- •1. Уровни энергии электронов в кристалле.
- •2. Тепловая генерация электронно-дырочных пар
- •3. Энергия электронов в кристалле полупроводника
- •4. Проводимость полупроводников
- •5. Примесные полупроводники
- •6. Понятие о фононах
- •1. Концентрация носителей заряда в собственном полупроводнике
- •2. Концентрация носителей заряда
- •3. Электропроводность полупроводников
- •4. Эффект Холла
- •1. Собственное поглощение света при прямых переходах
- •2. Собственное поглощение света при непрямых переходах
- •3. Примесное поглощение света
- •4. Равновесные и неравновесные носители заряда
- •5. Механизмы рекомбинации
- •6. Поверхностная рекомбинация
- •7. Релаксация неравновесных носителей заряда
- •8. Фотопроводимость
- •1. Электронно-дырочный переход
- •2. Равновесное состояние р-n-перехода
- •3. Контактная разность потенциалов
- •4. Толщина р-n-перехода
- •5. Токи в равновесном р-n-переходе
- •8. Вольт-амперная характеристика р-n-перехода
- •9. Барьерная емкость р-n-перехода
- •10. Пробой р-n-перехода
- •1. Вырожденные полупроводники
- •2. Неравновесные носители заряда
- •3. Излучательная рекомбинация
- •4. Прямые и непрямые переходы
- •5. Поглощение и усиление света в полупроводниках
- •6. Принцип действия полупроводникового квантового генератора
- •7. Инжекционные полупроводниковый квантовый генератор
- •8. Зависимость мощности оптического
- •9.Спектр излучения
- •10. Расходимость излучения
6. Понятие о фононах
Колебания кристаллической решетки – это тепловые колебания атомов любого кристаллического тела, находящегося при температуре, отличной от абсолютного нуля. Колебания решетки представляют собой упругие волны различной длины. На больших частотах, когда длина упругой волны сопоставима с межатомным расстоянием, начинает сказываться дискретная атомная структура и проявляются квантовые эффекты.
Порции, кванты энергии упругих колебаний кристаллической решетки, были названы фононами. Фононы обладают энергией Ефони импульсомpфон:
Ефон= hνфон;pфон= h/λфон,
где h– постоянная Планка,νфон и λфон– частота и длина волны фонона. Нижняя граница частот фонона определяется размерами кристалла и скоростью звука, верхняя – удвоенным периодом кристаллической решетки а;для кристаллов полупроводников составляет примерно 1013Гц, при= 2а ≈ 10-9м.
Энергия колебаний кристаллической решетки примерно равна сумме энергий фононов. Число фононов с определенной энергией линейно возрастает с температурой.
Использование понятие «фонон» оказалось очень удобным для описания процессов, связанных с кристаллической решеткой. Фононы могут взаимодействовать друг с другом и другими частицами, например электронами, частично или полностью передавая им свою энергию; при этом могут возникать новые фононы, и т.д. рассеяние носителей заряда при взаимодействии с фононами – основной механизм электросопротивления кристаллических проводников
Лабораторная работа № 1
ОПРЕДЕЛЕНИЕ ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК
ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО КРИСТАЛЛА
Цель работы: теоретическое и экспериментальное изучение зависимостей концентрации, подвижности носителей заряда и электропроводности полупроводникового кристалла от температуры с использованием эффекта Холла.
Т е о р е т и ч е с к а я ч а с т ь
1. Концентрация носителей заряда в собственном полупроводнике
Средняя энергия, получаемая электроном от тепловых колебаний решетки, примерно равна kT. Если уровень Ферми находится в пределах запрещенной зоны, то полупроводник является невырожденным. Для невырожденного полупроводника Ec-EF> kТ ≈ 0.026 эВ при Т = 300 К и в выражении (В.4) можно пренебречь единицей в знаменателе и записать его в виде
fn(E) = exp[-(E – EF)/kT]
Концентрация электронов, находящихся в зоне проводимости, равна произведению числа имеющихся уровней на вероятность их заполнения. При обычных температурах заняты уровни вблизи дна зоны проводимости, так что в качестве энергии Е можно подставить энергию Ес. Тогда концентрация электронов в зоне проводимости
nо=Nc exp[-(Ec–EF)/kT] (1.1)
где Nc– эффективное число состояний в зоне проводимости, приведенное ко дну зоны. Например для германия Ge Nc = 1,04·1019см-3; аналогично для дырок в валентной зоне:
po = Nv·exp[-(EF – Ev)/kT], (1.2)
где Nv– эффективное число состояний в валентной зоне, приведенное к потолку зоны; для GeNv= 6,0·1018 см-3; Ncи Nvзависят от температуры пропорционально Т3/2.
Из соотношений (1.1) и (1.2) следует, что концентрация носителей заряда для конкретного полупроводника определяется положением уровня Ферми. Положение уровня Ферми в условиях теплового равновесия можно определить из условия электронейтральности, согласно которому суммарный заряд всех заряженных частиц кристалла полупроводника должен быть равен нулю. В случае собственного полупроводника условие электронейтральности можно выразить уравнением
no=po. (1.3)
Подставляя (1.1) и (1.2) в уравнение (1.3), получим
. (1.4)
После логарифмирования (1.4) находим, что
. (1.5)
Из (1.5) видно, что уровень Ферми в собственном полупроводнике при Т = 0 К расположен в середине запрещенной зоны. Собственная концентрация носителей заряда с учетом (1.1), (1.2) и (1.3) равна
. (1.6)
Зависимость ni от Т удобно строить в полулогарифмических координатах. Логарифмируя (1.6) находим
.
Если по оси абсцисс отложить 1/Т, а по оси ординат lnni, то получится прямая, тангенс угла которой определяется величиной ΔEg/2k. На рис. 1.1 приведены зависимости от Т дляGeи арсенида галлияGaAs. Видно, что niсильно зависит от ΔEgи Т.
Соотношение no =po = ni является математической формулировкой закона, названного законом действующих масс. Этот закон справедлив для любого невырожденного полупроводника и показывает, что при данной температуре произведение равновесных концентраций электронов и дырок есть величина постоянная и зависящая только от свойств полупроводника. В частном случае собственного полупроводника no= рo, но во многих других случаях no≠ рo, и закон действующих масс позволяет вычислить концентрацию одного из носителей заряда, если известна концентрация носителей заряда противоположного знака.