
- •Физические основы электроники Электрофизические методы исследования полупроводников и полупроводниковых приборов
- •Введение в настоящем пособии излагаются основные темы дисциплин, связанных с основами работы полупроводниковых приборов.
- •Требования к подготовке, выполнению и защите работ
- •Тема 1. Приборы, используемые для проведения исследований полупроводниковых приборов
- •1.1. Автоматические мосты переменного тока
- •1.2. Осциллографы
- •1.3. Генераторы
- •Тема 2. Проводимость полупроводников и металлов лабораторная работа № 2.1
- •2.1. Терморезисторы: термисторы и позисторы
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа № 2.2
- •2.2. Общие сведения
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Подготовка к работе
- •2. Исследование вольтамперной характеристики варистора
- •7. Исследование зависимости сопротивления от температуры
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа № 2.3
- •2.3. Определение типа носителей в полупроводниках
- •2.3.1. Метод термозонда
- •2.3.2. Метод Холла
- •2.3.3. Определение концентрации и подвижности носителей
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Определение типа носителей с помощью метода термозонда
- •1.1. Подготовка к работе
- •1.2. Определение типа носителей разных кристаллов
- •2. Исследования по методу Холла
- •2.1. Определение типа основных носителей в датчике Холла
- •2.3. Исследование вольтамперной характеристики датчика
- •2.4. Определение микропараметров кристалла датчика Холла
- •2.6. Определение зависимости эдс Холла от величины тока
- •2.9. Определение зависимости эдс Холла величины индукции в
- •Отчетные материалы
- •Тема 3. Полупродниковые диоды Лабораторная работа №3.1 ″Исследование полупроводниковых диодов″
- •3.1. Характеристики полупроводниковых диодов
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Начальные установки
- •2. Исследование вольтамперной характеристики диода при t0
- •2.1. Исследование прямой ветви вах диода д2
- •2.2. Исследование обратной ветви вах диода д2
- •3*. Исследование вах диодов различных типов
- •4. Исследование зависимости обратного тока диода от температуры
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа № 3.2
- •3.2. Полупроводниковые стабилитроны и стабисторы
- •3.3. Описание стенда
- •Измерения и обработка результатов
- •2. Исследование вольтамперной характеристики стабилитрона при комнатной температуре
- •5. Исследование влияния температуры на напряжение Uст
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа №3.3
- •3.4. Характеристики светодиодов
- •3.4.1. Управляемые источника света. Светодиоды
- •3.4.2. Строение светодиодов
- •3.4.3. Общие сведения об обозначении светодиодов
- •3.4.4. Особенности лабораторной установки
- •Отчетные материалы
- •Лабораторная работа № 3.4
- •3.5. Общие сведения о фотоприемниках
- •3.5.2. Параметры и характеристики фоторезистора
- •3.5.3. Особенности работы фотодиодов
- •3.5.4. Описание установки
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •3. Исследование параметров электрического сигнала от генератора
- •6. Определение параметров импульса эдс от облучаемого фотодиода
- •10. Определение параметров импульса в цепи фоторезистора
- •11. Оценка параметров сигнала от резистора Rизм
- •16*. Исследование величины светового потока от светодиода
- •Отчетные материалы
- •Тема 4. Биполярные транзисторы Лабораторная работа №4.1
- •4.1. Характеристики биполярных транзисторов
- •4.1.1. Схемы включения биполярных транзисторов
- •4.1.2. Схема с общей базой
- •4.1.3. Схема с общим эмиттером
- •4.1.4. Описание установки
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Исследование схемы с общей базой
- •1.2. Исследование входных характеристик транзистора в схеме об
- •1.6. Исследование выходных характеристик транзистора в схеме об
- •1.12*. Исследование характеристики обратной связи в схеме об
- •1.14. Исследование характеристик передачи тока в схеме об
- •2. Исследование схемы с общим эмиттером
- •2.2. Исследование входных характеристик транзистора в схеме оэ
- •2.6. Исследование выходных характеристик транзистора в схеме оэ
- •2.11*. Исследование характеристики обратной связи в схеме оэ
- •2.13. Исследование характеристики передачи тока в схеме оэ
- •Отчетные материалы
- •Тема 5. Полевые транзисторы Лабораторная работа № 5.1
- •5.1. Характеристики полевого транзистора
- •5.1.1. Полевой транзистор с управляющим p-n-переходом
- •5.1.2. Полевой транзистор с изолированным затвором
- •5.1.3. Особенности схемы измерения
