- •Исследование параметров и характеристик диодов и стабилитронов
- •1. Краткие теоретические сведения
- •1.1. P-n-переход в состоянии равновесия
- •1.2. Прямое и обратное включение p-n-перехода
- •1.3. Вольт-амперная характеристика p-n-перехода
- •1.4. Полупроводниковый диод
- •1.5. Вольтамперная характеристика диода
- •1.6. Полупроводниковый стабилитрон
- •1.7. Вольтамперная характеристика и параметры стабилитрона
- •1.8. Параметрический стабилизатор на стабилитроне
- •2. Самостоятельная подготовка к выполнению лабораторной работы
- •2.1. Контрольные вопросы
- •3. Порядок выполнения лабораторной работы
- •3.1. Измерение напряжения на диоде
- •3.2. Вычисление и измерение тока, протекающего через диод, при прямом и обратномвключении источника питания
- •3.3. Измерение статического сопротивления диода
- •3.4. Снятие вольтамперной характеристики диода
- •3.5. Снятие вольтамперной характеристики стабилитрона
- •3.6. Исследование свойств параметрического стабилизатора
- •4. Список использованных источников
Лабораторная работа № 1
Исследование параметров и характеристик диодов и стабилитронов
Цель работы: закрепить теоретические знания о диодах и стабилитронах; научиться рассчитывать и измерять токи, напряжения и сопротивления диодов и стабилитронов; экспериментально получить вольтамперные характеристики диода и стабилитрона; исследовать стабилизирующие свойства стабилитрона.
Используемое оборудование и средства: персональный компьютер, программа Electronics Workbench.
Методические указания: работа выполняется студентами за четыре часа аудиторных занятий.
1. Краткие теоретические сведения
1.1. P-n-переход в состоянии равновесия
Электронно-дырочный, или p-n-переход, – область пространства на стыке двух полупроводников p- и n-типа, в которой происходит переход от одного типа проводимости к другому, рисунок 1.
Такой переход создается в одном кристалле полупроводника с использованием сложных технологических операций. Возможны различные исполнения p-n-перехода, отличающиеся: резкостью и уровнем изменения концентраций доноров и акцепторов на границе перехода, размером и формой самого перехода, а также наличием каких-либо неоднородностей в переходе. Все эти факторы оказывают существенное влияние на свойства p-n-перехода и используются для придания реальным полупроводниковым приборам тех или иных характеристик.
В полупроводнике p-типа концентрация дырок намного превышает концентрацию электронов. В полупроводнике n-типа концентрация электронов намного превышает концентрацию дырок. Если между двумя такими полупроводниками установить контакт, то возникнет диффузионный ток Iдиф – носители заряда, хаотично двигаясь, перетекают из той области, где их больше, в ту область, где их меньше. При такой диффузии электроны и дырки переносят с собой заряд. Как следствие, область на границе станет заряженной. Область в полупроводнике p-типа, которая примыкает к границе раздела, получит дополнительный отрицательный заряд, созданный оставшимися после рекомбинации свободных носителей отрицательными ионами акцепторной примеси, а пограничная область в полупроводнике n-типа получит положительный заряд, созданный положительными ионами донорной примеси. Таким образом, в тонком слое полупроводника у границы раздела р- и n-областей образуются две зоны пространственного заряда противоположного знака. Этот слой и представляет собой собственно р-n-переход, рисунок 1.
Рисунок 1 – p-n-переход в состоянии равновесия |
Между зонами пространственного заряда противоположного знака возникает диффузионное электрическое поле Едиф, созданное двумя слоями объемных зарядов. Этому полю соответствует разность потенциалов между p- и n-областями Uк, называемая контактной. За пределами области объемного заряда полупроводники p- и n-типа остаются электрически нейтральными. Разность потенциалов между p- и n-областями, или потенциальный барьер, составляет десятые доли вольта.
Величина контактной разности потенциалов на переходе определяется отношением концентраций носителей зарядов одного знака в p- и n- областях полупроводника. Ширина слоя объемных зарядов, так называемый запирающий слой, в p- и n-областях обратно пропорциональна концентрациям примесей в этих областях, т.е. в несимметричном переходе запирающий слой расширяется в область с меньшей концентрацией примеси. Удельное сопротивление полупроводника в области запирающего слоя существенно выше удельного сопротивления нейтральных областей.
В полупроводниках постоянно образуются и рекомбинируют тепловые электронно-дырочные пары, создавая неосновные носители (электроны в p-области и дырки в n-области). Диффузионное электрическое поле является тормозящим для основных носителей заряда и ускоряющим для неосновных. Электроны p-области и дырки n-области, совершая тепловое движение, попадают в пределы диффузионного электрического поля, увлекаются им и перебрасываются в противоположные области, образуя дрейфовый ток Iдр в направлении, противоположном диффузионному току Iдиф.
Так как через изолированный полупроводник ток проходить не должен, то между диффузионным и дрейфовым токами устанавливается динамическое равновесие.