
- •Физические основы электроники Электрофизические методы исследования полупроводников и полупроводниковых приборов
- •Введение в настоящем пособии излагаются основные темы дисциплин, связанных с основами работы полупроводниковых приборов.
- •Требования к подготовке, выполнению и защите работ
- •Тема 1. Приборы, используемые для проведения исследований полупроводниковых приборов
- •1.1. Автоматические мосты переменного тока
- •1.2. Осциллографы
- •1.3. Генераторы
- •Тема 2. Проводимость полупроводников и металлов лабораторная работа № 2.1
- •2.1. Терморезисторы: термисторы и позисторы
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа № 2.2
- •2.2. Общие сведения
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Подготовка к работе
- •2. Исследование вольтамперной характеристики варистора
- •7. Исследование зависимости сопротивления от температуры
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа № 2.3
- •2.3. Определение типа носителей в полупроводниках
- •2.3.1. Метод термозонда
- •2.3.2. Метод Холла
- •2.3.3. Определение концентрации и подвижности носителей
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Определение типа носителей с помощью метода термозонда
- •1.1. Подготовка к работе
- •1.2. Определение типа носителей разных кристаллов
- •2. Исследования по методу Холла
- •2.1. Определение типа основных носителей в датчике Холла
- •2.3. Исследование вольтамперной характеристики датчика
- •2.4. Определение микропараметров кристалла датчика Холла
- •2.6. Определение зависимости эдс Холла от величины тока
- •2.9. Определение зависимости эдс Холла величины индукции в
- •Отчетные материалы
- •Тема 3. Полупродниковые диоды Лабораторная работа №3.1 ″Исследование полупроводниковых диодов″
- •3.1. Характеристики полупроводниковых диодов
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Начальные установки
- •2. Исследование вольтамперной характеристики диода при t0
- •2.1. Исследование прямой ветви вах диода д2
- •2.2. Исследование обратной ветви вах диода д2
- •3*. Исследование вах диодов различных типов
- •4. Исследование зависимости обратного тока диода от температуры
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа № 3.2
- •3.2. Полупроводниковые стабилитроны и стабисторы
- •3.3. Описание стенда
- •Измерения и обработка результатов
- •2. Исследование вольтамперной характеристики стабилитрона при комнатной температуре
- •5. Исследование влияния температуры на напряжение Uст
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа №3.3
- •3.4. Характеристики светодиодов
- •3.4.1. Управляемые источника света. Светодиоды
- •3.4.2. Строение светодиодов
- •3.4.3. Общие сведения об обозначении светодиодов
- •3.4.4. Особенности лабораторной установки
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа № 3.4
- •3.5. Общие сведения о фотоприемниках
- •3.5.2. Параметры и характеристики фоторезистора
- •3.5.3. Особенности работы фотодиодов
- •3.5.4. Описание установки
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •3. Исследование параметров электрического сигнала от генератора
- •6. Определение параметров импульса эдс от облучаемого фотодиода
- •10. Определение параметров импульса в цепи фоторезистора
- •11. Оценка параметров сигнала от резистора Rизм
- •16*. Исследование величины светового потока от светодиода
- •Отчетные материалы
- •Тема 4. Биполярные транзисторы Лабораторная работа №4.1
- •4.1. Характеристики биполярных транзисторов
- •4.1.1. Схемы включения биполярных транзисторов
- •4.1.2. Схема с общей базой
- •4.1.3. Схема с общим эмиттером
- •4.1.4. Описание установки
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Исследование схемы с общей базой
- •1.2. Исследование входных характеристик транзистора в схеме об
- •1.6. Исследование выходных характеристик транзистора в схеме об
- •1.12*. Исследование характеристики обратной связи в схеме об
- •1.14. Исследование характеристик передачи тока в схеме об
- •2. Исследование схемы с общим эмиттером
- •2.2. Исследование входных характеристик транзистора в схеме оэ
- •2.6. Исследование выходных характеристик транзистора в схеме оэ
- •2.11*. Исследование характеристики обратной связи в схеме оэ
- •2.13. Исследование характеристики передачи тока в схеме оэ
- •Отчетные материалы
- •Тема 5. Полевые транзисторы Лабораторная работа № 5.1
- •5.1. Характеристики полевого транзистора
- •5.1.1. Полевой транзистор с управляющим p-n-переходом
- •5.1.2. Полевой транзистор с изолированным затвором
- •5.1.3. Особенности схемы измерения
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •2. Исследование стоковой (выходной) характеристики
- •Отчетные материалы
- •Тема 6. Элементы технологии производства имс Лабораторная работа № 6.1
- •6.1. Элементы технологии изготовления имс
- •6.1.1. Классификация имс
- •6.1.2. Понятие о технологическом цикле производства имс
- •6.1.3. Производство планарного биполярного транзистора
