- •Содержание
- •Введение
- •1. Теоретическая часть
- •Свойства исследуемого полупроводника
- •Применение исследуемого полупроводника
- •Получение исследуемого полупроводника
- •Расчётная часть
- •Выбор легирующих примесей
- •Расчёт зависимости ширины запрещенной зоны от температуры
- •Расчёт энергий донорного и акцепторного уровней
- •Расчёт эффективных масс
- •Расчёт эффективных плотностей состояний для валентной зоны и зоны проводимости
- •Расчёт зависимости положения уровня Ферми и концентрации носителей заряда от температуры
- •Заключение
- •Список использованных источников
Расчёт эффективных плотностей состояний для валентной зоны и зоны проводимости
Расчёт эффективных состояний для валентной зоны и зоны проводимости будем производить по формуле:
где
,
– постоянная
Планка
Тогда эффективная плотность состояний в зоне проводимости и валентной зоне:
Построим рассчитанные зависимости:
Рисунок 5 – Зависимость эффективных плотностей состояний в логарифмических осях
Эффективные плотности состояний для 300 К:
Расчёт зависимости положения уровня Ферми и концентрации носителей заряда от температуры
Для начала рассмотрим собственный полупроводник:
Уравнение электронейтральности для собственного полупроводника:
где n0 – концентрация электронов в зоне проводимости, p0 –концентрация дырок в валентной зоне
Подставляем концентрации носителей заряда:
Выражаем уровень Ферми из равенства:
Рисунок 6 – Зависимость положения уровня Ферми для собственного полупроводника
Зависимость показывает, что при повышении температуры до 700 К – полупроводник переходит в класс вырожденных.
Напишем уравнение электронейтральности, которое учитывает наличие донорной или акцепторной примеси:
где
- концентрации ионизированных донорной
и акцепторной примесей. По заданию
концентрации доноров и акцепторов
соответственно: Nd
= 7*1013
см-3
и Na
= 1015
см-3.
Концентрация акцепторов в 14 раз больше,
чем доноров, поэтому полупроводник
можно считать частично скомпенсированным.
Тогда уравнение электронейтральности
примет вид:
Основной тип носителей заряда в рассматриваемом полупроводнике – дырки, неосновной – электроны. Поэтому концентрация электронов – много меньше, чем дырок, тогда рассмотрим уравнение:
Найдём концентрации примесей:
где
-
фактор вырождения акцепторного уровня,
.
– положение акцепторного уровня.
Подставляем в равенство:
Рассмотрим приближения и численное решение:
Низкие T, p0 << ND, p0 < NA – ND:
Выражая положение уровня Ферми в программном обеспечении Mathcad:
Рост T, ND << p0 << NA:
Положение уровня Ферми в этом случае:
Построим полученные зависимости концентрации в координатах Аррениуса:
Рисунок 7 – Зависимости концентрации основных носителей от температуры при низкой температуре и при её росте
Исходя из рисунка – точка, разделяющая эти этапы Т = 1/0.069 = 14.5 К
Полная ионизация:
Рисунок 8 – Зависимость концентрации носителей заряда от температуры и переход в режим полной ионизации
В этом случае точка, разделяющая этапы ионизации: Т = 1/0.035 = 28.57 К
Тогда полный график зависимости концентрации основных носителей заряда от температуры на низкотемпературном участке:
Рисунок 9 – Зависимость концентрации основных зарядов от температуры в координатах Аррениуса
Концентрации неосновных носителей заряда:
Тогда,
с учетом области истощения, в которой
:
В эту область полупроводник переходит, когда пересекает точку: T = 1/0.0027 = 370.37 K
Рисунок 10 – Переход полупроводника в область истощения.
График зависимости концентрации основных и неосновных носителей заряда в частично скомпенсированном полупроводнике:
Рисунок 11 – Зависимость концентрации основных и неосновных носителей заряда от температуры для InAs
Рассмотрим положение уровня Ферми:
Как было сказано при рассмотрении концентраций, уровень Ферми имеет 2 формулы в разных областях, которые разделяют температуры T = 14.5 K, T=28.57 K и T=370 K:
Рисунок 12 – Зависимость уровня Ферми от температуры в частично компенсированном полупроводнике InAs
В области истощения примеси уровень Ферми ведёт себя как в собственном.
