
- •Физические основы электроники Электрофизические методы исследования полупроводников и полупроводниковых приборов
- •Введение в настоящем пособии излагаются основные темы дисциплин, связанных с основами работы полупроводниковых приборов.
- •Требования к подготовке, выполнению и защите работ
- •Тема 1. Приборы, используемые для проведения исследований полупроводниковых приборов
- •1.1. Автоматические мосты переменного тока
- •1.2. Осциллографы
- •1.3. Генераторы
- •Тема 2. Проводимость полупроводников и металлов лабораторная работа № 2.1
- •2.1. Терморезисторы: термисторы и позисторы
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа № 2.2
- •2.2. Общие сведения
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Подготовка к работе
- •2. Исследование вольтамперной характеристики варистора
- •7. Исследование зависимости сопротивления от температуры
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа № 2.3
- •2.3. Определение типа носителей в полупроводниках
- •2.3.1. Метод термозонда
- •2.3.2. Метод Холла
- •2.3.3. Определение концентрации и подвижности носителей
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Определение типа носителей с помощью метода термозонда
- •1.1. Подготовка к работе
- •1.2. Определение типа носителей разных кристаллов
- •2. Исследования по методу Холла
- •2.1. Определение типа основных носителей в датчике Холла
- •2.3. Исследование вольтамперной характеристики датчика
- •2.4. Определение микропараметров кристалла датчика Холла
- •2.6. Определение зависимости эдс Холла от величины тока
- •2.9. Определение зависимости эдс Холла величины индукции в
- •Отчетные материалы
- •Тема 3. Полупродниковые диоды Лабораторная работа №3.1 ″Исследование полупроводниковых диодов″
- •3.1. Характеристики полупроводниковых диодов
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Начальные установки
- •2. Исследование вольтамперной характеристики диода при t0
- •2.1. Исследование прямой ветви вах диода д2
- •2.2. Исследование обратной ветви вах диода д2
- •3*. Исследование вах диодов различных типов
- •4. Исследование зависимости обратного тока диода от температуры
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа № 3.2
- •3.2. Полупроводниковые стабилитроны и стабисторы
- •3.3. Описание стенда
- •Измерения и обработка результатов
- •2. Исследование вольтамперной характеристики стабилитрона при комнатной температуре
- •5. Исследование влияния температуры на напряжение Uст
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа №3.3
- •3.4. Характеристики светодиодов
- •3.4.1. Управляемые источника света. Светодиоды
- •3.4.2. Строение светодиодов
- •3.4.3. Общие сведения об обозначении светодиодов
- •3.4.4. Особенности лабораторной установки
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа № 3.4
- •3.5. Общие сведения о фотоприемниках
- •3.5.2. Параметры и характеристики фоторезистора
- •3.5.3. Особенности работы фотодиодов
- •3.5.4. Описание установки
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •3. Исследование параметров электрического сигнала от генератора
- •6. Определение параметров импульса эдс от облучаемого фотодиода
- •10. Определение параметров импульса в цепи фоторезистора
- •11. Оценка параметров сигнала от резистора Rизм
- •16*. Исследование величины светового потока от светодиода
- •Отчетные материалы
- •Тема 4. Биполярные транзисторы Лабораторная работа №4.1
- •4.1. Характеристики биполярных транзисторов
- •4.1.1. Схемы включения биполярных транзисторов
- •4.1.2. Схема с общей базой
- •4.1.3. Схема с общим эмиттером
- •4.1.4. Описание установки
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Исследование схемы с общей базой
- •1.2. Исследование входных характеристик транзистора в схеме об
- •1.6. Исследование выходных характеристик транзистора в схеме об
- •1.12*. Исследование характеристики обратной связи в схеме об
- •1.14. Исследование характеристик передачи тока в схеме об
- •2. Исследование схемы с общим эмиттером
- •2.2. Исследование входных характеристик транзистора в схеме оэ
- •2.6. Исследование выходных характеристик транзистора в схеме оэ
- •2.11*. Исследование характеристики обратной связи в схеме оэ
- •2.13. Исследование характеристики передачи тока в схеме оэ
- •Отчетные материалы
