациювыводов).Наиболеелегкиепластмассовые DIP-корпуса имеют недостаточную теплопроводность из-за утолщенной низкотеплопроводящей пластмассовой оболочки. Более теплопроводящие корпусаизкерамикиобладаютповышенноймассой.Организоватьвыводысо всехсторонDIP-корпусатакжевесьмапроблематично.Неспасаетположение расположение выводов в шахматном порядке,при котором значительно увеличивается площадь, необходимая для монтажа на печатную (коммутационную)платутакого корпуса.И что не менее важно,площадь, занимаемая DIP-корпусом на плате,в несколько раз превышаетплощадь, занимаемую кристаллом.Всеэто,атакжемножество другихпредпосылок способствовалиразвитиюТПМ.ВТПМдостигнуто:

-снижение массы выводов компонентов (за счет использования микрокорпусов,втомчислебезвыводныхичип-компонентов);

-снижение массы корпуса за счет уменьшения толщины корпуса; уменьшения геометрических параметров корпуса при том же количестве выводов;болеекомпактногорасположениявыводовсшагом 1,25именее; примененияболееперспективныхконструкционныхматериалов;

-уменьшениеотношенияплощадизнакоместакплощадикристаллапри снижении площади,занимаемой корпусом наплате;улучшение,выходных параметровкомпонентоввмикрокорпусах(засчетуменьшенияпаразитных параметров);

-повышениевибропрочностикомпонентов.

Втабл.1и2представленысравнительныехарактеристикиDIPиПМ корпусов. Видно,Чтоповерхностно-монтируемыекорпусапревосходятDIP-корпуса,

Таблица1

ЗависимостьмассыкорпусаИСотколичествавыводов

Тип

 

 

Массакорпуса(г)дляколичествавыводовкорпуса

 

корпуса

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

16

20

 

24

28

40

44

48

52

64

68

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

PLCC

0,3

0,4

 

0,5

0,6

0,7

0,75

0,8

1,1

1,9

2,1

DIP

1,14

1,2

 

1,36

3,6

4,3

4,6

8,5

9,0

12,11

13,0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Таблица2

Площадь,занимаемаякорпусаминаплате

Тип

 

Площадьтелакорпуса(см)приколичествевыводов

 

корпуса

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

8

14

16

20

24

26

28

40

44

64

SO

0,31

0,55

0,62

1,37

1,67

1,92

3,2

PLCC

0,75

0,8

0,9

1,1

1,2

1,3

1,8

2,5

5,8

6,2

DIP

1,29

1,57

1,75

2,9

4,5

5,9

8,9

10,0

21,28

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Применение корпусов тина SO с количеством выводов больше 20 нецелесообразно,ТОКкакзначительноувеличиваетсязанимаемаяимиплощадь посравнениюсPLCC-корпусами.

Следует заметить,что наиболее существенное улучшение функциональных

76

характеристикизделийпроизошлоименноспереходомнановуюкорпуснуюбазу дляинтегральныхсхем(ИС)всехстепенейинтеграции.Историческисложилось так,что первыми поверхностно-монтируемыми компонентами (ПМК)стали дискретныекомпоненты;резисторы,конденсаторы,частичнотранзисторы и диоды.Но весь выигрыш от применения новых ПМК утрачивался при использованииИСвDIP-корпусах.

ТПМпозволяетповыситьэксплуатационнуюнадежностьикачествоизделий

Переход на ТПМ автоматически приводитк повышению эксплуатационной надежности.Это характерная черта,присущая технике ПМ.Новая техника монтажа потребовала пересмотреть устоявшиеся взгляды на технологию. Традиционныетехнологиииэлементнаябазанепозволялидостичьвполной мере требуемых результатов.Многие процессы,которые в традиционной технологиибылинекритичнымиквнешним идругим факторам вусловиях производства,оказалисьсущественнымивТПМ.Поэтомупотребовалисьновые правилапроектированиявТПМ дляобеспечениякачестваинадежностиЭУ; разработаны иразрабатываютсяновыеконструкционныематериалы;новые технологическиесреды;новыетехнологическиепроцессы,вкоторыхсамое непосредственноеучастиепринимаютЭВМ,отавтоматизированнойразработки доконтроляиуправлениявсемпроцессомизготовленияЭУ.

