- •5. Структура материалов
- •6. Элементарные ячейки решеток Бравэ
- •7. Кристаллографические индексы Миллера (кубич. Структура).
- •8. Кристаллографические индексы Миллера-Бравэ (гексаг. Структура).
- •9. Кристаллохимический анализ решёток.
- •10. Способы представления сложных кристаллических структур.
- •11. Описание элементарной ячейки решёткой Бравэ и базисом.
- •12. Описание кристаллической структуры взаимопроникающими решётками
- •13. Описание в терминах плотнейших упаковок
- •14. Тетраэдрические и октаэдрические пустоты.
- •15. Кристаллическая структура типа алмаз
- •16. Кристаллическая структура типа сфалерит
- •17. Кристаллическая структура типа вюрцит
- •18.Классификация дефектов в кристаллах. Точечные дефекты.
- •27. Проводящие материалы
- •28. Проводящая разводка ис на основе Al
- •29.Проводящая разводка ис на основе меди.
- •30. Выпрямляющие контакты металл-п/п
- •31. Барьерные слои, конденсаторы, резисторы, контактные площадки ис
- •32. Разводка в корпусе ис. Применение проводящих материалов на основе оксидов.
- •33. Классификация полупроводниковых материалов
- •34. Классификация легирующих примесей. Назначение лег-их примесей.
- •37. Свойства кремния
- •40.Фоновые примеси в монокристаллическом кремнии.
- •41.Микродефекты монокристаллического кремния.
- •44. Свойства поликристаллического кремния
- •48. Влияние легирования на проводимость а-Si:н
- •51.Классификация диэлектрических материалов
- •52. Стекла.
- •53. Строение стекол.
32. Разводка в корпусе ис. Применение проводящих материалов на основе оксидов.
Применяется проводка из AL b Au ,d~ 25-50мкм. Для контактирования золотой проволки к контактной площадке используют термокомпрес и пайка, алюминиевой – ультразвуковая пайка При использовании алюмин прволки может происходить её обрыв непосредственно в месте контакта. Соединения из золотой проволки более надежны . Однако могут формироваться интерметаллические соединения в случае контакта золота с алюмин контактной площадкой , что приводит к разрушению контакта . Для предотвращения интеметалич соединений необходимо сводить к минимуму время контакта алюмин и золота . Применение проводящих материалов на основе оксидов. Подавляющее большинство чстых оксидов металлов в норм условиях яв-ся хорошим диэлектриком. Однако при этом окисл проводимость некоторых мет оксидов резко возрастает. Такие материалы можно использовать в качестве контактных и резистирующих слоев. Наибольший интерес представляет SnO2 . удельное сопротивление пленок зависит от степени отклонения от стехеометрического состава , может составлять 10 в минус 5 Om *cm. Кроме того , такие слои обладают высокой прозрачностью в видимой и инфракрасной частях спектра . Сочетание таких свойств , оптической прозрачности и высокой электрич проводимости обусловливает их применение в качестве проводящих покрытий в жидкокристаллических экранах , теевизионных трубках и т.д. Кроме диоксида олова для таких же целей используют In2O3 и сплавы оксидов In и олова.
33. Классификация полупроводниковых материалов
Полупроводники представляют собой очень многочисленный класс материалов. Самым существенным признаком полупроводника является электропроводность, меньшая, чем у проводников, и большая, чем у диэлектриков. Удельное электросопротивление полупроводников изменяется а пределах 10-2 -109 Ω*cм.
Полупроводниковыми свойствами могут обладать как неорганические, так и органические вещества. Основу электроники составляют неорганические полупроводники. Неорганические полупроводники делятся на твердые и жидкие. Твердые - на кристаллические, поликристаллические и аморфные. Кристаллические в свою очередь делятся на элементарные, химические соединения и твердые растворы. К элементарным относятся Si и Gе. К химическим соединениям - соединения типа A3B5, A2B6, A4B4, A4B6
Полупроводники являются основой активных приборов, способных усиливать мощность или преобразовывать один в другой различные виды энергии в малом объеме твердого тела без существенных потерь. Это обусловило широкое применение полупроводников в микроэлектронике и оптоэлектронике.
Примеси в полупроводниках
Различают примесные и собственные (т.е. беспримесные) полупроводники. В собственных полупроводниках переход электронов в зону проводимости осуществляется только из валентной зоны, поскольку в запрещенной зоне отсутствуют разрешенные уровни, вносимые примесными атомами. Носителями заряда в таком полупроводнике являются электроны в зоне проводимости и дырки в валентной зоне. Общее количество носителей в обеих зонах совпадает.
Понятие о чистоте материала относительно. В каждом веществе обязательно присутствуют малые количества многих примесей. Определение этих примесей зависит от уровня методов химического анализа.
Оценка чистоты вещества осуществляется двумя способами: по химическому составу и по физическим свойствам. Первый способ является прямым, а второй - косвенным. При физическом способе о суммарном содержании примесей судят по величине электросопротивления, подвижности носителей тока, диффузионной длине. Примеси в чистом кремнии не должны превышать уровня 10-7 ат.%. Большинство лабораторных методов не позволяет определить содержание примеси на уровне ниже 10-7 ат.%, поэтому значение уровня легирования получают, исходя из измерений удельного сопротивления тестовых слитков.
Существует большое количество методов глубокой очистки вещества. Как правило, для достижения необходимого предела очистки используются несколько стадий очистки разными методами.
Очистив полупроводниковый материал, далее его начинают снова "загрязнять", так как основным способом придания полупроводниковым материалам необходимых свойств является введение в них тех или иных примесей. Преднамеренное введение таких примесей называют легированием, соответствующие примеси - легирующими, а полупроводник - примесным.