- •3. Биполярные транзисторы (bt)
- •1. Устройство и принцип действия бт
- •1.1. Устройство транзистора
- •1.2. Принцип действия
- •1.3. Разновидности транзисторов
- •2. Статические характеристики идеализированного транзистора
- •2.1. Модель Эберса-Молла
- •2.2. Статические характеристики в схеме об
- •2.3. Статические характеристики в схеме оэ
- •Основные результаты
- •3. Усилительные свойства биполярного транзистора
- •3.1. Коэффициент переноса
- •3.2. Тепловые токи и эффективость эмиттера
- •3.3. Роль коэффициента переноса и эффективости эмиттера
- •3.4. Особенности вырожденного эмиттера
- •Основные результаты
- •4.4. Диффузионные емкости в транзисторе
- •Основные результаты
- •5. Вах реального транзистора
- •5.1. Особенности вах реального транзистора
- •5.2. Сопротивления базы и тела коллектора
- •5.3. Эффект Эрли
- •5.4. Низкочастотные эквивалентные схемы для нормального режима
- •5.5. Зависимости коэффициентов и от тока эмиттера
- •1) Область малых токов.
- •2) Область больших токов.
- •Основные результаты
- •6.2. Малосигнальные (линейные) эквивалентные схемы
- •6.3. Формализованные линейные эквивалентные схемы
- •6.4. Частотные свойства биполярного транзистора
- •Основные результаты
- •7. Особенности дрейфовых планарных транзисторов
- •7.1. Примесный профиль и встроенные электрические поля
- •7 Ec Ev f Ev.2. Распределение избыточных носителей заряда в базе
- •7 Ec Ev f Ev.3. Время пролета неосновных носителей через базу
- •7.4. Тепловые токи эмиттерного перехода
- •7.5. Коэффициент передачи эмиттерного тока
- •7.6. Частотная и переходная характеристика коэффициента передачи эмиттерного тока
- •7.7. Инверсные параметры
- •8. Современные структуры биполярного транзистора
- •8.1. Типовые транзисторные структуры
- •Латеральный (торцевой) р-п-ртранзистор
- •8.2. Перспективные транзисторные структуры
- •8.3. Мощные биполярные транзисторы и транзисторы свч
- •9. Модель Гумеля-Пуна
- •9.1. Метод Гуммеля-Пуна
- •Эмиттерного
5.4. Низкочастотные эквивалентные схемы для нормального режима
а) Идеальный транзистор.
Произвольный режим: Нормальный режим
IE I
I2
N
I1
I1
I2 IC IB E B C
IE N
IЕ
IС0 IC IB E B C
б) Реальный транзистор.
rB, r'C — сопротивления базы и тела коллектора.
rC (сопротивление коллекторного перехода) и
(коэффициент обратной связи) – следствия эффекта Эрли.
e, b, c — «внутренние» электроды эмиттера, базы, коллектора.
. (5.4.1)
При включении ОЭ в качестве аргумента для вычисления тока IC удобно использовать не ток IE (который не является ни входным, ни выходным),а входной ток IB.
IE = IC + IB. (5.4.2) Подставляя (5.4.2) в (5.4.1), получим:
, или
, (5.4.3)
где , (5.4.4)
. (5.4.5)
Уравнению (1) соответствует эквивалентная схема для включения ОЭ:
rB, r'C — сопротивления базы и тела коллектора.
rC (сопротивление коллекторного перехода) и
(коэффициент обратной связи) – следствия эффекта Эрли.
e, b, c — «внутренние» электроды эмиттера, базы, коллектора.
Обратная связь часто не учитывается.
При включении ОЭ кОм – заметный наклон выходных ВАХ:
Как и,.
Поэтому экстраполированные прямыми пологие участки ВАХ пересекают ось VСE приблизительно в одной точке VСE = VIRL ,
где VIRL — напряжение Эрли.
5.5. Зависимости коэффициентов и от тока эмиттера
Коэффициенты изависят от тока эмиттера:
.
1) Область малых токов.
С уменьшением IE снижается эффективность эмиттера.
Причина — ток рекомбинации-генерации в эмиттерном переходе .
.
поправка
;;
;
;.
2) Область больших токов.
В области больших токов эмиттера
.
Проявляются 2 эффекта: а) изменение граничных условий на эмиттерном переходе; б) эффект оттеснения эмиттерного тока.
а) Изменение граничных условий на эмиттерном переходе.
При высоком уровне инжекции в базе:
;
;
.С ростом IE(т.е. напряжения) это отношение увеличивается, иэффективность эмиттера снижается.
б) Эффект оттеснения эмиттерного тока.
Эффект проявляется при
.
С ростом эмиттерного тока ток оттесняется к базовому контакту.
Следствия:
1). Электроны инжектируются в пассивную базу. Возрастает TN.
2). Рекомбинация электронов происходит на поверхности пассивной базы. Снижается N .
В результате снижается коэффициент переноса
.
3). Снижается эффективная площадь эмиттерного перехода:
.
В результате повышается плотность эмиттерного тока , ВУИ наступает при меньших токах,снижается эффективность эмиттера.
Основные результаты
1). На ВАХ реального транзистора оказывают влияние сопротивления нейтральных областей базы и коллектора, токи рекомбинации-генерации в эмиттерном и коллекторном переходах, а также эффект Эрли — модуляция толщины базы напряжением на коллекторном переходе.
2). Эффект Эрли имеет 2 следствия: увеличение тока коллектора при возрастании напряжения коллектор-база в нормальном режиме и внутренняя обратная связь. Эффект Эрли ограничивает максимально достижимый коэффициент усиления по напряжению.
3). На эквивалентной схеме для нормального режима эффект Эрли учитывается сопротивлением коллекторного перехода , шунтирующим коллекторный переход, и генератором э.д.с. Vbc в цепи эмиттера.
4). При включении ОЭ выходное сопротивление транзистора в нормальном режиме в раз меньше, чем при включении ОБ.
5) При малых токах эмиттера усилительные свойства транзистора снижаются из-за токов рекомбинации в эмиттерном переходе, при больших — из-за изменения граничных условий на эмиттерном переходе и эффекта оттеснения эмиттерного тока.
6. Эквивалентные схемы биполярного транзистора
6.1. Эквивалентная схема для большого сигнала
на основе модели Эберса-Молла
Модель Эберса-Молла дополнена сопротивлениями базы и тела коллектора, а также барьерными и диффузионными емкостями. Скорректированы ВАХ диодов.
Функции I1(Vbe), I2(Vbc) могут учитывать реальные ВАХ переходов;
rB и r'C — сопротивления базы и тела коллектора;
CE (Vbe), CC (Vbc), CS (Vsc) — барьерные емкости переходов;
CEd (I1), CCd (I2) — диффузионные емкости эмиттера и коллектора.
Диффузионные емкости приближенно учитывают зависимости . Поэтому в эквивалентной схеме—действительные числа, не зависящие от частоты.
Модель не учитывает:
1) Зависимости N, I от токов I1, I2.
2) Эффект Эрли.
3) Распределенный характер rB, r'C .
Значительно более мощная модель — Гуммеля-Пуна.