Такимобразом,сточкизренияповышениякачестваинадежностиЭУ,освоение ТПМпозволяетреализовать:

-улучшениекачествапайки(например,исключениеперемычекприпояпри использованииновыхспособовпайкиоплавлениемдозированногоприпоя),что способствуетповышению надежности ЭУ и улучшению ихфункциональных параметров;

-обеспечениевысокогокачествапозиционированиякомпонентовнаплате прииспользованиисборочныхавтоматов(переменныетехнологическиефакторы вТПМконтролируются),чтодаетвозможностьповыситькачествоинадежность сборкиимонтажакомпонентов,атакжеулучшитьфункциональныепараметры ЭУ;

-улучшениекачествавыполненияосновныхтехнологическихоперацийза счет встроенного тест-контроля и АСУ ТП,что в значительной степени способствуетповышениюэксплуатационнойнадежностиЭУ;

-возможностьуменьшенияколичествакоммутирующихслоевКПпритом жеилиповышенном уровнефункциональнойсложностиЭУ(из-заотсутствия металлизированных сквозных монтажных отверстий, а также за счет выполнениячастиэлементовкоммутациивмногослойнойструктуреоснований кристаллодержателей), что позволяет существенно увеличить площадь, отводимую под компоненты и трассировкуплат,способствуетповышению выходагодныхплатиихнадежности;

-уменьшениеколичестваметаллизированныхотверстий,каждоеизкоторых служитпотенциальным источником дефектов,даетвозможность повысить выходгодныхплатиихнадежность;

-использованиеновойэлементнойбазы сповышеннойнадежностью (в сравнении с традиционной) и высоконадежных технологий способствует созданиюперспективныхЭВСсвысокойэксплуатационнойнадежностью.

Обоснованиевыборакритериеврациональности(эффективности)внедрения ТПМвпроизводстваперспективныхЭВС

77

Одинизспособовопределенияэффективностииспользованияповерхностномонтируемыхкомпонентов(ПМкомпонентов)предложенД.Корф[1]исостоитв определении коэффициента приведения к эквивалентной ИС, который определяетсяизвыражения

гдеS-площадь,требуемаядлямонтажавыбраннойконструкциикомпонента,

площадь,занимаемаяодним (стандартным 16-выводным)DIP-корпусом,

принимаемаязаэквивалентинтегральнойсхемы(ЭИС). Существуюттакжедругиеспособы дляопределениярациональностии

эффективностииспользованияПМ-компонентов.Вчастности,одинизспособов состоитвопределениинижеследующихкоэффициентов.

Коэффициент К1 показывает,во сколько раз уменьшится площадь функциональнойячейки(ФЯ)послезаменытрадиционно-монтируемых(ТМ)на нейкомпонентовнаповерхностно-монтируемые;К1 определяетсяследующим образом:

где-реальнаяплощадьплатыФЯ;SПМ площадьФЯ,вкоторойвсеТМ-

компонентызамененыПМ-компонентами.

Коэффициент К2 показывает,во сколько раз увеличится монтажная площадьФЯпослезаменыповерхностно-монтируемыхнанейкомпонентовна традиционно-монтируемые;К2определяетсяпоформуле:

где SТМ -площадь ФЯ после замены в ней всехПМ-компонентов на ТМкомпоненты.

КоэффициентКСМ называютстепеньюсмешанностивФЯПМ-компонентов сТМ-компонентами;КсмпоказываетотносительноеколичествоПМ-компонентов вобщемчислекомпонентовФЯ;КСМ определяетсяследующимобразом:

где Кпм -количество ПМ-компонентов ФЯ; Кобщ -общее количество компонентовФЯ.

ОценкуэффективностиосвоениятехнологийвТПМ можноосуществлять по целому ряду показателей,например,по себестоимости ЭУ и другим стоимостным показателям; по проценту выхода годных изделий; производительноститехнологическогооборудования(вт.ч.постепенииуровню автоматизациитехнологическихпроцессов);поналичию встроенныхсредств контроля;поразновидностямвозможныхдефектоввобъектахпроизводства(т.е. поуровням качествакомпонентов,деталейиизделийвцелом),атакжепо результатамиспытанийнанадежностьЭУ.