- •Тема 5. Полевые транзисторы Лабораторная работа № 5.1
- •5.1. Характеристики полевого транзистора
- •5.1.1. Полевой транзистор с управляющим p-n-переходом
- •5.1.2. Полевой транзистор с изолированным затвором
- •5.1.3. Особенности схемы измерения
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •2. Исследование стоковой (выходной) характеристики
- •Отчетные материалы
- •Тема 6. Элементы технологии производства имс Лабораторная работа № 6.1
- •6.1. Элементы технологии изготовления имс
- •6.1.1. Классификация имс
- •6.1.2. Понятие о технологическом цикле производства имс
- •6.1.3. Производство планарного биполярного транзистора
- •6.1.4. Производство планарного полевого транзистора
- •6.1.5. Структура транзисторов статических микросхем памяти
- •6.1.6. Общие сведения о топологии микросхем памяти
- •6.1.7. Описание установки и процедуры испытаний
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Исследование элементов технологии гибридных имс
- •1.4. Исследование сопротивления резисторов на бгис
- •2. Исследование элементов технологии твердотельных имс
- •2.4. Градуировка окуляров с помощью дифракционной решетки
- •3. Исследование твердотельных микросхем на установке "мим"
- •4. Анализ топологии и параметров микросхемы памяти
- •Отчетные материалы
- •Задачи по темам Аналоговая и Цифровая Электроника
- •П2. Диоды и тиристоры
- •П3. Источники вторичного напряжения
- •П4. Транзисторы
- •П5. Аналоговые устройства
- •П6. Операционные усилители и схемы на их основе
- •П7. Преобразовательные устройства и генераторы
- •П8. Стабилизаторы
- •П9. Логические микросхемы
- •П10. Логические схемы
- •П11. Схемы на лэ
- •П12. Триггеры
- •П13. Регистры и счетчики
- •П14. Преобразователи кодов
- •П15. Мультиплексоры, демультиплексоры, сумматоры
- •П16. Цифро-аналоговые преобразователи
- •П17. Микросхемы (технология и устройство)
- •Рекомендуемая литература Основная литература
- •Дополнительная
Отчетные материалы
В лабораторной тетради представляются:
– заполненные таблицы для каждого из исследуемых светодиодов;
– экспериментальные зависимости ВАХ для всех исследуемых светодиодов (на одном графике)
– выполненные расчеты и ВАХ p-n-переходов исследуемых светодиодов без учета влияния резистивных слоев (на одном графике);
– расчетные данные для значений R, Uпр пред, Eз, и волн, излучаемых каждым исследуемым светодиодом.
К защите представляется РГЗ с задачами по темам: ″P-n-переход, ″Реальные диоды″, ″Светодиоды″.
Лабораторная работа № 3.4
″Исследование фоторезисторов и фотодиодов″
Цель работы: исследование электрических характеристик фотоприемников: фотодиодов, люксметра, фоторезисторов в режимах постоянного и импульсного тока.
Приборы и принадлежности: источник питания постоянного напряжения; генератор – источник импульсного электрического сигнала; осциллограф; люксметр; фотодиоды типа ФД-125; фоторезисторы типа СФ2-1, ФСД-1; измерительные приборы.
3.5. Общие сведения о фотоприемниках
Фотоприемники предназначены для преобразования энергии светового излучения в электрическую. В качестве фотоприемников используются фоторезисторы, фотодиоды, фототранзисторы, фототиристоры и т. д. [1].
Фотоэлектрические явления, лежащие в основе работы фотоприемников, можно разделить на три основных вида:
1) внутренний фотоэффект (фоторезистивный эффект) – изменение электропроводимости полупроводника при его освещении;
2) фотоэффект в запирающем слое p-n-перехода – возникновение ЭДС под действием света на границе раздела двух полупроводников p- и n-типа;
3) внешний фотоэффект – испускание веществом электронов под действием света (в вакуумных и газонаполненных фотоэлементах).
3.5.1. Фоторезисторы
В затемненном полупроводнике имеется незначительное количество равновесных свободных (подвижных) носителей заряда (электронов и дырок). Равновесные носители заряда создаются за счет теплового поля; концентрация равновесных носителей (как основных, так и неосновных) возрастает с ростом температуры (см. тему 2).
При этом считается, что за счет равновесных носителей полупроводник обладает начальной проводимостью т, которая носит название темновой:
т = e(n0n + p0 p), Ом–1м–1, (3.15)
где e – заряд электрона; n0, p0 концентрация (м–3) равновесных носителей заряда в полупроводнике в неосвещенном состоянии.
