- •202-2007 Методические указания
- •1.Теоретическое введение к лабораторным работам по полупроводникам
- •1.1. Образование энергетических зон
- •1.2. Заполнение энергетических зон электронами и электрические свойства твердых тел
- •1.3. Собственные полупроводники
- •1.4. Примесные полупроводники
- •2. Определение энергии активации примеси в полупроводнике
- •2.1 Теоретическое введение
- •2.2 Описание установки
- •3. Исследование вольт - амперной характеристики термосопротивления
- •3.1 Теоретическое введение
- •3.2 Описание установки
- •3.3 Порядок выполнение работы
- •3.4 Теоретический минимум
- •4. Изучение фотопроводимости в полупроводниках
- •4.1 Теоретическое введение
- •4.2 Описание установки
- •4.3 Порядок выполнение работы
- •4.4 Теоретический минимум
- •5.2 Описание установки
- •5.3 Порядок выполнения работы
- •5.4 Теоретический минимум
- •6. Определение закона затухания кристаллофосфора
- •6.1. Теоретическое введение
- •6.2 Описание установки
- •6.3 Порядок выполнения работы
- •6.4 Теоретический минимум
- •394026 Воронеж, Московский просп., 14
ГОУВПО «Воронежский государственный технический
университет»
Учебно-лабораторный центр кафедр общей физики
202-2007 Методические указания
к лабораторным работам по полупроводникам
по дисциплине «Общая физика»
для студентов всех специальностей
очной формы обучения

Воронеж 2007
Составители: канд. физ.мат. наук А.Г. Москаленко, канд. физ.мат. наук Н.В. Матовых, канд. техн. наук М.Н. Гаршина, канд. физ. мат. наук А.А. Долгачев, канд. физ. мат. наук Е.П. Татьянина.
УДК 53
Методические указания к лабораторным работам по полупроводникам по дисциплине «Общая физика» для студентов всех специальностей очной формы обучения / ГОУВПО «Воронежский государственный технический университет»; сост. А.Г. Москаленко, Н.В. Матовых, М.Н. Гаршина, А.А. Долгачев, Е.П. Татьянина, Воронеж, 2007. 39 с.
Методические указания содержат краткий теоретический материал и описание лабораторных работ по физике полупроводников, выполняемых в учебных лабораториях ВГТУ. Предназначены для студентов технического профиля второго курса всех специальностей очной формы обучения.
Табл. 6. Ил.20. Библиогр.: 6 назв.
Рецензент д-р. физ.-мат. наук, проф. А.В. Бугаков
Ответственный за выпуск зав. кафедрой,
профессор В.С. Железный
Печатается по решению редакционно-издательского совета Воронежского государственного технического университета
ГОУВПО
«Воронежский государственный
технический университет», 2007
1.Теоретическое введение к лабораторным работам по полупроводникам
1.1. Образование энергетических зон
О
Рис.1
Потенциальный барьер между атомами препятствует переходу электронов от одного атома к другому.По мере сближения атомов и образования из них кристаллической решетки каждый атом попадает во все возрастающее поле своих соседей, с которыми он взаимодействует. В результате этого, потенциальные кривые, отделяющие соседние атомы, частично налагаются друг на друга, что приводит к уменьшению толщины и высоты потенциального барьера (рис.2).
Электроны, для которых высота барьера оказывается ниже их энергетического уровня (электроны 3 s), получают возможность переходить от одного атома к другому. Это соответствует состоянию полного их обобществления в решетке. Совокупность таких свободных валентных электронов образует электронный газ. Вследствие резкого уменьшения толщины и высоты потенциального барьера свободу перемещения получают и электроны, расположенные на других атомных уровнях. Перемещение их происходит путем туннельного перехода сквозь барьеры, отделяющие соседние атомы. Чем ниже и тоньше барьеры, тем полнее осуществляется обобществление электронов.
Взаимодействие атомов при образовании кристаллической решетки приводит к еще одному важному результату – к расширению энергетических уровней атомов и превращению их в кристалле в энергетические зоны. В кристалле, состоящем из N атомов, каждый энергетический уровень расщепляется на N близко расположенных друг от друга подуровней, образующих энергетическую зону. Если к тому же учесть, что сами энергетические уровни в изолированном атоме являются (21+1) кратно вырожденными, то соответствующие им энергетические зоны будут состоять из N(21+1) подуровней, на которых будут находиться 2N(21+1) электронов. Ширина энергетической зоны не зависит от размеров кристалла, а определяется природой атомов, образующих кристалл, и строением кристалла.
Схематическая картина образования энергетических зон в кристалле из дискретных атомных уровней показана на рис.3.

Рис.3
Из рисунка видно, что каждому энергетическому уровню изолированного атома в кристалле соответствует зона разрешенных энергий. Зоны разрешенных энергий разделены запрещенными зонами.
С повышением энергии электрона в атоме ширина разрешенных зон увеличивается, а ширина запрещенных - уменьшается. Наибольшее влияние поле решетки оказывает на внешние валентные электроны атомов. Поэтому состояние этих электронов в кристалле претерпевает наибольшее изменение, а энергетические зоны, образованные из энергетических уровней этих электронов, являются наиболее широкими.
Д
ля
изображения энергетических зон кристалла
пользуются обычно упрощенной энергетической
схемой. Так как многие свойства кристаллов
(электрические, магнитные, оптические)
объясняются состоянием валентных
электронов, то на схеме изображают
только две зоны разрешенных энергий:
валентную зону, получившуюся как
результат расщепления последнего
заполненного уровня, и зону проводимости
— результат расщепления ближайшего
возбужденного уровня (рис.4).