- •6.1.4. Производство планарного полевого транзистора
- •6.1.5. Структура транзисторов статических микросхем памяти
- •6.1.6. Общие сведения о топологии микросхем памяти
- •6.1.7. Описание установки и процедуры испытаний
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Исследование элементов технологии гибридных имс
- •1.4. Исследование сопротивления резисторов на бгис
- •2. Исследование элементов технологии твердотельных имс
- •2.4. Градуировка окуляров с помощью дифракционной решетки
- •3. Исследование твердотельных микросхем на установке "мим"
- •4. Анализ топологии и параметров микросхемы памяти
- •Отчетные материалы
- •Задачи по темам Аналоговая и Цифровая Электроника
- •П2. Диоды и тиристоры
- •П3. Источники вторичного напряжения
- •П4. Транзисторы
- •П5. Аналоговые устройства
- •П6. Операционные усилители и схемы на их основе
- •П7. Преобразовательные устройства и генераторы
- •П8. Стабилизаторы
- •П9. Логические микросхемы
- •П10. Логические схемы
- •П11. Схемы на лэ
- •П12. Триггеры
- •П13. Регистры и счетчики
- •П14. Преобразователи кодов
- •П15. Мультиплексоры, демультиплексоры, сумматоры
- •П16. Цифро-аналоговые преобразователи
- •П17. Микросхемы (технология и устройство)
- •Рекомендуемая литература Основная литература
- •Дополнительная
Отчетные материалы
В лабораторной тетради представляются:
– заполненные таблицы;
– выполненные расчеты и построенные экспериментальные зависимости: (t, oС) и (t, oС) для металла (на одном графике с разными осями);
– рассчитанные значения 20 и для металла;
– выполненные расчеты и построенные экспериментальные зависимости: R(t), (t, oС) и (t, oС) для полупроводника (на одном графике с разными осями);
– зависимость lnR(1/T, K–1) для полупроводникового материала;
– рассчитанные значения Ез и В для полупроводникового материала;
– выводы в письменном виде, сравнение полученных экспериментальных данных с табличными значениями.
К защите представляется РГЗ с задачами по теме ″Проводимость диэлектриков″, Проводимость металлов″, ″Проводимость полупроводников″.
Лабораторная работа № 2.2
″Исследование параметров варисторов″
Цели работы: исследование контактных явлений в полупроводниковых приборах, изучение принципа работы варистора.
Приборы и принадлежности: полупроводниковый варистор типа СН1, источник напряжения цепи постоянного тока, измеритель малых токов ИМТ, термостат.
2.2. Общие сведения
Варистор (переменный резистор) – полупроводниковый прибор, сопротивление которого зависит от приложенного напряжения.
Варисторы изготавливают, используя метод керамической технологии, который заключается в следующем. Основой для изготовления варисторов являются так называемые полупроводники группы AIYBIY, единственным представителем этой группы является соединение элементов IY группы – карбид кремния (SiC). Ширина запрещенной зоны Eз, определяющая собственную проводимость для различных кристаллических модификаций монокристаллического карбида кремния изменяется от 3 до 6 эВ. Однако, поскольку в материале может быть значительное количество как донорных, так и акцепторных примесей, энергия их активации Eпр изменятся в широких пределах до нескольких десятых эВ. Примесная проводимость осуществляется до температур 600 оС, после чего происходит собственная проводимость.
Кристаллический материал размельчают, смешивают со стеклообразующей основой (глина, жидкое стекло, органические лаки и другие), после чего порошкообразный карбид кремния запрессовывают вместе со связующим веществом в форму (цилиндра или таблетки) и спекают при температуре 1700 оС.
Композиционную структуру материала можно представить как совокупность микромонокристаллов карбида кремния (размером зерен от 40 до 300 мкм), поверхностно разделенных между собой, с одной стороны, тонкими слоями окисных пленок (рис. 2.2, а), с другой стороны, различные микрокристаллы многократно соприкасаются между собой посредством точечных микроконтактов, условно представленных на рис. 2.2, б.
Исследование вольтамперной характеристики варистора производится с помощью схемы, изображенной на рис. 2.3, а. Исследуемый элемент 1 помещается в термостат 2 для его нагрева. Напряжение подается от источника питания 3, ток и напряжение контролируется приборами 4, 5.
а) б)
Рис. 2.2. Строение поликристаллического варистора (а) и границы кристаллов (б)
По мере увеличения напряжения на варисторе ток растет нелинейно независимо от полярности напряжения (рис. 2.3, б, сплошная линия), при этом сопротивление материала резко уменьшается (пунктирная линия).
а) б)
Рис. 2.3. Схема измерения (а) и ВАХ (б) варистора
Процессы, протекающие в варисторе, описываются моделями:
а) туннелирования носителей заряда через диэлектрические пленки на границе "полупроводник – диэлектрик", т. е. протекания электрических зарядов через поверхностные потенциальные барьеры на границах между зернами;
б) прохождения носителей через точечные контакты между микрокристаллами.