При облучении светом в фоторезисторах реализуется внутренний фотоэффект явление изменения проводимости материала под действием инфракрасного, видимого или ультрафиолетового излучения.
Рассмотрим механизм возникновения фотопроводимости в материале при облучении (рис. 3.15, а) фоторезистора импульсным светом со временем импульса tи (рис. 3.15, в).
Рис. 3.15. Фоторезистор (а), его УГО (б), осциллограммы параметров (в-е)
Под действием света появляются дополнительные свободные носители заряда, которые, в отличие от равновесных, называются неравновесными. При выключении света неравновесные носители постепенно исчезают (см. ниже), так что в темноте проводимость вновь определяется равновесными носителями.
Таким образом, при облучении в объеме материала увеличивается концентрация свободных носителей за счет дополнительной генерации неравновесных носителей заряда. Возможны различные механизмы генерации неравновесных носителей [4]: собственная (биполярная) и примесная фотогенерация. При собственной (биполярной) генерации в объеме материала образуются дополнительные электронно-дырочные пары, при примесной – только электроны или дырки.
При фоторезистивном эффекте по мере облучения светом в результате фотогенерации в полупроводнике увеличивается концентрация носителей заряда на величину концентрации неравновесных электронов n и (или) дырок p, так что его полная проводимость общ резко возрастает:
общ = e(n0 + n)n + (p0 + p) p). (3.16)
Изменение электропроводимости полупроводника под действием света характеризует величину его фотопроводимости ф:
ф = = (общ т) = е( nn + pp), (3.17)
которая изменяется в зависимости от яркости, длины волны и т. п.
Темновым значением т проводимости можно пренебречь, потому что оно крайне мало по сравнению со значением фотопроводимости.
При включении потока (рис. 3.15, в) облучающего света Ф (лм) в момент времени t1 скорость процесса генерации неравновесных носителей заряда не сразу достигает стационарного значения, соответствующего интенсивности падающего излучения, а нарастает со временем до момента t2 по экспоненциальному закону (рис. 3.15, д). Концентрация неравновесных носителей n(t) изменяются по соотношению [4]:
n(t) = С(1 et/), (3.18)
где время жизни неравновесных носителей заряда, c; C скорость рекомбинации неравновесных носителей, определяемая следующим образом:
C = NΨ, 1/м3с, (3.19)
где N концентрация фотонов, падающих на единицу площади за 1 секунду, 1/м3с; – коэффициент поглощения, характеризующий энергию, поглощенную полупроводником; Ψ квантовый выход, определяющий число носителей заряда, образующихся при поглощении одного фотона, Ψ ≥ 1.
Соответственно изменяется и проводимость материала (рис. 3.15, г). Если время облучения (время светового импульсаtи) достаточно велико: tи (3 – 5) , то концентрация неравновесных носителей заряда достигает своего стационарного значения в момент времени t3.
Например, при биполярной генерации концентрации появляющихся неравновесных дырок и электронов одинаковы:
nст(t2) = pст(t2) = С = NY. (3.20)
При примесной фотопроводимости происходит генерация носителей одного знака, причем их концентрация в переходных режимах также изменяется по аналогичному (3.18) экспоненциальному закону.
При выключении облучающего потока света в момент времени t3 изменение концентрации неравновесных носителей заряда и проводимости материала не может произойти мгновенно, так как для рекомбинации электронов с дырками (рис. 2.6, а, переход II) требуется определенное время – время жизни неравновесных носителей заряда. Именно поэтому после выключения света фотопроводимость не исчезает ″мгновенно″.
Явление постепенного изменения ф(t) при включении и выключении облучающего потока называют релаксацией фотопроводимости.
Начиная с момента выключения (рис. 3.15. г, д, е), параметры фоторезистора описываются выражениями
n(t) = nстet/, (3.21)
ф(t) = oбщet/ , (3.22)
где nст, oбщ параметры материала в момент выключения света.
Например, в момент выключения t0 (рис. 3.15, е) значение концентрации неравновесных носителей равно nст. C учетом соотношения (3.21) и (3.22) время жизни экспериментально может быть определено как время, в течение которого концентрация носителей (или проводимость) уменьшается на 63 % (в e ≈ 2,71) раз по сравнению тем исходным значением, которое было в момент выключения:
n() = nстe/ = nст/e. (3.23)
Значение может быть рассчитано по экспериментальным данным (рис. 3.15, е).