Домашнеезадание

78

1.Изучитьописаниеклабораторнойработе.

2.Подготовитьформуотчетапопунктам1,2требованийкотчетуиформытабл.4 и6,атакжекраткоописатьособенностисборкиимонтажавТПМ,пользуясь источниками[1.3].

3.Подготовитьответынаконтрольныевопросы.

4.Иметькалькулятор.

Лабораторноезадание 1.Выполнитьнеобходимыерасчеты длязаданноговариантафункциональной ячейкииопределитьтребуемыепараметрысзанесениемихвформутабл.4и6в соответствиисметодикойвыполненияработы. 2.Изобразитьалгоритмосновныхэтаповтехнологическогопроцесса(ТП)сборки имонтажадляданнойячейкиЭВСсиспользованиемАСУТП. 3.Сформулироватьвыводы. 4.Составитьотчетвсоответствиистребованиямикнему. 5.Защититьлабораторнуюработу.

Приборы,приспособления,макетныеобразцы

Привыполнениилабораторнойработы используются:микроскоптипаМБС-2 (либо приспособление,содержащее лупу);пинцет глазной;измерительная линейка;макетные образцы в виде ячеек ЭВС,выполненных по разным вариантамсборкиимонтажасприменениемТПМ.

Методикавыполненияработы

1.Пользуясьисточниками[1..3]изучитьособенностисборкиимонтажавТПМ.

2.Всоответствиисномеромсвоейбригадывыбратьномерафункциональных ячеек (ФЯ)изтабл.3 и получить улаборанта ФЯ ЭВС в соответствии с выбранныминомерами.

3.Внимательно рассмотреть образцы ячеек,определить вариантсборки и монтажадлякаждойячейки,атакжетипкорпусаиликонструкциидлякаждого классакомпонентов.

Выборвариантадлявыполненияработы

Таблица3

Номер

1

2

3

4

5

6

7

8

НомерФЯ

1,2

3,4

5,6

7,8

9,10

11,12

13,14

15,16

4.Заполнитьформутабл.4сучетомданныхтабл.5ипользуясьприведенной нижеметодикойрасчета.

Форматабл.4

СравнительныехарактеристикиФЯприиспользованииПМКиТМК

Параметрыдлясравнения КТМ

КПМ

SРЕАЛЬНАЯ

SТМ

SПМ

К2

К2

КСМ

№ ФЯ

 

 

 

 

 

 

 

79

Ктм -количествокомпонентов,выполненныхсприменением традиционного монтажа

(ТМ);

Кпм-количествокомпонентов,выполненныхсприменением поверхностного монтажа

(ПМ); SРЕАЛЬНАЯ-РеальнаяплощадьплатыФЯ;

STM -площадьФЯвслучае,есливсеПМ-компонентызаменитьТМ-компонентами;

где: -суммарнаямонтажнаяплощадьПМ-компонентов; суммарная монтажная площадь ТМ-компонентов, которыми

замененыПМ-компоненты;Sпм-площадьФЯвслучае,есливсеТМ-компоненты заменитьПМ-компонентами;

где: -суммарнаямонтажнаяплощадьТМ-компонентов; -суммарнаямонтажнаяплощадьПМ-компонентов,которымизаменены

ТМ-компоненты. Синдексомiобозначаетсяплощадькомпонентов,реальносуществующихв

ФЯ.Синдексомjобозначаетсяплощадькомпонентов,которыхреальнонетвФЯ (т.е,которыеусловнозаменяются); Sтмi,Sпмi,Sтмj,Sпмj-найтипосправочнойтабл.5;

5.Определить К1 (коэффициент миниатюризации ячейки только за счет применения элементнойбазыдляПМ)поформуле;

К2 (коэффициент, определяющий проигрыш ячейки по площади из-за использованияТМ-компонентов)поформуле;

,где:КОБЩ -общееколичествокомпонентоввсоставеФЯ.

80