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •2. Исследование стоковой (выходной) характеристики
- •Отчетные материалы
- •Тема 6. Элементы технологии производства имс Лабораторная работа № 6.1
- •6.1. Элементы технологии изготовления имс
- •6.1.1. Классификация имс
- •6.1.2. Понятие о технологическом цикле производства имс
- •6.1.3. Производство планарного биполярного транзистора
- •6.1.4. Производство планарного полевого транзистора
- •6.1.5. Структура транзисторов статических микросхем памяти
- •6.1.6. Общие сведения о топологии микросхем памяти
- •6.1.7. Описание установки и процедуры испытаний
- •Подготовка к работе
- •Измерения и обработка результатов
- •1. Исследование элементов технологии гибридных имс
- •1.4. Исследование сопротивления резисторов на бгис
- •2. Исследование элементов технологии твердотельных имс
- •2.4. Градуировка окуляров с помощью дифракционной решетки
- •3. Исследование твердотельных микросхем на установке "мим"
- •4. Анализ топологии и параметров микросхемы памяти
- •Отчетные материалы
- •Задачи по темам Аналоговая и Цифровая Электроника
- •П2. Диоды и тиристоры
- •П3. Источники вторичного напряжения
- •П4. Транзисторы
- •П5. Аналоговые устройства
- •П6. Операционные усилители и схемы на их основе
- •П7. Преобразовательные устройства и генераторы
- •П8. Стабилизаторы
- •П9. Логические микросхемы
- •П10. Логические схемы
- •П11. Схемы на лэ
- •П12. Триггеры
- •П13. Регистры и счетчики
- •П14. Преобразователи кодов
- •П15. Мультиплексоры, демультиплексоры, сумматоры
- •П16. Цифро-аналоговые преобразователи
- •П17. Микросхемы (технология и устройство)
- •Рекомендуемая литература Основная литература
- •Дополнительная
2.3.3. Определение концентрации и подвижности носителей
Концентрация n носителей заряда и их подвижность могут быть определены с помощью схемы измерения, приведенной на рис. 2.5, б.
В равновесии поле Холла компенсирует силу Лоренца
еЕХ = evдрnB. (2.20)
Умножая обе части выражения (2.20) на высоту образца b, получаем, что разность потенциалов (ЭДС Холла) между верхним и нижним электродами UХ равна
UХ = EХb = vдрnBb. (2.21)
Учитывая взаимосвязь между током Iп, плотностью тока jп в полупроводнике, концентрацией носителей заряда n и их дрейфовой скоростью vдрn:
R = U/I = l/S = l/S = l/bd, (2.22)
j = I/S = I/bd, (2.23)
vдрn = nEХ, (2.24)
j = E= ennnE = ennnUп/l, (2.25)
Iп = jbd = enn, (2.26)
получаем, что напряжение Холла равно
UХ = jBb/enn = IпB/ennd, (2.27)
где d – толщина образца.
Подвижность n и концентрация носителей nn заряда могут быть определены, если, например, из эксперимента известны значения напряжения Uп на образце длиной l, индукция В и напряжение Холла UХ.
n = Iпl/ennUпbd= lUХ/bUпB, (2.28)
nn = IпB/edUХ. (2.29)
С учетом приведенных выше соотношений, следует ожидать (покажите самостоятельно), что зависимости Iп(Uп)|B=0, Ux(Iп)|B, Ux(B)|Iп, исследуемые в работе, описываются линейными функциями (рис. 2.5, б - г).
Для практических целей используется коэффициент Холла Rn (или Rр), рассчитываемый по формулам:
Rn = 1/enn (или Rр = 1/eрp), м3/Кл . (2.30)
Эффект Гаусса – явление отклонения заряженных частиц от прямолинейного движения при одновременном действии электрического и магнитного поля, связанное с действие силы Лоренца на электроны или дырки. Вследствие этого явления изменяется электрическое сопротивление кристалла. Полупроводниковые приборы, действие которых основано на эффекте Гаусса, называются магниторезисторами. Характеристикой магниторезисторов является магнитосопротивление (R/R0), определяемое как
R(B)/R0 = [R(B) – R0]/R0 = C2B2. (2.31)
где R0 – сопротивление образца в отсутствие магнитного поля, С - постоянная.
Анализ гальванотермомагнитных явлений, применение датчиков Холла описано в пособии [1].
Подготовка к работе
Работа относится к темам: ″Проводимость полупроводников″, ″Гальваномагнитные явления″. Предварительно необходимо выполнить задания контрольной работы (РГЗ).
В "заготовке" к работе следует:
– описать методы термозонда и Холла; зарисовать схемы испытаний;
– выписать формулы, на основе которых определяются подвижность и концентрация носителей;
– используя табличные данные, записать значения ni и для собственных кристаллов германия и кремния при 300 К (табл. 2.5).
– изучить и зарисовать строение датчика Холла;
– описать теоретические зависимости Iп(Uп), Ux(Iп)|B, Ux(B)|Iп датчика;
– изучить вопросы применения датчиков Холла;
– ознакомиться с работой мнемосхемы исследования эффекта Холла и термозонда.
Таблица 2.5
-
Материал
Ge
Si
ni, м–3
?
?
pi, м–3
?
?
n, м2/Вс
?
?
p, м2/Вс
?
?