4. Методика выполнения работы

Экспериментальная часть работы проводится на формных пластинах плоской офсетной печати с позитивным и негатив-_ным копировальными слоями. Степень фотохимических и физи­ко-химических превращений в копировальных слоях определя­ется на печатной форме, полученной после экспонирования и проявления.

С этой целью используется метод, основанный на экспонирова­нии ступенчатой полутоновой шкалы СПШ-К (рис. 3.3) с констан­той 0,15 единицы оптической плотности и в интервале оптических плотностей на 10 полях от Di=0,15 до D₁₀—1,5 и дополнительно с 11-м полем с Dn=2,0. На рис. 3.3, а показано схематическое изображе­ние этой шкалы, на котором частотой штриховки обозначено изме­нение оптических плотностей. За каждым полем шкалы копиро­вальному слою сообщаются различные экспозиции, которые вызы­вают определенные физико-химические изменения в нем. После проявления (рис. 3.3, б, в) слой под одними полями шкалы удаляется полностью, под другими частично остается, под третьими сохраня­ется полностью.

Рис. 3.3. Формирование изображения шкалы СПШ-К (а) на проявленных копиях: полученных на негативном (б) и позитивном (в) копировальных слоях

Оптимальные режимы экспонирования должны обеспечивать следующие условия:

• для негативного слоя (рис. 3.3,6) такую степень изменений в копировальном слое под прозрачными участками фотоформы, которая обеспечивает полную сохраняемость слоя при проявле­нии копии, в то время как под непрозрачными участками слой не должен изменять свою растворимость и полностью удаляться при проявлении;

• для позитивного слоя (рис. 3.3, в) полное разрушение слоя под прозрачными участками фотоформы с последующим удалением

■ его при проявлении, а под непрозрачными участками слой не должен изменять свои первоначальные свойства. При проведении работы в качестве модельной используется фо­тоформа, содержащая ступенчатую полутоновую шкалу СПШ-К и фрагменты текста.

5. Порядок выполнения работы

1. Нарезать образцы формных пластин с позитивным и нега­тивным копировальными слоями.

2. Разместить модельную фотоформу на копировальном слое формной пластины (эмульсионной стороной к копировальному слою).

3. Провести экспонирование образцов формных пластин (ре­жимы экспонирования задаются лаборантом или преподавателем).

4. Проявить полученные копии в соответствующих проявляю­щих растворах при температуре 18-20° С в течение 1 минуты. (До­пускается в лабораторной работе использование кюветы для прояв­ления ручным способом).

5. Высушить проявленные копии под вентилятором или в су­шильном шкафу.

6. Оценить результаты экспонирования по показаниям шкалы СПШ-К и воспроизведению изображения фотоформы.

7. Оформить отчет по выполненной работе.

6. Оборудование и инструменты

1. Копировальный станок LitCop.

2. Процессор для обработки копий Matricola SV86E.

3. Модельная фотоформа.

4. Цинкорубильный станок.

5. Секундомер.

6. Термометр спиртовой.

7. Сушильный шкаф.

7.Материалы и рабочие растворы

1. Монометаллические формные пластины с позитивным и не­гативным копировальными слоями типа Agfa, Fuju.

2. Растворы, рекомендованные для проявления формных пла­стин различных типов.

8. Содержание письменного отчета

8.1. Наименование, цель и содержание работы, дата ее выполнения.

2. Описание модельной фотоформы.

3. Характеристика применяемого оборудования, инструментов и используемых формных пластин.

4. Показания шкалы СПШ-К (табл. 3.1).

5. Выводы по работе.

Таблица 3.1

Показания шкалы СПШ-К

№ п/п	Тип копировального слоя	Режим экспонирования и обработки	Количество полностью проявленных или полностью сохранившихся полей

Литература

1.Технологические инструкции на процесс изготовления офсет­ных печатных форм, М., 1998.

2. Киппхан Г. Энциклопедия по печатным средствам информа­ции. МГУП, 2003. С. 215-219.

Лабораторная работа № 4

Определение сенситометрических свойств

копировальных слоев

1. Цель работы

Ознакомиться с методикой определения интегральной светочув­ствительности негативных и позитивных копировальных слоев на примере формных пластин плоской офсетной печати.

2. Содержание работы

1. Изучить методику определения интегральной светочувствительности копировальных слоев.

2. Оценить интегральную светочувствительность негативных и позитивных копировальных слоев монометаллических формных пластин плоской офсетной печати.

3. Теоретическое обоснование

Сенситометрические свойства включают интегральную (общую) светочувствительность, спектральную чувствительность, контраст­ность и широту копировальных слоев.

Интегральная светочувствительность S является мерой воздей­ствия актиничного излучения на копировальный слой. Она устанав­ливает связь между стимулом, вызывающим физико-химические превращения и величиной этих превращений.

Спектральная чувствительность характеризует меру реакции регистрирующей среды на световое излучение оптического диапазона, например, ближнего УФ, и для ее расчета используется энергетиче­ская (м²/Дж), а не световая экспозиция.

Для целей практического использования применяется метод, осно­ванный на определении S по изменению технологических свойств. Со­гласно этому методу S оценивается величиной, обратно пропорцио­нальной экспозиции, вызвавшей в слое заранее заданный эффект. В качестве критерия при определении эффекта воздействия излучения используются характеристики пригодности слоя для целей формного и печатного процессов. Пригодность оценивается по наиболее сущест­венным технологическим признакам, то есть, достижению заранее за­данных рабочих свойств. Такими свойствами слоя являются: устойчи­вое закрепление изображения на копии после ее проявления, требуе­мые репродукционно-графические свойства, химическая устойчивость к обрабатывающим растворам. Эти cвойства оценивают визуально по наличию копировального слоя на проявленной копии (рис. 4.1).

Рис. 4.1. Схема копирования ступенчатого клина

I — распределение освещенности на копировальном слое; II — формирование

изображения на слоях: а — негативном, б — позитивном

согласно технологической инструкции для конкретного копировального слоя. Интегральную светочувствительность S рассчитывают по формуле:

(4.1)

где К — коэффициент пропорциональности (в проекте единой сен­ситометрической методики К=10⁸), H_D- экспозиция, равная:

где Е₀ — освещенность поверхности шкалы СПШ-К (в работе Е₀, лк, измеряется на поверхности стекла копировального станка); t — вре­мя экспонирования, мин; D — оптическая плотность поля шкалы СПШ-К, под которым копировальный слой сохранил или приобрел рабочие свойства.

Для определения этого поля после копирования шкалы СПШ-К и проявления копии определяют номер полностью проявленного поля, номер поля, где слой полностью сохранился, а затем рассчи­тывают номер поля, находящегося посередине между ними, оптиче­ская плотность Dкр которого и используется для расчета S по фор­муле:

где Dкр — оптическая плотность поля СПШ-К, соответствующего рассчитанному полю.

Метод используется для сравнения светочувствительности ко­пировальных слоев различных формных пластин.