Поскольку поверхностные диэлектрические пленки имеют малую проводимость и толщину, то в них возникают сильные электрические поля даже при малых напряжениях на варисторе. Высокие значения напряженности электрических полей связаны с тем, что фактически напряжение падает не в объеме карбида кремния, а на тонких изоляционных диэлектрических пленках.
Высокие электрические поля приводят к нелинейному возрастанию вероятности туннелирования носителей заряда сквозь потенциальные барьеры тонких оксидных пленок, вследствие чего происходит резкое увеличение проводимости кристаллов карбида кремния. Именно этим при малых напряжениях на варисторе обусловлен начальный линейный участок 1 вольтамперной характеристики (рис. 2.3, б), характеризуемый относительно малыми токами и большими значениями сопротивления постоянному току.
При увеличении напряжения (рис. 2.3, участок 2) на варисторе токи нелинейно возрастают; в этом диапазоне напряжений начинают играть роль точечные контакты. При относительно больших токах, проходящих через варистор, плотность тока в точечных контактах оказывается очень большой. Сопротивление контактов повышенное, поэтому на них падает практически все подведенное к прибору напряжение, и вследствие этого именно в области контактов происходит интенсивный разогрев за счет джоулевского тепла. Удельная мощность, выделяемая в точечных контактах, достигает больших значений. Из-за выделения джоулевской энергии на контактах их проводимость (как полупроводниковых структур) увеличивается, и сопротивление нелинейно уменьшается (на ВАХ участок 2).
Количественно процесс протекания тока через контакт может быть описан следующим образом. Точечный контакт к полупроводниковому материалу может быть интерпретирован как диод Шоттки [1]. Поэтому можно считать, что на границе раздела образуются структуры типа р-n-переходов [1] с нелинейной вольтамперной характеристикой.
Схематически структура точечного перехода представлена на рис. 2.2, б. Можно считать, что имеется полупроводник n-типа, к которому "приставлено" тонкое острие; в результате взаимодействия образуется р-n-переход, аналогичный структуре диода Шоттки [1].
Сопротивление структуры варистора определяется соотношением
,
(2.10)
где A – постоянная, Eз – ширина запрещенной зона материала, k - постоянная Больцмана, Т – абсолютная температура, К.
а) б) в)
Рис. 2.4. Характеристики варистора
Логарифмируя соотношение (2.10) получим:
lnR(T) = lnA + (Eз/2k)(1/T). (2.11)
Экспериментально исследуется зависимость R(t, оС) (рис. 2.4, а). Затем, построив зависимость lnR(1/T) (б), можно вычислить ширину запрещенной зоны Ез (или энергию активации примесей Епр) в кристаллах карбида по соотношению:
Eз = 2k·(lnR2 – lnR1)/(1/T2 – 1/T1). (2.12)
Варистор имеет следующие параметры и характеристики.
1. Вольтамперная характеристика (рис. 2.3, б).
2. Коэффициент нелинейности варистора (U) отношение статического R и дифференциального rd сопротивлений при заданном постоянном напряжении U на варисторе:
(U) R/rd = (U/I)/(dU/dI)|U = (U/I)dI/dU|U. (2.13)
В форме конечных разностей имеем
U/I)I/U|U. (2.14)
Величина (U) в области рабочих напряжений изменяется по кривой с максимумом (рис. 2.4, в), не превышая значения 6.
3. Коэффициент температурной чувствительности поверхностных слоев кристаллов карбида кремния:
В = ЕпрТ. (2.15)
4. Температурные коэффициенты статического сопротивления при постоянном напряжении:
ТКRU = const = (1/R)(dR/dT)U=const, (2.16)
или при постоянном токе:
ТКRI = const = (1/R)(dR/dT)I=const . (2.17)
При малых напряжениях на варисторе, когда коэффициент нелинейности = 1, т. е. на линейном участке вольтамперной характеристики, можно получить
ТКRU 0 = (1/R)(dR/dT)U 0 = –B/T2. (2.18)
Для варисторов в диапазоне температур от –40 до +100 оС величины: ТКRU = const < 7103 К1, ТКRI=const = (1/R)(dR/dT)I=const < 1,4103 К1.
Варисторы, как нелинейные резисторы, используются в низковольтных и высоковольтных электрических цепях для регулирования силы тока в зависимости от напряжения, а также для защиты цепей, в частности, линий электропередач, от перенапряжений. В частности, варистор включается параллельно защищаемому прибору, например, резистору Rн, как показано на рис. 2.3, а. В случае резкого увеличения напряжения в сети, а, значит, и на варисторе, его сопротивление кратковременно падает, и сетевой ток протекает не по защищаемому резистору Rн, а через варистор. После уменьшения напряжения в сети до номинального, сопротивление варистора восстанавливается.
Описание и применение нелинейных резисторов (на основе вилитов или тиритов) в вентильных разрядниках высоковольтных линий электропередач, для защиты электрических цепей, силитовых стержнях и т. п. приведено в рекомендованной литературе [1].