Технология СБИС / sbis / diffuz / diff_dbi

Диффузия из бесконечного источникаДиффузия из бесконечного источникаДиффузия из бесконечного источника описывается уравнением:

 ,         (1)

где N(x, t) - концентрация примеси на расстоянии x от поверхности,

N0 - постоянная поверхностная концентрация примеси,

D - коэффициент диффузии примеси при температуре диффузии,

t - продолжительность диффузии,

erfс(z) - дополнительная функция ошибок.

Начальные условия: N(x, 0)=0.

Граничные условия: N(0, t)=N0, N(x>>0, t)=0.

Металлургическим переходом называется глубина, на которой концентрация диффузионной примеси N(xj) равняется концентрации исходной примеси в подложке N(xj)= Nb.

Если тип легирующей примеси противоположен типу примеси подложки, то концентрацию легирующих элементов N(x)= |ND(x)-Nb| в области p-n перехода можно определить с помощью дополнительной функции ошибок. Зависимость концентрации легирующей примеси от параметра z= x/2(Dt)1/2 приведена на рис. 1.

                        Рис. 1.

На рис. 2 изображен профиль легирования из источника с постоянной концентрацией.

Рис. 2.